专利名称：一种显示器用之玻璃基板组成的制作方法
技术领域：
本发明系涉及硼铝硅酸盐玻璃配方，它可应用于生产平面显示器玻璃基板之玻璃，尤指可应用于生产液晶显示器(LCD)玻璃基板之玻璃。
背景技术：
LCD是依靠外部光源照明的平面显示装置，主要由二片玻璃基板及液晶等构成。依照其画素驱动方式，可分为被动矩阵寻址方式及主动矩阵寻址方式二种。
目前在市场上常见的LCD有超扭转向列型(STN)及薄膜晶体管型(TFT)，其中STN型属于被动矩阵寻址方式，而TFT型属于主动矩阵寻址方式，由于显示效果比STN型更好，尤为市场上的主流。TFT型又常被分为非晶硅型(a-Si)及更先进的多晶硅型(poly-Si)等二种构型。
LCD用的玻璃基板配合上述技术进程，而有种种组成、制造方式及特性上的区别。STN型一般使用碱石灰玻璃，TFT型则使用无碱硼铝硅酸盐玻璃。
美国专利第5,811,361号、第5,851,939号、第6,329,310号等提到了作为TFT型LCD用之基板玻璃所必须具备的基本物理特性第一、为了减少基板玻璃在TFT制程温度下，因热胀冷缩造成的热震破坏，玻璃的热膨胀系数必须够低，一般需低于40×10-7/℃。
第二、应减少基板玻璃在TFT制程温度下，因再热致密化引起的体积收缩和尺寸不安定性。具体要求是玻璃的应变点温度应高于650℃。
第三、为了因应大尺寸基板玻璃轻量化的要求，玻璃的密度必须够低，一般需低于2.6(g/cm3)。
为了生产符合上述基本需求的基板玻璃，现今常以熔融溢流法及浮式法等成型方式制造基板玻璃。由于成型方式的需求，衍生出对基板玻璃特性的进一步要求。
第一、基板玻璃的液相温度必须够低，以免在成型过程中失透或析晶，影响到玻璃的外观品质。液相温度一般需低于1200℃。
第二、基板玻璃的气泡含量必须减少，以免在TFT制程中造成断路等缺陷，或影响到玻璃的外观品质。一般希望每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个。
随着多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品需求的扩大，为了因应poly-Si制程更高的精密度，对基板玻璃基本物理特性的要求，除了上述已经提及的部分之外，再衍生出以下的要求第一、热膨胀系数继续降低，一般需低于34×10-7/℃，除了减少热震破坏，更希望与硅质驱动组件接近，以便日后驱动组件电路直接制作在基板上(chip-on-glass)时，减少玻璃和硅质间因热膨胀系数失配引起的电路破坏。
第二、poly-Si TFT制程中，光学微影的精密度提升，电路线径变窄，因此应变点温度应再提高，最好高于665℃，以减少因再热致密化引起的体积收缩和尺寸不安定性，减轻曝光显影过程中的对焦失准现象。
第三、为因应第五世代以上(1100mm×1250mm)玻璃基板的制造、搬运等的要求，玻璃基板需尽可能轻量化，如此玻璃的密度需降低，一般需低于2.44(g/cm3)。
发明内容
有鉴于TFT-LCD玻璃基板所需要的基本物理特性如玻璃的热膨胀系数需低于40×10-7/℃、玻璃的应变点温度应高于650℃、玻璃的密度必须低于2.6(g/cm3)、液相温度需低于1200℃、每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个等，本发明揭露出符合以上要求的一种新的玻璃组成。
为因应如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程的需求，符合更严苛物理特性的要求如热膨胀系数低于34×10-7/℃、应变点温度高于665℃、玻璃的密度低于2.44(g/cm3)等，本发明亦揭露出符合以上要求的另一种新的玻璃组成。
本发明之技术任务，系在提供一种可应用于显示器玻璃基板的玻璃，其组成成份之重量百分比分别为56.0％至64.0％之氧化硅，14.0％至19.0％之氧化铝，7.5％至14.0％之氧化硼，0.0％至4.0％之氧化镁，3.0％至10.0％之氧化钙，0.0％至6.0％之氧化锶，0.0％至10.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间，氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至10.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至13.0％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。
