本实用新型涉及一种用于高校图书馆的安全幕墙玻璃。
背景技术：
高等学校图书馆承担高等学校教学和科学研究服务的重任，满足高校师生和社会读者对经济信息、科研信息、商业信息等各种信息的需求。在现代高校图书馆建筑中，追求大面积采光的玻璃设计成为潮流。玻璃采光性较好，视觉效果好，彰显了现代高校图书馆建筑的个性。低辐射镀膜玻璃（Low-E玻璃）可以在不显著降低可见光透过率的同时，显著降低由于热辐射产生的室内外热量交换。低辐射镀膜玻璃以其优异的节能、环保性能受到了国内外的普遍关注，在我国高校图书馆建筑工程中得到广泛应用。然而玻璃幕墙虽然彰显了现代建筑的个性，也会带来种种隐忧。特别是夏天的时候，室内外温差大，玻璃特别容易自爆。冬、夏两季是幕墙玻璃爆裂的频发季节，主要原因是不少图书馆大楼内中央空调温度长期过高或过低带来的隐患。图书馆发生玻璃自爆时有发生，防不胜防。高校图书馆人流量大，玻璃自爆就像一颗高悬在空中的“炸弹”，让每个路人提心吊胆。玻璃爆破后碎裂的玻璃碎片飞溅和掉落，给高校图书馆带来了安全隐患和维护成本。如何在保证透光率的前提下，杜绝玻璃自爆是目前急需解决的问题。
技术实现要素：
为解决上述存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于高校图书馆的安全幕墙玻璃，降低玻璃的自爆率，增强玻璃的隔热和保温性能，提高玻璃耐候性。
为达到上述目的，本实用新型的技术方案是：
一种用于高校图书馆的安全幕墙玻璃，包括有机玻璃基片，有机玻璃基片的上面设置底涂层、低辐射隔热层、防护面涂层；有机玻璃基片的下面设置防护面涂层；有机玻璃基片材质为聚碳酸酯，底涂层为聚氨酯膜层，低辐射隔热层为氧化铟锌(IZO)薄膜层，防护面涂层包括由里至外设置的聚氨酯膜层、有机硅膜层。
所述各镀膜层厚度为：底涂层中聚氨酯膜层为0.5-1μm、IZO薄膜为100-500nm、防护面涂层中聚氨酯膜层为0.5-1μm、防护面涂层中有机硅膜层为2-5μm。所述IZO薄膜中In2O3的质量百分含量为 10-13%，余量为ZnO。
本实用新型的有益效果如下：
普通玻璃易碎、韧性低，且主要成分是二氧化硅。本实用新型的有机玻璃基片材质选用聚碳酸酯，聚碳酸酯具有高透明性、重量轻、高韧性等特点，较传统的玻璃材料具有更高的抗冲击性，克服了玻璃自爆的缺陷。采用非晶态IZO薄膜作为低辐射隔热层，可以使镀膜有机玻璃具有较高的可见光透过率和隔绝红外波段热辐射的能力。无机导电薄膜与有机玻璃基片之间存在热膨胀系数以及应力状态差异，在使用过程中低辐射隔热层易开裂和膜层附着失效，在低辐射隔热层和有机玻璃之间增加聚氨酯膜层解决了这一技术难题。有机硅涂层中Si-O-Si交联呈刚性网络结构，防护面涂层具有良好的硬度及耐磨性，提高了聚碳酸酯基片的耐磨性和使用可靠性。本实用新型的安全幕墙玻璃具有重量轻、可见光透过率高、低辐射性能好、耐候性强，克服了传统玻璃的“自爆”缺陷，从而使本实用新型的安全幕墙玻璃在高校图书馆等人员密集型建筑具有很高的实用性。
附图说明
图1为本实用新型所述的一种用于高校图书馆的安全幕墙玻璃结构示意图。图中：1、有机玻璃基片；2、底涂层；3、低辐射隔热层；4、防护面涂层；41、聚氨酯膜层；42、有机硅膜层。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型所述的一种用于高校图书馆的安全幕墙玻璃，包括：有机玻璃基片1，有机玻璃基片1的上面设置底涂层2、低辐射隔热层3、防护面涂层4，有机玻璃基片1的下面设置防护面涂层4；所述防护面涂层4包括由里至外设置的聚氨酯膜层41和有机硅膜层42；所述有机玻璃基片1选用聚碳酸酯材质；所述底涂层2为聚氨酯膜层；所述低辐射隔热层3为氧化铟锌(IZO)薄膜层。
上述镀膜层各层的具体参数为：底涂层中聚氨酯膜层为0.5-1μm、IZO薄膜为100-500nm、防护面涂层中聚氨酯膜层为0.5-1μm、防护面涂层中有机硅膜层为2-5μm。所述IZO薄膜中In2O3的质量百分含量为 10-13%，余量为ZnO。
以下通过具体实施例进一步说明本实用新型：
实施例1：有机玻璃基片1选用聚碳酸酯基片，聚碳酸酯基片的厚度为5mm，聚碳酸酯基片的上面依次为：聚氨酯膜层2、氧化铟锌(IZO)薄膜层3、聚氨酯膜层41、有机硅膜层42；聚碳酸酯基片的下面设置聚氨酯膜层41和有机硅膜层42；上述镀膜层各层的具体参数为：聚氨酯膜层为0.7μm、IZO薄膜为250nm、有机硅膜层为4μm。IZO薄膜中In2O3和ZnO的质量百分比为 10.7:89.3 wt%。
本实施例中，用于高校图书馆的安全幕墙玻璃的制备工艺如下：
第一步、用超声波清洗聚碳酸酯基片，然后放入干燥炉烘干；
第二步、通过添加适量稀释剂调节聚氨酯溶液的粘度，用搅拌器搅拌后再经过超声波振荡10分钟制成聚氨酯溶液；
第三步、采用刮涂法将聚氨酯涂覆于聚碳酸酯基片的上面，用烘箱在50℃烘烤12小时，待涂层完全干燥固化成膜，膜层厚度0.7μm；
第四步、将涂覆聚氨酯膜层的聚碳酸酯基片放入磁控溅射装置中，在聚氨酯膜层上面溅射IZO薄膜，靶材用In2O3和ZnO粉末混合烧结靶，质量百分比为 10.7:89.3 wt%，Ar气流量40 sccm，O2气流量0.8 sccm，直流溅射功率40W，溅射压强0.5Pa，衬底温度室温，溅射时间30分钟，薄膜厚度250nm；
第五步、采用刮涂法将聚氨酯涂覆于IZO薄膜表面，用烘箱在50℃烘烤12小时，待涂层完全干燥固化成膜，膜层厚度0.7μm；
第六步、采用刮涂法将聚氨酯涂覆于聚碳酸酯基片下面，用烘箱在50℃烘烤12小时，待涂层完全干燥固化成膜，膜层厚度0.7μm；
第七步、采用淋涂方法，将有机硅耐磨涂层材料淋涂于带膜聚碳酸酯基片两面上，置于40-50℃烘箱中预烘干10分钟，然后放于60℃烘箱中固化2小时，得到厚度约4μm的耐磨涂层。
需要说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制。基于此处的描述，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。