一种在玻璃上制作标识的方法

文档序号:1982832阅读:920来源:国知局
专利名称:一种在玻璃上制作标识的方法
一种在玻璃上制作标识的方法
技术领域
本发明涉及标识制作领域,特别是玻璃标识制作领域。
背景技术
传统的在玻璃上制作标识的方法主要有以下几种(I)网印油墨,这是目前在玻璃上制作商标的主要方法,通过网版印刷工艺,将油墨印制在玻璃上形成图案,然后在高温下烘干、烧结制成标识。油墨由有机溶剂、低熔玻璃粉和填料组成,其有机溶剂在烘干时大量挥发,并且油墨的清洗需要更多的有机溶剂,如二甲苯,这需要比较繁琐的后期处理,易污染环境。(2)蚀刻法,它是利用材料和玻璃之间物理化学反应,在玻璃上制作标识的方法, 如公开号为CN1209421A的中国专利公开了一种用于汽车玻璃防盗标识制作的蚀刻剂,也适用于在其他玻璃上蚀刻各种标识图案。但是这种方法制作的标识图案是没有颜色的,纹理很不清晰。(3)直接粘贴,它是直接把制好的标识粘贴在玻璃上,但长时间使用,标签会磨损或脱落。目前,市场已广泛应用节能玻璃,尤其是低辐射玻璃。低辐射玻璃又称Low-e玻璃,是在玻璃表面镀上多层金属或化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性,使玻璃产品具有优异的节能性能,因此被广泛地应用于建筑玻璃和汽车玻璃上。Low-e镀膜是由多层膜层构成的,以银(Ag)层为主要功能层,根据需要Ag层可为纯Ag膜,也可适量添加其他元素,如Cu。Ag层介于介质层和介质层之间形成“三明治结构”, 介质层不仅可以是单层膜层,还可以是由多个单层,比如金属层、氧化物层、氮化物层或者它们的组合构成的复合层。低辐射膜层典型结构如图I和图2所示。低辐射玻璃按生产工艺可分为在线低辐射玻璃和离线低辐射玻璃,本文所指低辐射玻璃为离线低辐射玻璃。由于离线低辐射玻璃属于软涂层玻璃,耐磨性和牢固度比不上在线低辐射玻璃。而其主要功能层银层透光低、反光高,且很容易受到腐蚀或机械磨损,所以需要配合介质层,起到加强连接、保护银层、提高透光率和调整颜色等作用。不同介质层的选取和搭配会造成低辐射玻璃的不同性能,本文所指低辐射玻璃是可以经受400°C以上高温热处理的Low-e玻璃,尤其是可钢化Low-e和可烘弯Low-e。如公开号为CN101585667A 的中国专利,其公开了一种可烘弯的低辐射玻璃,该可烘弯低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外依次为玻璃基板/Si0xNy/ZnSn0x/Ti0y/Ag/Ti0x/ZnSn0y/SixNy。这里本文将TiOx/ZnSnOy/SixNy视为第一介质层,SiOxNy/ZnSnOx/TiOy视为第二介质层,银层介于第一介质层和第二介质层之间。

发明内容本发明的目的在于解决上述在玻璃上制作标识的传统方法存在的问题,提供了一种利用低辐射玻璃制作标识的新方法。为了实现上述目的,本发明所采取的技术方案是ー种在玻璃上制作标识的方法, 包括第一玻璃板、沉积在第一玻璃板的低福射膜层和待制作标识的第二玻璃板,所述低福射膜层从外至第一玻璃板方向至少依次为第一介质层、银层和第二介质层,其特征在于还包括以下步骤I)对第一玻璃板上低辐射膜层的第一介质层进行刻蚀,刻蚀方向为从外至第一玻璃板方向,刻蚀厚度为第一介质层厚度的10-90%,使第一介质层显出标识所对应的图形;2)将第一玻璃板和第二玻璃板配对,使刻蚀后的低辐射膜层与第二玻璃板贴合, 间距小于0. 2mm ;3)将配对后的两块玻璃板在400°C以上热处理,使指定的标识出现在第二玻璃板上。本发明的优点在于实施简单,对环境无污染,生产的标识图案清晰,且耐酸碱性、 耐摩擦性好,使用寿命长,具有很好的商业前景。