本发明系在提供一种可应用于显示器玻璃基板之玻璃组成，该玻璃系由下列成份，依一定之重量百分比组合而成(1)重量百分比56.0％至64.0％之氧化硅(SiO2)；(2)重量百分比14.0％至19.0％之氧化铝(Al2O3)；(3)其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％；(4)重量百分比7.5％至14.0％之氧化硼(B2O3)；(5)其中氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间；
(6)重量百分比0.0％至4.0％之氧化镁(MgO)；(7)重量百分比3.0％至10.0％之氧化钙(CaO)；(8)其中氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至10.0％之间；(9)重量百分比0.0％至6.0％之氧化锶(SrO)；(10)重量百分比0.0％至10.0％之氧化钡(BaO)；(11)其中氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至13.0％之间；(12)重量百分比0.0％至1.0％之氧化锌(ZnO)；(13)重量百分比0.0％至1.0％之氧化锆(ZrO2)；(14)重量百分比0.0％至2.0％之氧化砷(AS2O3)；(15)重量百分比0.0％至1.0％之氧化锑(Sb2O3)；(16)重量百分比0.0％至1.0％之氧化锡(SnO2)；(17)重量百分比0.0％至1.0％之氧化铈(CeO2)；(18)其中氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。
依本发明所揭露的玻璃组成，当仅具有TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性时，其组成成份之重量百分比分别为56.0％至60.0％之氧化硅，14.0％至18.0％之氧化铝，7.5％至14.0％之氧化硼，0.0％至2.0％之氧化镁，3.0％至7.0％之氧化钙，1.0％至6.0％之氧化锶，2.0％至10.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间，氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至7.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于4.0％至13.0％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。该等组成的玻璃，其热膨胀系数低于40×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度高于650℃，密度低于2.6(g/cm3)，液相温度低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个，满足TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性。
以下将说明上述该等组成限制的原因。
氧化硅系玻璃网络形成之主体，其较佳之含量为56.0％至60.0％，若氧化硅含量少于56.0％，所制作出之玻璃热膨胀系数太高，且玻璃将容易失透。若氧化硅含量多于60.0％，将导致玻璃之熔解温度太高，致其很难以一般熔解炉制造，且所制成之玻璃也容易失透。
氧化铝系用以提高玻璃结构之强度，其较佳之含量系在14.0％至18.0％间，若氧化铝含量少于14.0％，玻璃将容易失透，也容易受到外界水气或化学试剂之侵蚀，另若氧化铝含量多于18.0％，亦将导致玻璃之熔解温度太高，而不利于以一般熔解炉制造。
氧化硅和氧化铝共同构成玻璃网络结构的主体，其较佳总和应超过71.0％，若氧化硅与氧化铝的总和少于71.0％，玻璃结构将不够安定，容易失透，也容易受到外界水气或化学试剂之侵蚀。
氧化硼之作用系作为助熔剂，主要系用以降低熔制玻璃时玻璃膏之黏度，其较佳之含量为7.5％至14.0％，若氧化硼含量少于7.5％，其助熔剂效果即无法充分发挥，若氧化硼含量多于14.0％，由于氧化硼的挥发，不易制成均质的玻璃。
