摄像头芯片清洗设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种摄像头芯片清洗设备，包括蒸馏机和清洗机。蒸馏机包括冷凝装置、蒸馏槽、新液槽以及涡流泵，所述冷凝装置位于所述蒸馏槽上方，所述新液槽分别与所述冷凝装置和所述涡流泵通过连接管道相连接；以及清洗机包括清洗装置和冷凝回收装置，所述清洗装置的上部通过连接管道连接至所述涡流泵的出口，并于所述清洗装置的上部设有蒸气浴室，下部设有第一接口用于连接所述蒸馏槽，所述冷凝回收装置与所述蒸气浴室相连通，并通过连接管道与所述蒸馏机相连接。使用本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备，清洗摄像头芯片的洁净度高、清洗效果好、清洗全面、清洗效率高，并且因清洗剂回收循环利用而节约了成本。
【专利说明】摄像头芯片清洗设备
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及清洗设备领域，更具体地说，涉及一种摄像头芯片清洗设备。
【背景技术】
[0002] 现有摄像头芯片的清洗机主要有以下两种：
[0003] 离心式旋转清洗机，并以纯水为介质来进行清洗。清洗时，将摄像头芯片放入离心 式清洗机的转盘中，并以纯水冲洗摄像头芯片表面，使其表面脏污剥离摄像头芯片，同时清 洗机的转盘高速运转（转速在2000转/分钟至3000转/分钟之间）将脏污甩离摄像头芯 片，以达到清洁的目的；以及
[0004] 多槽式超声波清洗机，清洗时以纯水为介质。作业时，将摄像头放置于超声波清洗 机的第一槽粗洗，并以28KHZ或40KHZ的超声波作用于摄像头表面，使其表面脏污剥离摄像 头芯片，以达到清洁的目的；之后，再将摄像头芯片放置于第二槽精洗、第三槽漂洗（与第 一槽的清洗方式一样）、清洗完成后，将摄像头芯片再放入第四槽风干。
[0005] 离心式旋转清洗机的缺点：清洁效率不高，通常只有80%左右，且每次可清洗的 产品数量有限，每次只能洗6?8条产品；其次，离心式清洗机只能洗到摄像头表面的脏污， 对于摄像头芯片侧面、底面以及其它角落无法达到清洗的目的。
[0006] 多槽式超声波清洗机的缺点：可以实现大量清洗，但对于摄像头表面的油性脏污、 松香等残留不能有效却除，同样存在清洗效率低的问题（清洗效率只有70%左右），并且在 风干的时候摄像头表面会存在有大量水印。
[0007] 因此，为了解决现有技术中的上述不足，本实用新型提出了一种新的解决方案。 实用新型内容
[0008] 为了解决现有技术中的上述问题，本实用新型提供了一种摄像头芯片清洗设备。 根据本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备，清洗摄像头芯片的洁净度高、清洗效果好、清 洗全面、清洗效率高，并且因清洗剂回收循环利用而节约了成本。
[0009] 根据本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备，包括：
[0010] 蒸馏机，包括冷凝装置、蒸馏槽、新液槽以及涡流泵，所述冷凝装置位于所述蒸馏 槽上方，所述新液槽分别与所述冷凝装置和所述涡流泵通过连接管道相连接；以及 [0011] 清洗机，包括清洗装置和冷凝回收装置，所述清洗装置的上部通过连接管道连接 至所述涡流泵的出口，并于所述清洗装置的上部设有蒸气浴室，下部设有第一接口用于连 接所述蒸馏槽，所述冷凝回收装置与所述蒸气浴室相连通，并通过连接管道与所述蒸馏机 相连接。
[0012] 优选的，所述蒸馏机的外部和所述清洗机的所述蒸气浴室的外部均设有密封罩。
[0013] 可选的，所述冷凝装置包括冷凝管，或者包括冷凝管和冷却塔，所述冷凝管设置于 所述冷却塔的外部。
[0014] 进一步地，所述清洗机的密封罩的外部设有清洗提篮和运动滑块装置，所述运动 滑块装置设置于所述清洗装置的上部，并穿过所述蒸气浴室的内部，所述清洗提篮通过所 述运动滑块装置进出所述清洗装置。
[0015] 进一步地，所述清洗装置包括第一清洗槽，所述第一清洗槽的上部通过连接管道 连接至所述涡流泵的出口，所述第一接口设置于所述第一清洗槽的下部，所述运动滑块装 置设置于所述第一清洗槽的上部。
[0016] 更进一步地，所述清洗装置包括第一清洗槽和第二清洗槽，所述第一清洗槽的上 部通过连接管道连接至所述涡流泵的出口，所述第一接口设置于所述第二清洗槽的下部， 所述运动滑块装置设置于所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的上部，所述第一清洗槽与所 述第二清洗槽通过溢流管道相连接。