图I是低辐射玻璃的单银Low-e膜典型结构图;图2是低辐射玻璃的双银Low-e膜典型结构图;图3是刻蚀后的第一玻璃板上Low-e膜层结构示意图;图4是本发明配对后的第一玻璃板以及功能膜层和第二玻璃板的结构示意图;图5是本发明的エ艺流程图。
具体实施方式—种在玻璃上制作标识的方法,包括第一玻璃板I、沉积在第一玻璃板I的低福射膜层2和待制作标识的第二玻璃板3,所述低辐射膜层2从外至第一玻璃板方向至少依次为第一介质层21、银层22和第二介质层23,其特征在于还包括以下步骤I)对第一玻璃板I上低辐射膜层2的第一介质层21进行刻蚀,刻蚀方向为从外至第一玻璃板方向,刻蚀厚度为第一介质层21厚度的10-90%,使第一介质层21显出标识所对应的图形;2)将第一玻璃板I和第二玻璃板3配对,使刻蚀后的低福射膜层2与第二玻璃板 3贴合,间距小于0. 2mm ;3)将配对后的两块玻璃板在400°C以上热处理,使指定的标识出现在第二玻璃板 3上。其中,所述第一介质层21厚度至少为20nm,刻蚀厚度至少为2nm ;所述第一介质层21和/或第二介质层23可为单层膜,也可为由金属膜、氧化物膜、氮化物膜或者它们的组合构成的复合膜层;刻蚀方法可采用激光刻蚀或可印刷蚀刻介质刻蚀,激光刻蚀可采用红光(波长为 1064nm)、绿光(波长为532nm)或紫外光(波长为0_380nm)进行刻蚀,可印刷的蚀刻介质可以为蚀刻糊、蚀刻膏以及蚀刻油墨;所述玻璃板为浮法玻璃。
本发明所指的低辐射膜层为可耐高温热处理,一般介质层都比较致密或有Ag层保护层,使其在高温状态下,能够保护Ag层,避免或減少Ag层氧化。但如果采用蚀刻方法把Ag层上方的介质层给刻蚀掉,而不刻蚀掉Ag层,那么膜层刻蚀部位的Ag层在高温状态下,就易扩散到配片玻璃表面或内部,在玻璃表面和玻璃内部发生复杂的物理化学反应,从而使第二板玻璃所对应的部位变黄,形成黄色的标识。以下结合附图对本发明的内容作进ー步说明实施例I首先对浮法玻璃原片按照所需尺寸进行切割,制作配对的第一玻璃板I和第二玻璃板3,清洗干燥后采用以下步骤制作I)采用磁控溅射方法在第一玻璃板I上依次沉积中国专利CN101585667A例I 中所述的Low-e膜层2,银层22以上的第一介质层21为TiO1VZnSnO2VSi3N4,总厚度为 49. 5nm ;2)米用激光刻蚀方法在Low-e膜2刻蚀,刻蚀方向为从外至第一玻璃板方向,刻蚀深度20nm,使第一介质层21上呈现“FY”字样的刻蚀图案。刻蚀后的第一玻璃板I上 Low-e膜层2结构如图3所示。其中,激光刻蚀可采用红光(1064nm)、绿光(532nm)或紫外 (0-380nm)进行刻蚀;3)将第一玻璃板I和第二玻璃板3配对,指在第一玻璃板I上加另一片清洗干净的、未镀膜的第二玻璃板3 (也称为配片),使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相贴,配对后的第一玻璃板I以及低辐射膜层2和第二玻璃板3的结构如图4所示,中间加入适量的隔离粉;4)将已配对好的第一玻璃板I和第二玻璃板3进行600°C的烘弯热处理,并在 600°C温度下保温3分钟,整个热处理过程不超过20分钟,“FY”标识镜像显示在第二玻璃板3的相应位置,取出,完成标识制作。本实施例中制备标识方法的主要エ艺流程如图5所示。该实施例I的标识是应用到汽车前挡低辐射镀膜玻璃,有效结合汽车前挡低辐射玻璃制备エ艺,仅多出激光刻蚀标识图案步骤,简单方便,标识清晰持久。