氧化铝和氧化硼对玻璃黏度和熔解温度都有极大影响，因此其比例范围应有限制。氧化铝与氧化硼的较佳比例介于1.0与2.1之间，若比例低于1.0，玻璃膏之黏度太低，玻璃基板将不易成型。若比例高于2.1，玻璃膏之黏度太高，不利于以一般熔解炉制造。
氧化镁系用以降低熔制玻璃时玻璃膏之黏度，以减少其中之气泡或不纯物之含量，及调整玻璃成型性。其较佳之含量系介于0.0％至2.0％间，若氧化镁含量多于2.0％，玻璃将容易失透。
氧化钙之作用亦系促进玻璃之熔解，及调整玻璃成型性。其较佳含量系介于3.0％至7.0％间，若氧化钙含量少于3.0％，将无法有效降低玻璃之黏度，若氧化钙含量多于7.0％，玻璃将容易失透，且热膨胀系数会大幅提高，不利于后续制程之应用。
氧化镁与氧化钙之作用系作为助熔剂，及调整玻璃成型性。氧化镁与氧化钙之较佳之总含量系介于3.0％至7.0％间，若总含量少于3.0％，将无法发挥促进玻璃熔解之效果，若总含量多于7.0％，将导致玻璃失透和成型不良，且热膨胀系数会太高。
氧化锶之作用在作为助熔剂，及防止玻璃失透，其较佳含量系在1.0％至6.0％间，若氧化锶含量少于1.0％，将无法发挥助熔剂之效果，且玻璃将容易失透，若氧化锶含量多于6.0％，玻璃密度会太高，不利于产品之应用。
氧化钡之作用与氧化锶相似，其较佳之含量为2.0％至10.0％，若氧化钡含量少于2.0％，将无法发挥助熔剂之效果，且玻璃将容易失透，若氧化钡含量多于10.0％，玻璃密度会太高，且应变点会大幅降低。
氧化锶与氧化钡之作用系作为助熔剂，及防止玻璃失透。其较佳之总含量系介于4.0％至13.0％间，若总含量少于4.0％，将无法发挥促进玻璃熔解之效果，且玻璃将容易失透，若总含量多于13.0％，将导致玻璃密度会太高。
氧化锌亦系用以促进玻璃之熔解，其较佳含量为0.0％至1.0％，若氧化锌含量多于1.0％，玻璃将容易失透。
氧化锆亦系用以降低玻璃之黏度，以促进玻璃之熔解作用，其较佳之含量系介于0.0％至1.0％，若氧化锆含量多于1.0％，玻璃将容易失透。
氧化砷、氧化锑、氧化锡与氧化铈的作用是玻璃熔解时的澄清剂或除泡剂，其较佳之总含量为0.3％至2.0％，若总含量少于0.3％，其澄清剂或除泡剂效果即无法充分发挥，若总含量多于2.0％，将导致玻璃变黄或发黑，影响透光度。
氧化砷较佳之含量系在0.0％至2.0％间，若氧化砷含量多于2.0％，将导致玻璃发黑。
氧化锑较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化锑含量多于1.0％，也将导致玻璃发黑。
氧化锡较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化锡含量多于1.0％，将导致玻璃失透。
氧化铈较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化铈含量多于1.0％，将使玻璃变黄，影响透光度。
依本发明所揭露的玻璃组成，当具有如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性时，其组成成份之重量百分比分别为60.0％至64.0％之氧化硅，15.0％至19.0％之氧化铝，9.5％至13.0％之氧化硼，0.0％至4.0％之氧化镁，3.0％至10.0％之氧化钙，0.0％至3.0％之氧化锶，0.0％至2.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过76.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.3与1.8之间，氧化镁、氧化钙之总和介于5.0％至10.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至4.5％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。该等组成的玻璃，其热膨胀系数低于34×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度高于665℃，密度低于2.44(g/cm3)，液相温度低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个，满足如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性。
以下将说明上述该等组成限制的原因。
