一种新型瓷砖淋釉装置的制作方法

本实用新型涉及瓷砖施釉技术领域，具体为一种新型瓷砖淋釉装置。

背景技术：

釉面砖是装修中最常见的砖种，由于色彩图案丰富，而且防污能力强，因此被广泛使用于墙面和地面装修。釉面砖在制作过程中，施釉是其中最重要的步骤之一，施釉的工艺质量能够最终决定瓷砖的成品质量。目前普遍应用的施釉方法有三种：喷釉、浸釉和淋釉。由于喷釉容易施釉不均，浸釉又容易导致釉层过厚，因此淋釉是普遍优选的实施方式。但目前的瓷砖淋釉产线，一般一条只能适应一种尺寸的瓷砖的施釉，当面对不同尺寸的瓷砖施釉时需要暂停产线，更换不同尺寸的施釉盘，使之适应不同尺寸瓷砖的施釉，降低了生产线的生产效率。且在淋釉过程中釉料的喷淋及回收效率较低，造成釉料的浪费严重。

技术实现要素：

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种新型瓷砖淋釉装置，解决了传统瓷砖淋釉产线，适用性差、生产效率低及釉料的喷淋及回收效率低的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种新型瓷砖淋釉装置，包括釉桶、施釉漏斗、施釉盘、瓷砖、传送带、釉料回收盘、釉料泵、进料管及回收管，所述施釉盘固定安装于所述传送带的上方；所述施釉漏斗固定安装于所述施釉盘的正上方；所述釉料回收盘固定设置于所述传送带的下方；所述瓷砖通过所述传送带传输；所述釉料泵设置于所述釉桶的底部；所述釉料泵通过进料管与所述施釉漏斗的进料口连接；所述釉料回收盘底部开设有一个釉料回流口；所述釉桶通过回收管与所述釉料回流口连接；所述施釉盘上设有两个调节挡板，分别为调节挡板ⅰ及调节挡板ⅱ；所述调节挡板ⅰ及调节挡板ⅱ均可以施釉盘的中心为圆心沿施釉盘作圆周调节。

进一步地，所述施釉漏斗的底部设有一个出料阀门；所述出料阀门为单向阀。

进一步地，所述出料阀门与所述施釉盘之间设有一个滤网。

进一步地，所述釉料回流口设置于所述釉料回收盘底部的最低处。

该新型瓷砖淋釉装置，可通过调节施釉盘上的调节挡板ⅰ与调节挡板ⅱ之间的角度从而对施釉盘的施釉宽度起到调节作用，使同一施釉盘可适用于不同尺寸瓷砖的施釉；且调节挡板ⅰ与调节挡板ⅱ可在淋釉过程中对釉料起到约束，使釉料能均匀且完全地喷淋至传送带上的瓷砖上，提高了釉料的使用效率及回收效率。

本实用新型可通过调节挡板ⅰ与调节挡板ⅱ对施釉盘的施釉范围起到调节作用，使同一施釉盘可适用于不同尺寸的瓷砖，挺高了瓷砖淋釉线的通用性，也提高了瓷砖淋釉线的生产效率；同时，通过调节挡板ⅰ与调节挡板ⅱ对施釉盘上的釉料起到约束作用，是施釉盘上的釉料能均匀且完全的喷淋至瓷砖的表面，提高了釉料的喷淋效率及回收效率。

附图说明

图1为本实用新型装置结构的侧面视图；

图2为本实用新型釉料喷淋过程中的正面视图；

图3为本实用新型中施釉盘的俯视图；

图中：1、釉桶，2、施釉漏斗，3、出料阀门，4、滤网，5、施釉盘，501、调节挡板ⅰ，502、调节挡板ⅱ，6、瓷砖，7、传送带，8、釉料回收盘，9、釉料泵，10、进料管，11、回收管。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

如图1-3所示的一种新型瓷砖淋釉装置，包括釉桶1、施釉漏斗2、施釉盘5、瓷砖6、传送带7、釉料回收盘8、釉料泵9、进料管10及回收管11，所述施釉盘5固定安装于所述传送带7的上方；所述施釉漏斗2固定安装于所述施釉盘5的正上方；所述釉料回收盘8固定设置于所述传送带7的下方；所述瓷砖6通过所述传送带7传输；所述釉料泵9设置于所述釉桶1的底部；所述釉料泵9通过进料管10与所述施釉漏斗2的进料口连接；所述釉料回收盘8底部开设有一个釉料回流口；所述釉桶1通过回收管11与所述釉料回流口连接；所述施釉盘5上设有两个调节挡板，分别为调节挡板ⅰ501及调节挡板ⅱ502；所述调节挡板ⅰ501及调节挡板ⅱ502均可以施釉盘5的中心为圆心沿施釉盘5作圆周调节。

较佳地，所述施釉漏斗2的底部设有一个出料阀门3；所述出料阀门3为单向阀；所述出料阀门3与所述施釉盘5之间设有一个滤网4，可对釉料进行进一步的筛分，将釉料中较大颗粒的杂质筛除；所述釉料回流口设置于所述釉料回收盘8底部的最低处，可使釉料回收盘8中回收的釉料可完全回流至釉桶1内，回收再利用。

本实用新型的技术方案是：先通过釉桶1的釉料泵9将釉料输送至施釉漏斗2内，再打开施釉漏斗底部的阀门，使釉料经滤网4过滤后流至施釉盘5上，由于施釉盘5上活动设置有调节挡板ⅰ501及调节挡板ⅱ502，可通过调整调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502之间的角度，起到调整施釉盘5的施釉宽度，使同一施釉盘5可适用于不同尺寸的瓷砖的施釉。同时，调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502可对施釉盘5上的釉料起到约束作用，使施釉盘5上的釉料能够均匀地完全地喷淋至传送带7上的瓷砖6的的表面上，提高了釉料的施釉效率，也可防止釉料流出釉料回收盘8外，提高了釉料的回收效率。

该新型瓷砖淋釉装置，可通过调节施釉盘5上的调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502之间的角度从而对施釉盘5的施釉宽度起到调节作用，使同一施釉盘5可适用于不同尺寸瓷砖的施釉；且调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502可在淋釉过程中对釉料起到约束，使釉料能均匀且完全地喷淋至传送带上的瓷砖上，提高了釉料的使用效率及回收效率。

本实用新型可通过调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502对施釉盘的施釉范围起到调节作用，使同一施釉盘5可适用于不同尺寸的瓷砖，挺高了瓷砖淋釉线的通用性，也挺高了瓷砖淋釉线的生产效率；同时，通过调节挡板ⅰ501与调节挡板ⅱ502对施釉盘5上的釉料起到约束作用，是施釉盘5上的釉料能均匀且完全的喷淋至瓷砖的表面，提高了釉料的喷淋效率及回收效率。

上述实施方式是对本实用新型的说明，不是对本实用新型的限定，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的保护范围由所附权利要求及其等同物限定。