[0017] 再进一步地，所述清洗装置包括第一清洗槽、第二清洗槽和蒸气槽，所述第一清洗 槽的上部通过连接管道连接至所述涡流泵的出口，所述第一接口设置于所述蒸气槽的下 部，所述运动滑块装置设置于所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的上部，所述第一清洗槽 与所述第二清洗槽通过溢流管道相连接，所述第二清洗槽与所述蒸气槽通过溢流管道相连 接。
[0018] 优选的，所述清洗机还包括超声波控制器和超声波震子，所述超声波控制器位于 所述清洗机的密封罩的外部，并与所述超声波震子相连接，所述超声波震子均匀地分布在 所述第一清洗槽的底部，或者所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的底部。
[0019] 优选的，所述连接管道为不锈钢材质。
[0020] 可选的，所述冷凝回收装置包括压缩机、冷盘管和回收槽，所述压缩机与所述冷盘 管相连接，所述冷盘管位于所述回收槽的上方，所述回收槽的下方设有第二接口用于连接 所述蒸馈槽或所述新液槽。
[0021] 根据本申请提供的一种摄像头芯片清洗设备，能够带来至少以下有益效果之一：
[0022] (1)节约成本。本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备具有蒸馏机和清洗机，所述 清洗机内部还具有冷凝回收装置，所述冷凝回收装置与所述蒸馏机共同组成清洗剂的蒸馏 回收系统，用于将清洗剂进行回收，并可循环利用。
[0023] (2)清洗的摄像头芯片洁净度高、清洗全面。本实用新型提供的摄像头芯片清洗设 备具有清洗装置，所述清洗装置具有多个清洗槽和蒸气槽，能够实现摄像头芯片的多次清 洗和蒸气浴洗，且该清洗机还具有超声波清洗，更能够将摄像头芯片清洗全面彻底。
[0024] (3)清洗摄像头芯片的效率高。使用本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备，清洗 的数量一次可达15条，是现有技术中离心式水洗机的2倍以上，具有较高的工作效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0025] 图1示出了本实用新型实施例提供的摄像头芯片清洗设备的蒸馏机的结构示意 图；
[0026] 图2示出了本实用新型实施例提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的结构示意 图；以及
[0027] 图3示出了图2所示的摄像头芯片清洗设备的清洗装置和部分冷凝回收装置的结 构示意图。
【具体实施方式】
[0028] 下面参照附图详细介绍本实用新型的示例性实施例。提供这些示例性实施例的目 的是为了使得本领域普通技术人员能够清楚地理解本实用新型，并且根据这里的描述能够 实现本实用新型。附图和具体实施例不旨在对本实用新型进行限定，本实用新型的范围由 所附权利要求限定。
[0029] 图1示出了本实用新型实施例提供的摄像头芯片清洗设备的蒸馏机的结构示意 图；图2示出了本实用新型实施例提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的结构示意图。参 照图1和图2,该摄像头芯片清洗设备，包括蒸馏机和清洗机。
[0030] 所述蒸馏机，包括冷凝装置、蒸馏槽13、新液槽14以及涡流泵15,该冷凝装置位于 该蒸馏槽13上方，该新液槽14分别与所述冷凝装置和所述涡流泵15通过连接管道相连 接；以及
[0031] 所述清洗机，包括清洗装置和冷凝回收装置，该清洗装置的上部通过连接管道连 接至所述涡流泵15的出口，并于所述清洗装置的上部设有蒸气浴室24,下部设有第一接口 25用于连接上述蒸馏槽13,所述冷凝回收装置与上述蒸气浴室24相连通，并通过连接管道 与上述蒸馏机相连接。
[0032] 参照图1和图2,该蒸馏机外部和该清洗机的上述蒸气浴室24的外部均设有密封 罩3,用以防止清洗剂的挥发和过度损耗，使清洗剂回收得更彻底。
[0033] 清洗摄像头芯片的清洗可以用纯水为介质，也可以以氢氟醚为介质。本实用新型 提供的摄像头芯片清洗设备的介质最好选用氢氟醚为介质，因为氢氟醚在蒸馏后洁净度比 纯水更高，并且氢氟醚本身具有一定的溶解力，可以有效去除摄像头芯片表面的油性脏污 及松香，在洁净方面更胜一筹。针对氢氟醚的蒸发气化热小的特点，本实用新型提供的摄像 头芯片清洗设备的蒸馏机的外部和清洗机的蒸气浴室24的外部均应设有密封罩3,以利于 清洗剂氢氟醚的回收利用。
[0034] 参照图1，上述蒸馏机的冷凝装置包括冷凝管121，或者包括冷凝管121和冷却塔 122,所述冷凝管121设置于所述冷却塔122的外部。