氧化硅系玻璃网络形成之主体，其较佳之含量为60.0％至64.0％，若氧化硅含量少于60.0％，所制作出之玻璃热膨胀系数太高，且玻璃将容易失透。若氧化硅含量多于64.0％，将导致玻璃之熔解温度太高，致其很难以一般熔解炉制造，且所制成之玻璃也容易失透。
氧化铝系用以提高玻璃结构之强度，其较佳之含量系在15.0％至19.0％间，若氧化铝含量少于15.0％，玻璃将容易失透，也容易受到外界水气或化学试剂之侵蚀，另若氧化铝含量多于19.0％，亦将导致玻璃之熔解温度太高，而不利于以一般熔解炉制造。
氧化硅和氧化铝共同构成玻璃网络结构的主体，其较佳总和应超过76.0％，若氧化硅与氧化铝的总和少于76.0％，玻璃结构将不够安定，容易失透，也容易受到外界水气或化学试剂之侵蚀。
氧化硼之作用系作为助熔剂，主要系用以降低熔制玻璃时玻璃膏之黏度，其较佳之含量为9.5％至13.0％，若氧化硼含量少于9.5％，其助熔剂效果即无法充分发挥，若氧化硼含量多于13.0％，由于氧化硼的挥发，不易制成均质的玻璃。
氧化铝和氧化硼对玻璃黏度和熔解温度都有极大影响，因此其比例范围应有限制。氧化铝与氧化硼的较佳比例介于1.3与1.8之间，若比例低于1.3，玻璃膏之黏度太低，玻璃基板将不易成型。若比例高于1.8，玻璃膏之黏度太高，不利于以一般熔解炉制造。
氧化镁系用以降低熔制玻璃时玻璃膏之黏度，以减少其中之气泡或不纯物之含量，及调整玻璃成型性。其较佳之含量系介于0.0％至4.0％间，但若氧化镁含量多于4.0％，玻璃将容易失透。
氧化钙之作用亦系促进玻璃之熔解，及调整玻璃成型性。其较佳含量系介于3.0％至10.0％间，若氧化钙含量少于3.0％，将无法有效降低玻璃之黏度，若氧化钙含量多于10.0％，玻璃将容易失透，且热膨胀系数会大幅提高，不利于后续制程之应用。
氧化镁与氧化钙之作用系作为助熔剂，及调整玻璃成型性。氧化镁与氧化钙之较佳之总含量系介于5.0％至10.0％间，若总含量少于5.0％，将无法发挥促进玻璃熔解之效果，若总含量多于10.0％，将导致玻璃失透和成型不良，且热膨胀系数会太高。
氧化锶之作用在作为助熔剂，及防止玻璃失透，其较佳含量系在0.0％至3.0％间，若氧化锶含量多于3.0％，玻璃密度会太高，不利于产品之应用。
氧化钡之作用与氧化锶相似，其较佳之含量为0.0％至2.0％，若氧化钡含量多于2.0％，玻璃密度会太高，且应变点会大幅降低。
氧化锶与氧化钡之作用系作为助熔剂，及防止玻璃失透。其较佳之总含量系介于0％至4.5％间，若总含量多于4.5％，将导致玻璃密度会太高。
氧化锌亦系用以促进玻璃之熔解，其较佳含量为0.0％至1.0％，若氧化锌含量多于1.0％，玻璃将容易失透。
氧化锆亦系用以降低玻璃之黏度，以促进玻璃之熔解作用，其较佳之含量系介于0.0％至1.0％，若氧化锆含量多于1.0％，玻璃将容易失透。
氧化砷、氧化锑、氧化锡与氧化铈的作用是玻璃熔解时的澄清剂或除泡剂，其较佳之总含量为0.3％至2.0％，若总含量少于0.3％，其澄清剂或除泡剂效果即无法充分发挥，若总含量多于2.0％，将导致玻璃变黄或发黑，影响透光度。
氧化砷较佳之含量系在0.0％至2.0％间，若氧化砷含量多于2.0％，将导致玻璃发黑。
氧化锑较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化锑含量多于1.0％，也将导致玻璃发黑。
氧化锡较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化锡含量多于1.0％，将导致玻璃失透。
氧化铈较佳之含量系在0.0％至1.0％间，若氧化铈含量多于1.0％，将使玻璃变黄，影响透光度。
本发明在实施时，系先将前述组成物，均匀混合后，再将混合原料导入一玻璃熔解槽，俟熔解成玻璃膏后，将其温度降低到成型所需之温度范围，予以成型，制作出预定厚度之玻璃基板，嗣再将玻璃基板徐缓冷却，即可切割加工成液晶显示器用之玻璃基板成品。
具体实施例方式
现以实施例形式说明本发明的具体实施方式
及其与现有技术的对比效果。
在表一、表二(例1至例10)显示根据本发明所制成玻璃样品的组成及特性，即本发明的实施例。其中表一系对应于仅具有TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性时，依据本发明所揭露的玻璃组成范围。表二系对应于尚具有如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性时，依据本发明所揭露的玻璃组成范围。在表三、表四(例11至例16)显示不同于本发明所制成玻璃样品的组成及特性，即本发明的比较例。其中表三系表一的对照组，表四系表二的对照组。
