专利名称：浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及浮法生产玻璃在线镀膜设备，特别适用于浮法线锡槽内玻璃镀硅膜，是对现行浮法在线玻璃镀膜设备所作的技术改进。
背景技术：
利用化学汽相淀积法，在浮法玻璃生产线锡槽内由几种气体试剂共同反应，给运动的热玻璃带上表面镀膜，中国专利94222610.0中公开了一种设备，该设备由设置于锡槽两侧的被称为大车和小车的移动架，将两水冷梁送入锡槽内，并对接构成横跨锡槽的运行轨道，在其运行轨道上配置具有U形导气通道的气体分布装置，使镀膜气体经过U形通道在运动的玻璃带表面形成稳定层流，而实现对玻璃上表面的镀膜。这种设备由于采用导梁在锡槽内对接结构，其横跨锡槽的导梁的稳定性难以保证，对接后容易变形，发送镀膜气体反应装置进出锡槽时安全性低。另外，由于气室形式、喷嘴结构、U形导气通道形式及锡槽内导梁、反应器装配梁隔热保护等方面存在一些设计问题，使玻璃镀膜的生产质量受到很大的影响。
实用新型内容本实用新型的目的在于针对上述问题，提供一种可使镀膜气体反应装置平稳安全地进出锡槽，且设备操作方便，工作状态稳定，镀膜有效生产周期长，产品质量好的浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备。
实现上述目的的技术方案是一种浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备，包括有设置于浮法生产线锡槽一侧的移动架、装配于移动架上的输送架和置于输送架导梁上的镀膜气体反应装置，其所述的移动架由配置平移机构、升降机构的底盘和设置于底盘上的在上部和下部分别设有齿形、V型配合双轨的框架组成；所述的输送架通过齿轮、槽轮装配在框架下部的配合双轨上，其配置于移动架上的导梁为横跨锡槽的整体双梁结构；所述的镀膜气体反应装置由配置行走轮的进气梁、排气梁和装配于进、排气梁上的具有U形气道的反应器组成；在移动架的上部通过齿轮、槽轮与框架上的配合双轨相配合并与镀膜气体反应装置相连接设置有镀膜气体反应装置驱动机构；与导梁相配置在锡槽的一侧设置有导梁支撑机构，其支撑机构的下部配置有升降调整机构，上部设置有导梁支撑辊和侧向定位卡紧机构及与镀膜气体反应装置相连接的气体反应装置固定调整机构。
本实用新型的技术方案还包括所述反应器的气室设置成矩形结构，与矩形气室相连接的喷气口设置成V形狭缝，与V形狭缝相连接的U形气道接口内装配有由分隔板夹置波形板组成的布气喷嘴；其U形气道的上游竖向段与水平段采用40°转折角光滑过渡相接，U形气道水平段与下游竖向段的连接采用光滑圆角过渡，其U形气道的负压进气口处设置活动式盖板，并配置负压气口缝隙调整垫块；在置于锡槽内的导梁的表面及镀膜气体反应装置的进、排气梁的表面分别设置有保温防护层。
本实用新型采用在具有平移和垂直升降功能的底盘上设置带齿型、V型轨道的框架构成本设备的主体移动结构，具有结构简单、运行平稳、操作控制可靠的特点。采用驱动齿轮、槽型轮和后压轮与移动架相配合及整体双梁导梁配合支撑机构的输送架结构，使横跨锡槽的导梁进出锡槽方便、刚度大、稳定性好，安全可靠。通过配置于移动架齿型、V型轨道上的驱动机构驱动镀膜气体反应装置进、出锡槽，运行稳定性好，调整控制方便，并通过反应装置与支撑机构固定调整件的配合，使反应器的定位准确，工作状态稳定可靠。通过对反应器气室、喷嘴和U形气道的优化结构设计，以及减小锡槽内设备部件温度变化对镀膜环境产生的影响，使镀膜反应气体通过玻璃带表面的层流平稳均匀，石墨块表面形成硅粉淀积物的可能性降低，镀膜环境温度得到有效保证，大大提高了镀膜设备稳定工作的可靠性和镀膜玻璃产品的质量。
图1是本浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备结构及与锡槽配置结构示意图；图2是移动架、输送架及镀膜气体反应装置配置结构示意图；图3是支撑机构、导梁及镀膜气体反应装置配置结构示意图；图4是镀膜气体反应装置结构示意图；图5是喷嘴结构示意图。
具体实施方式
结合附图对本实用新型的具体实施方式
进行说明如附图1、附图2给出的，本实用新型具有设置于浮法生产线锡槽一侧的移动架1和置于锡槽另一侧的支撑机构7，其移动架具有配置平移机构8和升降机构9的底盘及置于底盘上的框架，在框架的上部和下部分别设置有齿型、V型配合双轨14和12。在移动架1上设有配置拖链10的输送架3，其输送架的下部设置有输送架驱动机构11，上面设置有横跨锡槽的双梁结构导梁5，与导梁5相配置在移动架1的框架上设置有导梁限位托辊13和导梁后压辊2。在导梁5上设置有镀膜气体反应装置6。在移动架1的框架上经齿轮、槽轮与齿型、V型配合双轨14的配合安装有镀膜气体反应装置驱动机构4，该机构通过设置于机构下方的连接装置连接镀膜气体反应装置6。
