一种负离子陶瓷砖的制作方法

文档序号:16839304发布日期:2019-02-12 21:22阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种负离子陶瓷砖,其特征在于,它包括砖体和设置在砖体表面的底釉层、彩绘层、负离子釉料层,砖体表面设置有多个孔,孔内填充有负离子发生功能组件,所述负离子发生功能组件包括基料和包裹于基料表面的负离子涂料层。

2.根据权利要求1所述的一种负离子陶瓷砖,其特征在于,所述负离子釉料层的厚度为0.2-1mm。

3.根据权利要求1所述的一种负离子陶瓷砖,其特征在于,所述彩绘层的厚度为0.1-2mm。

4.根据权利要求1所述的一种负离子陶瓷砖,其特征在于,所述底釉层的厚度为0.2-3mm。

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