在表一至表四的玻璃样品，均系以如下方法制造；各组成成份系取常用原料，依对应之重量百分比加以均匀混合，再以1600～1650℃之温度，在白金坩埚内熔解6至8小时，熔解过程中，并以白金搅拌棒搅拌2小时，以促进玻璃中各组成成份之均匀性，然后将玻璃膏倒入金属模板中冷却成型为板状。此时，针对各玻璃样品进行检测，可分别得到热膨胀系数、应变点、密度、液相温度、气泡数目等特性值，并分别表列在表一至表四之对应字段上。
本发明在检测各玻璃样品之各特性值时，主要系依下列方法进行检测(1)热膨胀系数(单位10-7/℃)之检测系参照美国材料试验协会(2)(American Society for Testing and Materials，以下简称ASTM)所订定之编号E228-95检测标准，以机械推杆式热膨胀仪及氧化铝为参考标准，加热并量测玻璃样品之伸长量，温度范围自室温量到玻璃不再伸长，甚至因软化而收缩为止之温度，升温速率为每分钟3℃。热膨胀系数由30至400℃之玻璃伸长量计算得到。
(3)应变点(单位℃)之检测系参照ASTM C598-93，加热并量测玻璃样品之变形率与温度之关系，以特定变形率所对应之温度作为应变点。
(4)密度(单位g/cm3)之检测系参照ASTM C729-75，取约2公克重不含气泡之块状玻璃，以玻璃样品在比重液中浮沉之情形量测其密度。
(5)玻璃液相温度(单位℃)之检测系根据ASTM C829-81，将小于850μm之玻璃屑放入白金皿中，置于梯度炉24小时后，以显微镜测量玻璃之结晶情形，判定其液相温度而得。
(6)气泡产生数(单位个/公斤)将板状玻璃样品研磨、抛光后，在显微镜下观察其内部气泡数，计算泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目，再以玻璃样品重量换算为每公斤玻璃的气泡数。表一、表二、表三及表四之气泡产生数对应字段中，凡以○标记者，表示该组成之样品，其气泡产生数在10个/公斤以下，属于良好的情况；凡以△标记者，表示该组成之样品，其气泡产生数在10～50个/公斤之间，属于中等的情况凡以×标记者，表示该组成之样品，其气泡产生数在50个/公斤以上，属于不佳的情况。
表一
表二
表三
表四
由表一所示实施例1至实施例5中之各检测资料，可清楚观察出，当仅需要具有TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性时，依据本发明所揭露的玻璃组成范围所制成之玻璃，其热膨胀系数均低于40×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度均高于650℃，密度均低于2.6(g/cm3)，玻璃液相温度均低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目均少于20个，即均满足TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性。而由表二所示实施例6至实施例10中之各检测资料，亦可清楚观察出，当需要具有如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性时，依据本发明所揭露的另一玻璃组成范围所制成之玻璃，其热膨胀系数均低于34×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度均高于665℃，密度均低于2.44(g/cm3)，玻璃液相温度均低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目均少于20个，即均满足如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性。
另，表三、表四中，则列示了其它不同于本发明之组成成份所施作之比较例11至比较例16。表三之比较例11至比较例13，系表一的对照组。表四之比较例14至比较例16，系表二的对照组。由表三所示之各检测资料中，可清楚显示，比较例11之热膨胀系数偏高，比较例12之玻璃液相温度偏高，比较例13之玻璃气泡产生数过高，均不能满足TFT-LCD玻璃基板所需的基本物理特性。由表四所示之各检测资料中，亦可清楚显示，比较例14之热膨胀系数偏高，比较例15之玻璃密度偏高，比较例16之玻璃气泡产生数过高，均不能满足如多晶硅型(poly-Si)TFT-LCD等次世代制程或产品所需求的TFT-LCD玻璃基板特性。