实施例2首先对浮法玻璃原片按照所需尺寸进行切割,制作配对的第一玻璃板I和第二玻璃板3,清洗干燥后采用以下步骤制作I)采用磁控溅射方法在第一玻璃板I上依次沉积中国专利CN1300327A例8中所述的双银低辐射膜层2,离第一玻璃板I最远的银层22上的第一介质层21为钛/氧化锌 /52-48锡酸锌/钛,总厚度约为24nm ;2)米用蚀刻膏刻蚀方法在低福射膜层2刻蚀,刻蚀方向为从外至第一玻璃板方向,刻蚀深度20nm,使第一介质层21上呈现“FY”镜像图形的刻蚀图案,其中,蚀刻膏可以采用公开号为CN101600779A的中国专利所描述的蚀刻膏进行丝网印刷刻蚀;3)将第一玻璃板I和第二玻璃板3配对,指在第一玻璃板I上加另一片清洗干净的、未镀膜的第二玻璃板3 (也称为配片),使第一玻璃板I的膜面和第二玻璃板3相贴,中间加入适量的隔离粉;4)将已配对好的第一玻璃板I和第二玻璃板3进行550°C的烘弯热处理,并在550°C温度下保温4分钟,整个热处理过程不超过25分钟,“FY”标识显示在第二玻璃板3的相应位置,取出,完成标识制作。该实施例与实施例I的区别在于低辐射膜层为双银Low-e膜层,且膜层结构不同, 刻蚀方式改为用蚀刻膏进行蚀刻,这样降低成本,也能取得同样的效果。以上内容是对本发明所述的ー种在玻璃上制作标识的方法进行了具体描述,但是本发明不受以上描述的具体实施方式
内容的局限,所以凡依据本发明的技术要点进行的任何改进、等同修改和替换等,均属于本发明的范围。
权利要求
1.ー种在玻璃上制作标识的方法,包括第一玻璃板、沉积在第一玻璃板的低福射膜层和待制作标识的第二玻璃板,所述低辐射膜层从外至第一玻璃板方向至少依次为第一介质层、银层和第二介质层,其特征在于还包括以下步骤D对第一玻璃板上低辐射膜层的第一介质层进行刻蚀,刻蚀方向为从外至第一玻璃板方向,刻蚀厚度为第一介质层厚度的10-90%,使第一介质层显出标识所对应的图形;2)将第一玻璃板和第二玻璃板配对,使刻蚀后的低辐射膜层与第二玻璃板贴合,间距小于0. 2mm ;3)将配对后的两块玻璃板在400°C以上热处理,使指定的标识出现在第二玻璃板上。
2.根据权利要求I所述的在玻璃上制作标识的方法,其特征在于所述低辐射膜层可以经受400°C以上高温热处理。
3.根据权利要求I所述的在玻璃上制作标识的方法,其特征在于所述第一介质层厚度至少为20nm。
4.根据权利要求I所述的在玻璃上制作标识的方法,其特征在于所述第一介质层和/ 或第二介质层可为单层膜,也可为由金属膜以及氧化物膜层组成的复合膜层。
5.根据权利要求I所述的在玻璃上制作标识的方法,其特征在于刻蚀方法可采用激光刻蚀或可印刷蚀刻介质刻蚀,激光刻蚀可采用波长为1064nm的红光、波长为532nm的绿光或波长为0-380nm的紫外光进行刻蚀,可印刷蚀刻介质可以为蚀刻糊、蚀刻膏以及蚀刻油星。
6.根据权利要求I所述的在玻璃上制作标识的方法,其特征在于所述玻璃板为浮法玻璃。
全文摘要
本发明提供了一种在玻璃上制作标识的方法,涉及标识制作领域,包括第一玻璃板、沉积在第一玻璃板的低辐射膜层和待制作标识的第二玻璃板,所述低辐射膜层从外至第一玻璃板方向至少依次为第一介质层、银层和第二介质层,其特征在于还包括以下步骤首先,对第一玻璃板上低辐射膜层的第一介质层进行刻蚀,使第一介质层显出标识所对应的图形;其次,将第一玻璃板和第二玻璃板配对,使刻蚀后的低辐射膜层与第二玻璃板贴合;最后,将配对后的两块玻璃板在400℃以上热处理,使指定的标识出现在第二玻璃板上。优点是实施简单,对环境无污染,生产的标识图案清晰,且耐酸碱性、耐摩擦性好,使用寿命长,具有很好的商业前景。
文档编号C03C23/00GK102603211SQ20121006545
公开日2012年7月25日 申请日期2012年1月12日 优先权日2012年1月12日
发明者何立山, 卢国水, 朱谧, 林柱, 福原康太, 袁军林 申请人:福耀玻璃工业集团股份有限公司
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