染缸中残余物的清理机构的制作方法

本发明属于机械技术领域，涉及一种染缸中残余物的清理机构。

背景技术：

为了保证染缸能正常作业，需要定期清理染缸内的残余垃圾。

但是，清理过程费事、费力且劳动强度大，这样导致染缸清理十分不方便。

技术实现要素：

本发明的目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种使用方便且结构紧凑的染缸中残余物的清理机构。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：

一种染缸中残余物的清理机构，染缸包括内部为空腔且上部开口的壳体，其特征在于，本清理机构位于壳体外侧，包括本体和提篮组件，上述本体内部为空腔且上部开口，所述本体固连在壳体侧部且本体与壳体底部相连通，所述本体侧部具有出口且在出口处连接有阀门，上述提篮组件位于本体内。

本清理机构创造性的设置在染缸的壳体侧部，这样不占用空间且结构紧凑。

同时，壳体内的垃圾进入本体，由于本体内具有提篮组件，垃圾被收集在提篮组件处。需要清理垃圾时，直接将提篮组件由本体内取出即可。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述提篮组件包括底框、提手和过滤网，上述底框与本体内腔相匹配，上述过滤网固连在底框内，上述提手下端固连在底框上，提手上端位于本体开口处。

通过底框将过滤网稳定的固连在其内。

由于提手固连在底框上，操作者拉动提手就能将整个提篮组件方便的由本体内取出。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述提手呈u形且提手的u形端口处与上述底框相固连。

呈u形的提手能稳定的固连在底框上，同时，在拉动提手时，底框能均匀受力。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述本体上具有与壳体相连通的进口。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述进口位于底框上部。

这样的结构能保证垃圾能稳定的进入底框内的过滤网处。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述过滤网为金属网。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述本体底部处具有凹入的定位座，上述底框与定位座相匹配。

这样的结构能保证垃圾稳定的进入过滤网处，同时还能避免垃圾残留在本体底部。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述本体底部具有呈框状的定位框，所述定位框外侧固连在本体内侧处，定位框内侧与底框相匹配，上述定位框在本体底部形成上述的定位座。

定位框的设置其结构简单紧凑。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述提手下端固连在底框中部处。

在上述的染缸中残余物的清理机构中，所述提手下端固连在底框内侧处。

这样的结构能避免提手与本体内侧接触。

与现有技术相比，本染缸中残余物的清理机构由于垃圾残留在过滤网处，拉动提手后能带动具有垃圾的过滤网方便的由本体内脱离，从而方便的处理上述垃圾。在上述处理过程中不需要将本体以及壳体内的水排出，其处理过程比较方便。

同时，本体固连在壳体外侧，不占用额外空间，其结构紧凑，具有很高的实用价值。

附图说明

图1是本染缸中残余物的清理机构的剖视结构示意图。

图2是本染缸中残余物的清理机构的俯视结构示意图。

图中，1、壳体；2、本体；2a、进口；2b、出口；3、底框；4、提手；5、过滤网；6、定位框。

具体实施方式

如图1所示，染缸包括内部为空腔且上部开口的壳体1。

如图1和图2所示，本染缸中残余物的清理机构位于壳体1外侧，包括本体2和提篮组件，上述本体2内部为空腔且上部开口，所述本体2固连在壳体1侧部且本体2与壳体1底部相连通，所述本体2侧部具有出口2b且在出口2b处连接有阀门，上述提篮组件位于本体2内。

所述提篮组件包括底框3、提手4和过滤网5，上述底框3与本体2内腔相匹配，上述过滤网5固连在底框3内，上述提手4下端固连在底框3上，提手4上端位于本体2开口处。

所述提手4呈u形且提手4的u形端口处与上述底框3相固连。

所述本体2上具有与壳体1相连通的进口2a。

所述进口2a位于底框3上部。

所述过滤网5为金属网。

所述本体2底部处具有凹入的定位座，上述底框3与定位座相匹配。

所述本体2底部具有呈框状的定位框6，所述定位框6外侧固连在本体2内侧处，定位框5内侧与底框3相匹配，上述定位框6在本体2底部形成上述的定位座。

所述提手4下端固连在底框3中部处。

所述提手4下端固连在底框3内侧处。

本清理机构创自行的设置在染缸的壳体侧部，这样不占用空间且结构紧凑。

同时，壳体内的垃圾进入本体，由于本体内具有提篮组件，垃圾被收集在提篮组件处。需要清理垃圾时，直接将提篮组件由本体内取出即可。

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种染缸中残余物的清理机构，属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本染缸中残余物的清理机构，染缸包括内部为空腔且上部开口的壳体，本清理机构位于壳体外侧，包括本体和提篮组件，上述本体内部为空腔且上部开口，所述本体固连在壳体侧部且本体与壳体底部相连通，所述本体侧部具有出口且在出口处连接有阀门，上述提篮组件位于本体内。本染缸中残余物的清理机构稳定性高。

技术研发人员：陈伟忠
受保护的技术使用者：海宁伟龙印染有限公司
技术研发日：2018.11.06
技术公布日：2019.03.01