游乐场用磁悬空设备的制作方法

文档序号:19932821发布日期:2020-02-14 22:13阅读:203来源:国知局
游乐场用磁悬空设备的制作方法

本发明涉及游乐场的悬挂项目领域,具体涉及一种游乐场用磁悬空设备。



背景技术:

在多数游乐场和景区中,有大量类似浮桥、吊环、踏板等供人行走的悬挂设备。为了满足游客的刺激感,这些悬挂设备通常设置在高空中或者悬崖边上。

现有的悬挂设备通常包括有支撑用的主桁架,搭载游客用的承载架,承载架通常是直接通过紧固件安装在主桁架上,但是通过紧固件安装的悬挂设备并不是真正悬空设置的,游客的体验感较差。



技术实现要素:

为解决现有技术中,因采用紧固件连接主桁架和承载架的方式无法实现悬空的问题,本发明提供了一种游乐场用磁悬空设备,通过磁力连接主桁架和承载架,使承载架悬空在主桁架下方,能够满足游客的体验感。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案是:

一种游乐场用磁悬空设备,包括有支撑用的主桁架、悬挂在主桁架上的承载架;所述主桁架上设有第一磁体和超导体;所述承载架上设有吸引第一磁体用的第二磁体和配合超导体用的第三磁体;承载架通过超导体与第三磁体的作用力与主桁架悬空。

采用本发明的技术方案,通过主桁架上的第一磁体和超导体分别与承载架上的第二磁体和第三磁体相配合,利用第一磁体与第二磁体异极相吸引的特性,第三磁体和超导体之间的吸引力,将承载架悬挂在主桁架上。主桁架上的超导体为第二类超导体,由于处于第三磁体磁场中的超导体会出现磁通钉扎效应,使主桁架和承载架保持悬空距离,保证承载架稳定悬空在主桁架下方,安全性好。并且位于承载架上的游客悬置在高空或悬崖边,不与主桁架直接接触,刺激感更强,体验效果更佳。

优选的,所述第一磁体固定在主桁架中部;超导体设置在主桁架的前后两端。

由于游客分别从主桁架前后两端的进出承载架,在游客进入和离开承载架时,承载架与主桁架之间的作用力会因人体重力的介入而发生变化,承载架与主桁架之间的间隙会发生变化。此时处于第三磁体磁场中的超导体所处的磁场环境也会发生变化,由于磁通钉扎作用,超导体会产生阻止变化的力对抗改变,从而保证承载架与主桁架保持平衡。

本发明的有益效果为,能够使承载架悬空在主桁架上,游客的体验效果更佳,安全性好,使用方便。

附图说明

图1为主桁架与承载架间磁体分布的结构示意图。

图2为本发明悬挂吊桥时的结构示意图。

图3为图2的轴测图。

图4为磁悬挂方案的载荷分析计算表。

附图中涉及的附图标记和组成部分如下所示:

主桁架1、支撑架11、安全台12、承载架2、悬空架21、行走台22、第一磁体3、第二磁体4、第三磁体5、超导体6。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。

如图1所示,一种游乐场用磁悬空设备,包括有支撑用的主桁架1、悬挂在主桁架1上的承载架2;所述主桁架1上设有第一磁体3和超导体6;所述承载架2上悬置在所述主桁架1下方;承载架2上设有吸引第一磁体3用的第二磁体4和配合超导体6用的第三磁体5;超导体6与第三磁体5之间通过磁通钉扎作用,维持主桁架1与承载架2之间的悬空距离。

为保证游客进入和离开承载架2时的稳定性,所述第一磁体3固定在主桁架1中部;超导体6设置在主桁架1的前后两端。

如图2和图3所示,在本实施例中,主桁架1中包括有安装第一磁体3和超导体6用的支撑架11;支撑架11的两端为进出悬挂设备用的安全台12;所述承载架2处于两安全台12之间。所述承载架2包括有安装第二磁体4进和第三磁体5用的悬空架21和行走用的行走台22;悬空架21通过绳索吊起行走台22。在所述主桁架1上设有盛装液氮用的杜瓦;液氮将超导材料冷却,形成超导体6,本实施例中优选的超导体6优选第二类超导体,第一至第三磁体为永磁体。

为实现悬挂设备的多样化,在本实施例中,所述行走台22为整体的板状或杆状以及走廊的形式,所述悬空架21从两端将行走台22吊起。行走台22的样式也可以由多个留有间距的踩踏块组成,踩踏块之间通过绳索相连;所述悬空架21通过绳索吊起每个踩踏块。如现有的高空悬挂项目中的小木板、轮胎等部件组成,由于现有娱乐项目的样式较多,此处不逐一列出。

在本实施例中,承载架2和承载架2上的磁体总计约1吨。支撑架11与悬空架21的间距为10mm到20mm。在进行安全试验时,选用场冷高度为12mm的超导块做载荷试验,得出表1数据(见附图4)。在载荷增加后,承载架2会向下移动,永磁体之间的吸力会减少,超导体6与第三磁体5之间的吸力增加,其变化范围在控制之中,能够保证设备的安全性。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中的描述只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有其它变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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