玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法
【专利摘要】一种玻璃蚀刻液再生方法，利用钾离子化合物与老化的玻璃蚀刻液进行搅拌反应，通过过滤去除老化液中的可溶性玻璃渣。对老化液进行离子交换处理，金属离子。此外，在老化液中加入适量的氢氟酸，进而再生出符合玻璃蚀刻要求的玻璃蚀刻液。本发明的还提供一种玻璃蚀刻方法，在玻璃蚀刻过程中使用钾离子化合物去除玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣。本发明可提高玻璃蚀刻的蚀刻率。
【专利说明】玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法。
【背景技术】
[0002] 玻璃蚀刻减薄的原理是利用氨氣酸跟玻璃（Si化）进行反应，并在反应过程中生成 老化物质氣娃酸（HsSiFe)及玻璃渣与娃酸(水玻璃)。随着氨氣酸逐渐消耗W及老化物质浓 度的持续增加，会导致玻璃蚀刻槽的槽液老化，蚀刻率下降W及蚀刻不良率上升。此外，蚀 刻槽液老化至一定程度后，老化物质浓度过高会造成槽液不稳定，从而影像产品的品质。传 统的解决上述问题的方法是将老化的槽液作废酸处理排放并重新建浴调配蚀刻液。然而， 废酸的处理W及重新建浴均需要较高的成本，且废酸中大多都还存在较高浓度的氨氣酸 (HF),若直接对老化蚀刻液做废酸排放处理，还会导致原料的浪费。
【发明内容】
[0003] 鉴于上述，有必要提出一种玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法，可W有效降低 对老化蚀刻液做废酸处理W及重新建浴液的成本。
[0004] 所述玻璃蚀刻液再生方法，包括W下步骤： (a) 在含有老化物质氣娃酸W及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钟离子化合物并进 行揽拌反应，使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内； (b) 对揽拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理，去除沉淀； (C)对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理，去除玻璃蚀刻液液中的金属离 子，使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值；及 (d)检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氨氣酸浓度，并根据该氨氣酸浓度在该离 子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氨氣酸，使氨氣酸的浓度达到一预定浓度。
[0005] 所述玻璃蚀刻方法，包括W下步骤： 将装有玻璃蚀刻液W及被蚀刻玻璃的蚀刻槽通过第一管道与一过滤机的入口连通，将 过滤机的输出口通过一第二管道与蚀刻槽连通，并将装有钟离子化合物溶液的化合物容器 通过一第H管道与第一管道靠近蚀刻槽的一端连通； 持续取样检测蚀刻槽中可溶性玻璃渣浓度W及氨氣酸浓度； 当检测到蚀刻槽中的可溶性玻璃渣浓度高于第一预定口槛值时，将蚀刻槽中的玻璃蚀 刻液和化合物容器中的钟离子化合物溶液逐步输出至第一管道进行反应； 将第一管道中反应后的玻璃蚀刻液经过过滤机进行过滤，去除沉淀；及 将经过滤之后的玻璃蚀刻液经第二管道输入蚀刻槽中对玻璃进行蚀刻。
[0006] 相较于现有技术，本发明的玻璃蚀刻液再生方法可对老化液进行处理再生出能用 于蚀刻玻璃的玻璃蚀刻液，而无需对老化液进行废弃处理，从而减少了对老化液进行废弃 处理的成本，并避免了氨氣酸的浪费。同时，本发明提供的玻璃蚀刻方法，在蚀刻玻璃的同 时使用钟离子化合物与玻璃蚀刻液进行反应，可使可溶性玻璃渣维持在一个较低的水平， 并有效去除老化物质氣娃酸，从而保证蚀刻率。
【专利附图】
【附图说明】
[0007] 图1是本发明的玻璃蚀刻液再生方法的流程图。
[0008] 图2是实验中分别加入四种钟离子化合物时，可溶性玻璃渣浓度的变化示意图。
[0009] 图3是实验中分别加入上述四种化合物时，老化液中总氨浓度(酸度）的变化示意 图。
[0010] 图4是实验中新调制的玻璃蚀刻液、老化液处理后再生的玻璃蚀刻液W及未经处 理的老化液分别用于玻璃蚀刻时的蚀刻率（ER)比对图。
[0011] 图5是用于玻璃蚀刻过程的设备示意图。
[0012] 图6为本发明较佳实施例中的玻璃蚀刻方法的流程图。
[0013] 图7为实验中在图5的第一管道中排入玻璃蚀刻液和化合物溶液W及未对玻璃蚀 刻液做任何处理两种情况下可溶性玻璃渣（TDS )浓度变化的对比图。
[0014] 主要元件符号说明
【权利要求】
1. 一种玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： (a) 在含有老化物质氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钾离子化合物并进 行搅拌反应，使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内； (b) 对搅拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理，去除沉淀； (c) 对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理，去除玻璃蚀刻液液中的金属离 子，使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值；及 (d) 检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氢氟酸浓度，并根据该氢氟酸浓度在该离 子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氢氟酸，使氢氟酸的浓度达到一预定浓度。
2. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，该方法在步骤（a)之前还包 括： 对玻璃蚀刻液中所含的可溶性玻璃渣浓度进行检测，当该可溶性玻璃渣浓度小于或等 于一阈值时，再进入步骤（a)。
3. 如权利要求2所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述阈值为30%。
4. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述钾离子化合物为KOH、 KF、KCL以及KN03中的其中之一。
5. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述预定值为1%，所述预定 浓度大于8%。
6. -种玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 将装有玻璃蚀刻液以及被蚀刻玻璃的蚀刻槽通过第一管道与一过滤机的入口连通，将 过滤机的输出口通过一第二管道与蚀刻槽连通，并将装有钾离子化合物溶液的化合物容器 通过一第三管道与第一管道靠近蚀刻槽的一端连通； 持续取样检测蚀刻槽中可溶性玻璃渣浓度； 当检测到蚀刻槽中的可溶性玻璃渣浓度高于第一预定门槛值时，将蚀刻槽中的玻璃蚀 刻液和化合物容器中的钾离子化合物溶液逐步输出至第一管道进行反应； 将第一管道中反应后的玻璃蚀刻液经过过滤机进行过滤，去除沉淀； 将经过滤之后的玻璃蚀刻液经第二管道输入蚀刻槽中对玻璃进行蚀刻。
7. 如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法还包括： 对蚀刻槽中的玻璃蚀刻液进行升温，使蚀刻槽中的玻璃蚀刻液维持在一预定温度下。
8. 如权利要求7所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述预定温度为35°C。
9. 如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述第一预定门槛值为3%。
10. 如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法还包括： 持续取样检测蚀刻槽中的氢氟酸浓度；及 当检测到蚀刻槽中的氢氟酸浓度低于一第二预定门槛值时，向蚀刻槽中逐步加入氢氟 酸溶液，使蚀刻槽中的氢氟酸浓度达到一预定浓度范围。
11. 如权利要求10所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述第二预定门槛值为8%，所述 预定浓度范围为8%-20%。
【文档编号】C03C15/00GK104341111SQ201310318446
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2013年7月26日 优先权日:2013年7月26日
【发明者】张欣华, 黄慧清, 李沅达, 陈泓邑, 黄兆畅, 林瑞钦, 叶容凯, 张世群, 罗中育, 陈钦典, 简文鸿 申请人:睿志达光电(深圳)有限公司, 正达国际光电股份有限公司