本技术涉及织物助剂施加机,尤其涉及一种助织物剂施加机上的离心式助剂施加系统。
背景技术:
1、离心式助剂施加系统是一种采用多个高速旋转的飞碟盘将助剂以雾状喷出的装置,传统离心式助剂施加系统的各飞碟盘均处于同一高度,工作时相邻飞碟盘之间的剂雾易相互干涉,导致剂雾喷出不均匀。
技术实现思路
1、本实用新型旨在改善传统离心式助剂施加系统剂雾喷出不均匀的缺陷。
2、为此本实用新型采用了如下技术方案:
3、助剂均匀施加系统,包括前面设有喷雾口、其余面均封闭的喷雾箱,喷雾箱内左右并排均匀设有若干高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘,若干高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘均盘口朝上且相互交替地设于喷雾口内侧,以使高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的盘口分别处于两个不同高度的水平面上;所有高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘均旋转设于喷雾箱内且均传动连接于同一动力部,以由该动力部驱动旋转而将流入各自盘内的助剂离心喷射出喷雾口外。
4、作为优选方案,每一高位雾化飞碟盘的外底部均设有a套件,a套件包括直立固定于高位雾化飞碟盘底面的长转轴、旋转套接于长转轴外围且固定设于喷雾箱底面的a轴套、以及固定套接于长转轴底部且底端外壁设有承托凸环的a传动齿轮。
5、每一低位雾化飞碟盘的外底部均设有b套件,b套件包括直立固定于低位雾化飞碟盘底面的短转轴、旋转套接于短转轴外围且固定设于喷雾箱底面的b轴套、以及固定套接于短转轴底部的b传动齿轮。
6、动力部包括电机、主动齿轮、从动齿轮和传动链,主动齿轮传动设于电机的输出轴上,电机和从动齿轮分设于所有高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的两边外侧,传动链从外围齿接主动齿轮、从动齿轮及所有a传动齿轮和b传动齿轮,以将所有高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘均传动连接于电机。
7、作为优选方案,喷雾箱呈长方体,包括开口朝前的c型箱体及封闭设于该c型箱体左右两端的端盖。
8、c型箱体的顶面前端设有下折边、底面前端设有上翘边,下折边和上翘边之间隔成喷雾口。
9、c型箱体的底面中部u形上拱,以在该c型箱体的内底面形成一个与喷雾口相平行的凸台、在c型箱体的外底面形成一道传动槽、在凸台内侧的c型箱体内底面形成一道内集水槽、在凸台外侧的c型箱体内底面形成一道外集水槽。
10、所有a套件均通过各自的a轴套固定设于凸台上对应设置的安装孔内,以使各自顶部的高位雾化飞碟盘均位于凸台的上方,并使各自底部的a传动齿轮均位于传动槽内。
11、所有b套件均通过各自的b轴套固定设于凸台上对应设置的安装孔内,以使各自顶部的低位雾化飞碟盘均位于凸台上方,并使各自底部的b传动齿轮均位于传动槽内。
12、两边端盖的外壁均设有托板,电机和从动齿轮分别设于两边的托板。
13、作为优选方案,喷雾口的内顶部设有上挡雾板,该上挡雾板设于所有高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的上方且两端分别固定于左右两边的端盖上,该上挡雾板的板面内地外高倾斜且内端低于所有高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的盘口、外端局部露出喷雾口外。
14、作为优选方案,喷雾口的内底部设有内下挡雾板和外下挡雾板,内下挡雾板和外下挡雾板均设于外集水槽的上方,其中,内下挡雾板侧立设置且两端分别固定于左右两边的端盖上、顶部低于高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的盘口,外下挡雾板底内顶外地倾斜设置且两端分别固定于两边的端盖上、顶部也低于高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的盘口。
15、作为优选方案,传动槽的底口设有底盖板。
16、作为优选方案,内集水槽和外集水槽的槽底均设有排水孔,每一排水孔均外接有排水管。
17、作为优选方案,每一高位雾化飞碟盘和低位雾化飞碟盘的正上方均设有向下流水的给水嘴,所有给水嘴均设于c型箱体内所设的同一横板上,横板的两端分别固定于两边的端盖上。
18、作为优选方案,c型箱体内设有一根水管,该水管的管壁与给水嘴一一对应地设有多个排水接口,每对给水嘴和排水接口之间均通过连接管相互连通,以将所有给水嘴均连通于水管。
19、本实用新型在喷雾箱内设置了两种不同高度的飞碟盘且高低飞碟盘之间相互交替设置,可避免相邻飞碟盘的剂雾相互干扰,从而将剂雾均匀喷出喷雾箱外。
1.助剂均匀施加系统,其特征在于:包括前面设有喷雾口(1.0)、其余面均封闭的喷雾箱(1),喷雾箱(1)内左右并排均匀设有若干高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3),若干高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)均盘口朝上且相互交替地设于喷雾口(1.0)内侧,以使高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的盘口分别处于两个不同高度的水平面上;所有高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)均旋转设于喷雾箱(1)内且均传动连接于同一动力部(4),以由该动力部(4)驱动旋转而将流入各自盘内的助剂离心喷射出喷雾口(1.0)外。
2.根据权利要求1所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:每一高位雾化飞碟盘(2)的外底部均设有a套件(5),a套件(5)包括直立固定于高位雾化飞碟盘(2)底面的长转轴(5.1)、旋转套接于长转轴(5.1)外围且固定设于喷雾箱(1)底面的a轴套(5.2)、以及固定套接于长转轴(5.1)底部且底端外壁设有承托凸环(5.31)的a传动齿轮(5.3);
3.根据权利要求2所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:喷雾箱(1)呈长方体,包括开口朝前的c型箱体(1.1)及封闭设于该c型箱体(1.1)左右两端的端盖(1.2);
4.根据权利要求3所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:喷雾口(1.0)的内顶部设有上挡雾板(7),该上挡雾板(7)设于所有高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的上方且两端分别固定于左右两边的端盖(1.2)上,该上挡雾板(7)的板面内地外高倾斜且内端低于所有高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的盘口、外端局部露出喷雾口(1.0)外。
5.根据权利要求3所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:喷雾口(1.0)的内底部设有内下挡雾板(8)和外下挡雾板(9),内下挡雾板(8)和外下挡雾板(9)均设于外集水槽(1.16)的上方,其中,内下挡雾板(8)侧立设置且两端分别固定于左右两边的端盖(1.2)上、顶部低于高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的盘口,外下挡雾板(9)底内顶外地倾斜设置且两端分别固定于两边的端盖(1.2)上、顶部也低于高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的盘口。
6.根据权利要求3所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:传动槽(1.14)的底口设有底盖板(10)。
7.根据权利要求3所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:内集水槽(1.15)和外集水槽(1.16)的槽底均设有排水孔,每一排水孔均外接有排水管(11)。
8.根据权利要求3所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:每一高位雾化飞碟盘(2)和低位雾化飞碟盘(3)的正上方均设有向下流水的给水嘴(12),所有给水嘴(12)均设于c型箱体(1.1)内所设的同一横板(13)上,横板(13)的两端分别固定于两边的端盖(1.2)上。
9.根据权利要求8所述的助剂均匀施加系统,其特征在于:c型箱体(1.1)内设有一根水管(14),该水管(14)的管壁与给水嘴(12)一一对应地设有多个排水接口(14.1),每对给水嘴(12)和排水接口(14.1)之间均通过连接管(15)相互连通,以将所有给水嘴(12)均连通于水管(14)。