如附图3给出的，本装置的导梁5横跨锡槽后，置于支撑机构7上部的一对支撑辊15上，并通过设置于两侧的手摇夹紧机构16控制侧向位置，置于导梁上的镀膜气体反应装置的前端设有连接件与支撑机构上部的固定调整机构17配合，通过手动操作可使气体反应装置准确定位及固定。支撑支机7的下部设置有变频调速升降机构18，可实现两侧分别升降调整。
如附图4、附图5所示，本镀硅膜设备的气体反应装置6由装配行走轮19的进气梁20、排气梁26和装配于进、排气梁上的反应器28组成。其反应器28的气室22设置成矩形结构，与矩形气室相连接的喷气口23设置成V形喷气狭缝结构，并配置连接U形气道的由隔板30和置于隔板间的波形板29组成的布气喷嘴21，用于使镀膜气体均匀地分布在热玻璃带上表面。其布气U形气道上游竖向段与水平段采用40°转折角光滑过渡相接，使通过上游U形气道的镀膜气体能够平稳地进入水平段，并形成与运动的玻璃带平行方向的稳定层流。其U形气道水平段与下游竖向段的连接采用光滑圆角过渡，用于避免反应气体在通道转折处形成硅粉淀积物，提高镀膜设备的工作稳定性和有效工作寿命。在U形气道的排气口处设置有活动式盖板24，并配置负压气口缝隙调整垫块25，用于根据镀膜生产实际情况方便地调整进气量，控制镀膜气体层流的稳定性。
本实用新型具体实施时，可在导轨5相对于锡槽内段的表面及镀膜气体反应装置6的进气梁20、排气梁26的表面包覆保温防护层27，用于减小设备温度变化对镀膜环境温度的影响，提高镀膜玻璃产品的质量。
本实用新型在反应器排气口处设置有气道清扫装置，通过气动装置控制定期进行气道清扫，以保证反应器排气口的通畅。
权利要求1.一种浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备，包括有设置于锡槽一侧的移动架(1)、装配于移动架上的输送架(3)和置于输送架导梁(5)上的镀膜气体反应装置(6)，其特征是所述的移动架(1)由配置平移机构(8)、升降机构(9)的底盘及置于底盘上的在上部和下部分别设有齿型、V型配合双轨(14)、(12)的框架组成；所述的输送架(3)通过齿轮、槽轮装配在框架下部的配合双轨(12)上，其输送架上的导梁(5)为横跨锡槽的整体双梁结构；所述的镀膜气体反应装置由配置行走轮(19)的进气梁(20)、排气梁(26)及装配于进、排气梁上的具有U形气道的反应器(28)组成；在移动架(1)的上部通过齿轮、槽轮与框架上的配合双轨(14)相配合并与镀膜气体反应装置相连接设置有镀膜气体反应装置驱动机构(4)；与导梁(5)相配置在锡槽的一侧设置有导梁支撑机构(7)，其支撑机构(7)的下部配置有升降调整机构(18)，上部设置有导梁支撑辊(15)和侧向定位卡紧机构(16)及与镀膜气体反应装置相连接的气体反应装置固定调整机构(17)。
2.根据权利要求1所述的浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备，其特征是所述的反应器(28)的气室(22)设置成矩形结构，与矩形气室相连接的喷气口(23)设置成V形狭缝，与V形狭缝相连接的U形气道接口内装配有由分隔板(30)夹置波形板(29)组成的布气喷嘴(21)；其U形气道的上游竖向段与水平段采用40°转折角光滑过渡相接，U形气道水平与下游竖向段的连接采用光滑圆角过渡，在U形气道的负压进气口处设置有活动式盖板(24)，并配置负压气口缝隙调整垫块(25)。
3.根据权利要求1所述的浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备，其特征是在导梁(5)置于锡槽内段的表面及镀膜气体反应装置(6)的进、排气梁的表面分别设置有保温防护层(27)。
专利摘要浮法线锡槽内玻璃镀硅膜的设备，主要由设置于锡槽一侧的移动架、另一侧的支撑机构和装配于移动架上的输送架及置于输送架导梁上的镀膜气体反应装置组成。其移动架由配置平移、升降机构的底盘和置于底盘上设置有齿型、V型配合双轨的框架构成；其支撑机构具有升降调整机构、导梁支撑辊和气体反应装置定位拉紧机构；具有横跨锡槽导梁的输送架通过齿轮、槽轮装配于框架的配合双轨上，镀膜气体反应装置由配置行走轮的进、排气梁及配置于梁上的反应器组成；与气体反应装置相连接的驱动机构通过齿轮、槽轮装配在框架上部的配合双轨上。本实用新型与现行的同类设备相比较，具有操作方便，镀膜气体反应装置进出锡槽平稳安全、工作稳定可靠、镀膜质量好的特点。
文档编号C03C17/245GK2630244SQ0326475
公开日2004年8月4日 申请日期2003年6月23日 优先权日2003年6月23日
发明者郭云城, 李德俊 申请人:李德俊