[0035] 针对清洗剂氢氟醚可蒸馏回收的特点，本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备设 有蒸馏回收装置来实现清洗剂的基本净化循环使用。上述冷凝装置最好同时包括冷凝管 121和冷却塔122,这样可提高清洗剂的蒸馏回收效率。
[0036] 需要注意的是，本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的蒸馏机内的冷凝装置并 不局限于冷凝管121和冷却塔122,只要是可实现清洗剂冷凝回收的装置即可。
[0037] 上述蒸馏机还包括电控箱16,所述电控箱16设置于该蒸馏机的密封罩3的外部， 以方便工作人员对该蒸馏机进行操作。
[0038] 上述冷凝装置与上述新液槽14之间有一连通管道，用以将蒸馏的清洗剂冷凝回 收。另外，该冷凝装置与该新液槽14之间还设有一卸压管道17,用以防止冷凝装置内部的 水压过高。
[0039] 上述新液槽14其实就是一个用以收集蒸馏冷凝后的清洗剂的容器，上述涡流泵 15是现有技术中已有的，并且本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的蒸馏机内的用以输 送液体的泵不局限于涡流泵15,只要是可以实现输送清洗剂的泵即可。但是，本实用新型 中采用的涡流泵15具有很强的自吸力，距液面8米可以吸入液体。而且它的容积比离心泵 小，能迅速排出残留液体，大大缩短取样时间并保证采样的准确性，有效提高了工作效率。
[0040] 图3示出了图2所示的摄像头芯片清洗设备的清洗装置和部分冷凝回收装置的结 构示意图。参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机密封罩3的外 部设有清洗提篮271和运动滑块装置272,所述运动滑块装置272设置于所述清洗装置的上 部，并穿过所述蒸气浴室24的内部，所述清洗提篮271通过所述运动滑块装置272进出所 述清洗装置。
[0041] 上述清洗提篮271可以是任何能够进出上述清洗装置的，并能够储存摄像头芯片 但不储存清洗剂的即可。上述清洗提篮271设有一个即可，在能够通过上述运动滑块装置 272进出上述清洗装置的前提下使清洗提篮271的容量尽量大，以提高该清洗机的工作效 率。
[0042] 上述运动滑块装置272能够控制该清洗提篮271进出所述清洗装置，并能控制该 清洗提篮271停留在所需位置。
[0043] 另外，本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机还包括触控操作面板29， 该触控操作面板29位于该清洗机的密封罩3的外部，并可以方便工作人员操作该清洗机， 也可以通过该触控操作面板29对上述运动滑块装置272进行操控。
[0044] 参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的清洗装置包 括第一清洗槽21，所述第一清洗槽21的上部通过连接管道连接至所述涡流泵15的出口，所 述第一接口 25设置于所述第一清洗槽21的下部，所述运动滑块装置272设置于所述第一 清洗槽21的上部。
[0045] 参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的清洗装置包 括第一清洗槽21和第二清洗槽22,所述第一清洗槽21的上部通过连接管道连接至所述涡 流泵15的出口，所述第一接口 25设置于所述第二清洗槽22的下部，所述运动滑块装置272 设置于所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的上部，所述第一清洗槽21与所述第二清 洗槽22通过溢流管道相连接。
[0046] 参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的清洗装置包 括第一清洗槽21、第二清洗槽22和蒸气槽23,所述第一清洗槽21的上部通过连接管道连 接至所述涡流泵15的出口，所述第一接口 25设置于所述蒸气槽23的下部，所述运动滑块 装置272设置于所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的上部，所述第一清洗槽21与所 述第二清洗槽22通过溢流管道相连接，所述第二清洗槽22与所述蒸气槽23通过溢流管道 相连接。
