一种低吸湿高透气相变面料制造装置的制作方法

本发明涉及功能面料制造设备领域，特别地，是一种低吸湿高透气相变面料制造装置。

背景技术：

功能性纺织品是指纺织品除具有自身的基本使用价值外还具有抗菌，除螨，防霉，抗病毒，防蚊虫，防蛀，阻燃，防皱免烫，拒水拒油，防紫外线，防电磁辐射，香味，磁疗，红外线理疗，负离子保健等等林林总总的功效中的一种或几种。

现有的低吸湿高透气的面料一般采用拒水的材料加上极细的空气来完成抗水低吸湿透气的功能，传统的工艺一般采用职务表面加工一层功能性的涂层来实现，现有的涂层工艺很容易涂布不均匀，形成孔隙分布不均，孔隙大小不一的缺点。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种低吸湿高透气相变面料制造装置，该低吸湿高透气相变面料制造装置能够均匀的涂层低吸湿高透气面料。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

该低吸湿高透气相变面料制造装置包括垂直布置的雾化腔，所述雾化腔均设在基布传输轨迹的下方，所述雾化腔内设置有雾化器并连通一离子发生器，所述雾化腔顶部设置有一字型的缝隙，所述缝隙垂直于基布的传输方向，所述缝隙相对于基布的另一侧对称设置有条形的极板，所述极板平行于所述缝隙，所述极板与下部对应的雾化腔内的离子发生器发生的带电气体极性相反，极板和雾化腔的组合与单雾化腔间隔设置，相邻的极板和雾化腔的组合与单雾化腔的极性相反。

作为优选，所述极板和雾化腔的组合与单雾化腔的数量不少于十个。

作为优选，所述雾化腔的缝隙两边设置有监测雾化气体的光电模块，所述光电模块控制所述雾化器的雾化量，使雾化控制在缝隙口使其不溢出缝隙，通过极板的吸引使雾化涂层至基布之上，同样的电场吸引力可以选择均匀的雾化涂层颗粒，可以使雾化涂层的颗粒均匀性得到保证。

作为优选，所述离子发生器发生二氧化碳离子，保持雾化腔内气体的唯一性，气体唯一分子量比较均匀，增加离子的均匀性。

作为优选，单独设置的所述雾化腔相对于基布的另一侧对称设置极板。

本发明的优点在于：

通过雾化腔反复的在基布上涂布正负离子的雾化涂层，使涂层以垂直方式按列增长，更利于垂直方向空间的生成，如此往复，最终生成高孔隙率高均匀度的涂层。

附图说明

图1是本低吸湿高透气相变面料制造装置的结构示意图。

图2是本低吸湿高透气相变面料制造装置的面料上的涂层改进示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

在本实施例中，参阅图1，该低吸湿高透气相变面料制造装置包括垂直布置的雾化腔200，所述雾化腔200均设在基布10传输轨迹的下方，所述雾化腔200内设置有雾化器并连通一离子发生器，所述雾化腔200顶部设置有一字型的缝隙210，所述缝隙垂直于基布10的传输方向，所述缝隙210相对于基布10的另一侧对称设置有条形的极板300，所述极板300平行于所述缝隙210，所述极板300与下部对应的雾化腔200内的离子发生器发生的带电气体极性相反，极板和雾化腔的组合100与单雾化腔200间隔设置，相邻的极板和雾化腔的组合100与单雾化腔200的极性相反。

所述极板和雾化腔的组合100与单雾化腔200的数量不少于十个，

所述雾化腔200的缝隙210两边设置有监测雾化气体的光电模块220，所述光电模块220控制所述雾化器的雾化量，使雾化控制在缝隙口使其不溢出缝隙。

如果实际雾化涂层的颗粒较大，可在另外的实施例中将单独设置的所述雾化腔相对于基布10的另一侧对称设置极板。

所述离子发生器发生二氧化碳离子。

上述实施例中的低吸湿高透气相变面料制造装置的运行方式：

所述雾化腔200内的雾化器将涂层变为雾化涂层，所述离子发生器将雾化涂层吹至缝隙口，并通过光电模块220控制于缝隙口，所述极板300将雾化涂层吸引至基布上，当进入下一个单独的雾化腔200时，基布10带电荷的涂层吸引单独的雾化腔200内的雾化涂层，由于带电荷的涂层的电荷与雾化腔200内的雾化涂层电荷相反，此时的雾化涂层优先落于带电荷的涂层区域，参阅图2，此时的涂层以垂直方式按列增长，更利于垂直方向空间的生成，如此往复，最终生成高孔隙率高均匀度的涂层。

所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围。

技术特征：

技术总结
本发明提供一种低吸湿高透气相变面料制造装置包括垂直布置的雾化腔，所述雾化腔均设在基布传输轨迹的下方，所述雾化腔内设置有雾化器并连通一离子发生器，所述雾化腔顶部设置有一字型的缝隙，所述缝隙垂直于基布的传输方向，所述缝隙相对于基布的另一侧对称设置有条形的极板，所述极板平行于所述缝隙，所述极板与下部对应的雾化腔内的离子发生器发生的带电气体极性相反，极板和雾化腔的组合与单雾化腔间隔设置，相邻的极板和雾化腔的组合与单雾化腔的极性相反，通过雾化腔反复的在基布上涂布正负离子的雾化涂层，使涂层以垂直方式按列增长，更利于垂直方向空间的生成，如此往复，最终生成高孔隙率高均匀度的涂层。

技术研发人员：陆鑫
受保护的技术使用者：常熟理工学院
技术研发日：2018.07.24
技术公布日：2018.11.06