以上所述，仅系本发明之较佳实施例，惟，本发明所主张之权利范围，并不局限于此，按凡熟悉该项技艺人士，依据本发明所揭露之技术内容，可轻易思及之等效变化，均应属不脱离。
权利要求
1.一种显示器用之玻璃基板组成，其组成成份之重量百分比分别为56.0％至64.0％之氧化硅，14.0％至19.0％之氧化铝，7.5％至14.0％之氧化硼，0.0％至4.0％之氧化镁，3.0％至10.0％之氧化钙，0.0％至6.0％之氧化锶，0.0％至10.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间，氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至10.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至13.0％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。
2.如权利要求1所述之玻璃基板组成，其组成成份之重量百分比分别为56.0％至60.0％之氧化硅，14.0％至18.0％之氧化铝，7.5％至14.0％之氧化硼，0.0％至2.0％之氧化镁，3.0％至7.0％之氧化钙，1.0％至6.0％之氧化锶，2.0％至10.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间，氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至7.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于4.0％至13.0％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间，该等组成的玻璃，其热膨胀系数低于40×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度高于650℃，密度低于2.6(g/cm3)，液相温度低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个。
3.如权利要求1所述之玻璃基板组成，其组成成份之重量百分比分别为60.0％至64.0％之氧化硅，15.0％至19.0％之氧化铝，9.5％至13.0％之氧化硼，0.0％至4.0％之氧化镁，3.0％至10.0％之氧化钙，0.0％至3.0％之氧化锶，0.0％至2.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过76.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.3与1.8之间，氧化镁、氧化钙之总和介于5.0％至10.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至4.5％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间，该等组成的玻璃，其热膨胀系数低于34×10-7/℃(30～400℃)，应变点温度高于665℃，密度低于2.44(g/cm3)，液相温度低于1200℃，每公斤基板玻璃中泡径在0.5～1.0mm内的气泡数目少于20个。
全文摘要
一种显示器用之玻璃基板组成，其组成成分之重量百分比分别为56.0％至64.0％之氧化硅，14.0％至19.0％之氧化铝，7.5％至14.0％之氧化硼，0.0％至4.0％之氧化镁，3.0％至10.0％之氧化钙，0.0％至6.0％之氧化锶，0.0％至10.0％之氧化钡，0.0％至1.0％之氧化锌，0.0％至1.0％之氧化锆，0.0％至2.0％之氧化砷，0.0％至1.0％之氧化锑，0.0％至1.0％之氧化锡，0.0％至1.0％之氧化铈，且其中氧化硅与氧化铝的总和超过71.0％，氧化铝与氧化硼的比例介于1.0与2.1之间，氧化镁、氧化钙之总和介于3.0％至10.0％之间，氧化锶、氧化钡之总和介于0.0％至13.0％之间，氧化砷与氧化锑、氧化锡、氧化铈之总和介于0.3％至2.0％之间。本发明可应用于生产TFT－LCD玻璃基板。
文档编号C03C3/095GK1807308SQ20061004219
公开日2006年7月26日 申请日期2006年1月9日 优先权日2006年1月9日
发明者张志法, 梁兆瑾, 刘颖, 邹仁贵, 游锡扬 申请人:泰山玻璃纤维股份有限公司