[0047] 需要注意的是，上述清洗装置包括的装置组合并不局限于上述的例举，比如包括 一个清洗槽和一个蒸气槽的组合。当然，该清洗装置可以包括更多的清洗槽以提高清洗摄 像头芯片的洁净度，但是包括的清洗槽的个数越多清洗摄像头芯片的效率就越低。另外，上 述清洗装置最好包括蒸气槽23,虽然氢氟醚清洗剂具有蒸发气化热小的特点，但为了获得 更高的清洗摄像头芯片的洁净度，应运用蒸气槽23释放更多的氢氟醚蒸气，使摄像头芯片 可以进行蒸气浴洗。
[0048] 参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机还包括超声波 控制器281和超声波震子282,所述超声波控制器281位于所述清洗机的密封罩3的外部， 并与所述超声波震子282相连接，所述超声波震子282均匀地分布在所述第一清洗槽21的 底部，或者所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的底部。
[0049] 上述超声波控制器281和超声波震子282均为现有技术中已有的，本实用新型提 供的摄像头芯片清洗设备的清洗机也可以不包括超声波控制器281和超声波震子282,但 是该清洗机若包括超声波控制器281和超声波震子282,则可以全方位的对摄像头芯片进 行清洗，达到更好的清洗效果。
[0050] 参照图2和图3,本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的清洗机的冷凝回收装 置包括压缩机261、冷盘管262和回收槽263,所述压缩机261与所述冷盘管262相连接，所 述冷盘管262位于所述回收槽263的上方，所述回收槽263的下方设有第二接口 26用于连 接所述蒸馏槽13或所述新液槽14。
[0051] 上述冷凝回收装置主要是用于回收氢氟醚蒸气的，所以所述的冷凝回收装置不局 限于上述的压缩机261、冷盘管262和回收槽263,可以是其他可以冷凝回收氢氟醚蒸气的 任何装置。
[0052] 需要注意的是，上述回收槽263的下方设有的第二接口 26连接所述蒸馏槽13与 连接所述新液槽14的情况相比，第二接口 26连接新液槽14的工作效率要高于第二接口 26 连接蒸馏槽13,但是第二接口 26连接新液槽14情况下回收的清洗剂的洁净度不如第二接 口 26连接蒸馏槽13情况下回收的清洗剂的洁净度高。
[0053] 另外，上述蒸气槽23和上述回收槽263上均设有用于方便清洁其各自内部的开 □。
[0054] 最后需要注意的是，本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备中各个装置之间的上 述连接管道均为不锈钢材质，以提高该摄像头芯片清洗设备的使用寿命。
[0055] 下面参照图1至图3介绍一下本实用新型提供的摄像头芯片清洗设备的操作流 程：
[0056] a.作业前，将氢氟醚加入上述蒸馏机的蒸馏槽5中，经加热蒸馏后，产生洁净的液 体流入上述蒸馏机的新液槽14储存；
[0057] b.清洗液流向，经涡流泵15将上述新液槽14的液体送入上述清洗机的第一清洗 槽21，待其中液体装满之后，液体将溢流至第二清洗槽22,第二清洗槽22的液体装满之后， 液体将再溢流至上述清洗机的蒸气槽23,而该蒸气槽23的液体装满之后，将直接流入上述 蒸馏机的蒸馏槽5 ;
[0058] c.综上所述，理论上上述蒸馏机的新液槽14的液体最为洁净，其次为上述清洗机 的第一清洗槽21，再次为第二清洗槽22,而上述清洗机的蒸气槽23将在加热的作用下产生 蒸气；
[0059] d.清洗作业步骤。机器在加满氢氟醚并正常运转后，液体将按如上a，b项所述的 方向流动，以保证清洗液的洁净度。清洗时，将产品放入上述清洗机的第二清洗槽22进行 清洗，清洗完成后，清洗提篮271将上升至第二清洗槽22的液体表面，此时上述蒸气槽23 将源源不断的释放氢氟醚蒸气，使产品进入蒸气浴洗阶断，产品在完成蒸气浴洗后，再经运 动滑块装置272上升至第二清洗槽22顶部，在自然条件风干并完成清洗。第二清洗槽22 的清洗完成后，再将产品放入上述清洗机的第一清洗槽21进行清洗，清洗完成后，清洗提 篮271将上升至第一清洗槽21的液体表面，使产品进入蒸气浴洗阶断，产品在完成蒸气浴 洗后，再上升至第一清洗槽21的顶部，在自然条件风干并完成清洗。
[0060] 以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本 领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则 之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1. 一种摄像头芯片清洗设备，其特征在于，包括： 蒸馏机，包括冷凝装置、蒸馏槽（13)、新液槽（14)以及涡流泵（15)，所述冷凝装置位于 所述蒸馏槽（13)上方，所述新液槽（14)分别与所述冷凝装置和所述涡流泵（15)通过连接 管道相连接；以及 清洗机，包括清洗装置和冷凝回收装置，所述清洗装置的上部通过连接管道连接至所 述涡流泵（15)的出口，并于所述清洗装置的上部设有蒸气浴室（24)，下部设有第一接口 (25)用于连接所述蒸馏槽（13)，所述冷凝回收装置与所述蒸气浴室（24)相连通，并通过连 接管道与所述蒸馏机相连接。
