一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，包括马座、支架、螺杆、气缸、超声波槽，马座安装在超声波槽顶端，气缸安装在超声波槽上，螺杆一端与气缸的气缸活塞杆铰接，螺杆另一端与马座活动连接，支架活动安装在马座上，所述支架包括支架板、支架杆I、支架杆II、支架杆III、支架框、摇杆，支架杆I、支架杆II、支架杆III的一端都固定在支架板上，支架杆I、支架杆II、支架杆III的另一端都架设在马座上，摇杆固定安装在支架板的底部，支架框固定安装在摇杆上。本实用新型的有益效果是：克服了磁体在清洗过程中存在死角无法清洗的缺陷，使磁体的清洗更深层，提高了电镀质量。
【专利说明】一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置。
【背景技术】
[0002]钕铁硼磁体内有多种金属元素，有的金属元素活性大，磁体在经过加工处理后，表面会存在一层厚厚的氧化层，为了保证磁体的电镀质量，需要用酸将这层氧化层去除，酸洗后磁体表面存在一层黑色浮灰，这层浮灰需要用超声波将其去除，同时配合磁体的横向或上下的线性移动以及转圈运动，有的还会配有水循环，效果才会好，这种固定运行的方式有缺陷，磁体表面会存在死角，有的地方会积浮灰，无法将磁体整体表面的浮灰除干净，这就为电镀质量留下了隐患。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，解决了磁体在清洗过程中存在死角的缺陷，为电镀质量提供了保证。
[0004]本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，包括马座、支架、螺杆、气缸、超声波槽，所述马座安装在所述超声波槽顶端，所述气缸安装在所述超声波槽上，所述螺杆一端与所述气缸的气缸活塞杆铰接，所述螺杆另一端与所述马座活动连接，所述支架活动安装在所述马座上。
[0005]进一步，所述支架包括支架板、支架杆1、支架杆I1、支架杆II1、支架框、摇杆，所述支架杆1、所述支架杆I1、所述支架杆III的一端都固定在所述支架板上，所述支架杆1、所述支架杆I1、所述支架杆III的另一端都架设在所述马座上，所述摇杆固定安装在所述支架板的底部，所述支架框固定安装在所述摇杆上。
[0006]进一步，所述支架框上设有多个不锈钢小框。
[0007]进一步，所述支架杆I远离所述支架板的一端位于所述螺杆上方且与所述螺杆接触。
[0008]本实用新型的有益效果是:克服了磁体在清洗过程中存在死角无法清洗的缺陷，使磁体的清洗更深层，提高了电镀质量。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型的钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置的主视图；
[0010]图2为本实用新型的钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置的俯视图。
[0011]附图中，各标号所代表的部件列表如下:
[0012]1、马座，2、螺杆，3、气缸，4、超声波槽，5、支架，6、支架杆I，7、支架板，8、摇杆，9、支架框，10、支架杆II，11、支架杆III。
【具体实施方式】[0013]以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。
[0014]如图1所示，本实用新型的钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置包括马座1、支架5、螺杆2、气缸3、超声波槽4，所述马座I固定安装在超声波槽4顶端上，支架5架设在马座I上，支架5可以在马座I上晃动，气缸3固定安装在超声波槽4上，螺杆2的一端与气缸3上的气缸活塞杆铰接，螺杆2的另一端与马座I活动连接。
[0015]如图1、图2所示，支架5包括支架杆16、支架杆1110、支架杆11111、支架板7、摇杆8、支架框9,所述支架杆16、支架杆II10、支架杆IIIll的一端都固定在支架板3上,支架杆16、支架杆II10、支架杆IIIll的另一端都架设在马座I上，3根支架杆的支架杆16远离支架板7的一端位于螺杆2上方且与螺杆2接触，气缸3带动螺杆2运动时，螺杆2促使与其接触的支架杆16运动，支架杆16带动整个支架5运动，支架框9位于支架板7下方的超声波槽4内，支架框9与摇杆8固定连接,摇杆8固定安装在支架板7的底部位于超声波槽4内，支架杆16带动支架板7运动,支架板7带动摇杆8做圆弧摆动,支架框9跟着摇杆8摆动，用于放置磁体的支架框9上设有多个不锈钢小框，磁体安放在小框内，支架板7可以防止支架框9在摆动过程中将清洗液飞溅到超声波槽4外。
[0016]其工作过程为:超声波槽4内的清洗液在超声波的作用下运动，同时，气缸3推动螺杆2向上运动，与螺杆2接触的支架杆16以支架杆IIlO为轴心随着螺杆2运动而向上方运动，支架杆16带动支架板7运动，支架板7带动支架板7下方的摇杆8运动，与摇杆8固定连接的支架框9也就随着运动，支架框9内的磁体也随着向上方做圆弧摆动，当气缸3运行到头后急速回收，安放在支架框9内的磁体在重力作用下急速下落，磁体与超声波槽4内的清洗液产生冲击，对钕铁硼磁体表面进行清洗，气缸3这样反复运行，支架框9内的磁体也反复与超声波槽4内的清洗液反复冲击，直到完成对磁体表面的清洗。
[0017]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，其特征在于，包括马座(I)、支架(5)、螺杆(2)、气缸(3)、超声波槽(4)，所述马座(I)安装在所述超声波槽(4)顶端，所述气缸(3)安装在所述超声波槽(4)上，所述螺杆(2) —端与所述气缸(3)的气缸活塞杆铰接，所述螺杆(2)另一端与所述马座(I)活动连接，所述支架(5)活动安装在所述马座(I)上，所述支架(5)包括支架板(7)、支架杆I (6)、支架杆II (10)、支架杆III (11 )、支架框(9)、摇杆(8)，所述支架杆I (6)、所述支架杆II (10)、所述支架杆III (11)的一端都固定在所述支架板(7)上，所述支架杆I (6)、所述支架杆II (10)、所述支架杆III (11)的另一端都架设在所述马座(I)上，所述摇杆(8)固定安装在所述支架板(7)的底部，所述支架框(9)固定安装在所述摇杆(8)上。
2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，其特征在于，所述支架框(9)上设有多个不锈钢小框。
3.根据权利要求1或2所述的一种钕铁硼磁体表面洁净度的处理装置，其特征在于，所述支架杆1(6)远离所述支架板(7)的一端位于所述螺杆(2)上方且与所述螺杆(2)接触。
【文档编号】B08B3/12GK203648913SQ201320793316
【公开日】2014年6月18日 申请日期:2013年12月4日 优先权日:2013年12月4日
【发明者】衣学勇, 闫坤, 李磊, 辛毅, 彭步庄 申请人:烟台正海磁性材料股份有限公司