2. 根据权利要求1所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述蒸馏机的外部和所 述清洗机的所述蒸气浴室（24)的外部均设有密封罩（3)。
3. 根据权利要求2所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述冷凝装置包括冷凝 管（121)，或者包括冷凝管（121)和冷却塔（122)，所述冷凝管（121)设置于所述冷却塔 (122)的外部。
4. 根据权利要求2所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述清洗机的密封罩（3) 的外部设有清洗提篮（271)和运动滑块装置（272)，所述运动滑块装置（272)设置于所述清 洗装置的上部，并穿过所述蒸气浴室（24)的内部，所述清洗提篮（271)通过所述运动滑块 装置（272)进出所述清洗装置。
5. 根据权利要求4所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述清洗装置包括第一 清洗槽（21)，所述第一清洗槽（21)的上部通过连接管道连接至所述涡流泵（15)的出口，所 述第一接口（25)设置于所述第一清洗槽（21)的下部，所述运动滑块装置（272)设置于所 述第一清洗槽（21)的上部。
6. 根据权利要求4所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述清洗装置包括第一 清洗槽（21)和第二清洗槽（22)，所述第一清洗槽（21)的上部通过连接管道连接至所述涡 流泵（15)的出口，所述第一接口（25)设置于所述第二清洗槽（22)的下部，所述运动滑块 装置（272)设置于所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的上部，所述第一清洗槽 (21)与所述第二清洗槽（22)通过溢流管道相连接。
7. 根据权利要求4所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述清洗装置包括第一 清洗槽（21)、第二清洗槽（22)和蒸气槽（23)，所述第一清洗槽（21)的上部通过连接管道 连接至所述涡流泵（15)的出口，所述第一接口（25)设置于所述蒸气槽（23)的下部，所述 运动滑块装置（272)设置于所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的上部，所述第 一清洗槽（21)与所述第二清洗槽（22)通过溢流管道相连接，所述第二清洗槽（22)与所述 蒸气槽（23)通过溢流管道相连接。
8. 根据权利要求6或7所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述清洗机还包括超 声波控制器（281)和超声波震子（282)，所述超声波控制器（281)位于所述清洗机的密封 罩（3)的外部，并与所述超声波震子（282)相连接，所述超声波震子（282)均匀地分布在所 述第一清洗槽（21)的底部，或者所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的底部。
9. 根据权利要求1至7中任一项所述的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述连接管 道为不锈钢材质。
10. 根据权利要求1的摄像头芯片清洗设备，其特征在于，所述冷凝回收装置包括压缩 机（261)、冷盘管（262)和回收槽（263)，所述压缩机（261)与所述冷盘管（262)相连接， 所述冷盘管（262)位于所述回收槽（263)的上方，所述回收槽（263)的下方设有第二接口 (26)用于连接所述蒸馏槽（13)或所述新液槽（14)。
【文档编号】B08B3/08GK203886852SQ201420288149
【公开日】2014年10月22日 申请日期:2014年5月30日 优先权日:2014年5月30日
【发明者】李伶文 申请人:东莞市郴电自动化科技有限公司