一种陶瓷壁电离喷釉装置的制作方法

本发明涉及陶瓷加工领域，具体来说，涉及一种陶瓷壁电离喷釉装置。

背景技术：

1、青瓷是中国陶瓷烧制工艺的珍品，作为一种表面施有青色釉的瓷器。青瓷色调的形成，主要是胎釉中含有一定量的氧化铁，在还原焰气氛中焙烧所致。但有些青瓷因含铁不纯，还原气氛不充足，色调便呈现黄色或黄褐色。青瓷以瓷质细腻，线条明快流畅、造型端庄浑朴、色泽纯洁而斑斓著称于世。

2、根据中国专利公开号cn115229952a公开的一种用于青瓷生产的旋转式塑形设备，其解决了现有的塑形设备在使用过程中存在很大的缺陷，现有的塑形设备需要人工进行上料，增加了人力负担，同时，通过人工上料，使得该设备生产效率低，现有的塑形设备使用过程中，容易损坏泥坯，使用不够可靠，现有的塑形设备无法无法对不同大小的青瓷进行修坯塑形，降低了该设备的使用范围，现有的塑形设备使用不够灵活，调节不够灵敏，从而降低该设备对青瓷修坯塑形的精度的问题。

3、根据上述专利，在给青瓷的泥坯塑形完成之后，需要对瓷壁外表进行喷釉处理，而现有的喷釉机器无法稳定均匀的对青瓷进行喷釉，从而导致了部分泥坯在喷釉之后还需要进行人工补釉。

4、针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种陶瓷壁电离喷釉装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

3、一种陶瓷壁电离喷釉装置，所述壳体的上端一侧开设有凹槽一，所述凹槽一的下端设置有驱动装置，所述驱动装置包电机一、支撑机构、静电机构和重力机构，所述凹槽一内嵌设有电机一，所述电机一的外轴连接有支撑机构，所述支撑机构内设置有用静电机构和重力机构，所述凹槽一的一侧设置有喷涂装置，所述凹槽一的开口处铰接有箱门。

4、进一步的，所述支撑机构包括转盘和支撑台，所述电机一的外轴固定连接有转盘，所述转盘的上端开设有滑槽一且滑动套设有滑块一，所述滑块一的上端固定连接有支撑台，所述滑槽一的外侧开设有弹簧槽，所述弹簧槽内固定连接有弹簧一，所述弹簧一的上端与所述支撑台固定连接，所述支撑台的下端固定连接有若干个支撑柱，所述转盘的上端开设有若干个与所述支撑柱相配合的滑槽二。

5、进一步的，所述重力机构包括轴套、电阻管和拨片，所述转盘的上端一侧开设有滑槽三，所述滑槽三内固定连接有电阻管，所述滑槽三内活动套设有轴套，所述轴套内通过拨片与所述电阻管接触，所述轴套的上端与所述支撑台固定连接。

6、进一步的，所述静电机构包括线圈、永磁体、接电管一和接电管二，所述转盘的外壁开设有若干个凹槽二，所述凹槽二内均固定连接有线圈，所述凹槽一靠近所述凹槽二的一侧均设置有若干个与所述线圈相配合的永磁体，所述转盘的上端一侧嵌设有连接件，所述连接件的上端开设有圆槽一，所述圆槽一内活动设置有接电管一，所述接电管一的下端与所述圆槽一的内壁之间固定连接有弹簧二，所述支撑台的下端固定连接有与所述接电管一相配合的接电管二，所述转盘内嵌设有稳流器且与所述线圈、接电管一和接电管二电性连接。

7、进一步的，所述喷涂装置包括电离喷涂枪、集料箱、动力机构和调节机构，所述壳体的一侧外壁嵌有集料箱，所述集料箱的下端开设有连通槽且连接有泵体，所述凹槽一的一侧开设有滑槽四，所述滑槽四活动设置有动力机构，所述动力机构的一侧连接有电离喷涂枪，所述本体的一侧通过连接管与所述电离喷涂枪连通，所述电离喷涂枪的一侧设置有调节机构且与所述动力机构连接。

8、进一步的，所述动力机构包括电机二、丝杆和滑块二，所述壳体的上端嵌设有电机二，所述电机二的外轴固定连接有丝杆，所述丝杆远离所述电机二的一端与所述滑槽四之间通过轴承活动连接，所述滑槽四内活动设置有滑块二，所述滑块二的一侧开设有螺纹孔且与所述丝杆螺纹连接，所述滑块二的一侧固定连接有电离喷涂枪。

9、进一步的，所述调节机构包括限位块、拨块和拨杆，所述滑块二远离所述电离喷涂枪的一侧固定连接有限位块，所述限位块的下端开设有圆槽二，所述圆槽二内活动设置有顶块，所述顶块与所述圆槽二之间固定连接有弹簧三，所述限位块的下方设置有拨块且与所述滑块二通过转轴活动连接，所述顶块的下端与所述拨块的外壁抵触，所述拨块远离所述电离喷涂枪的一侧固定连接有拨杆，所述滑块二的外壁固定连接有数量为两个的与所述拨杆相配合的限位杆一，所述凹槽一靠近所述拨杆的一侧下端固定连接有限位杆二，所述限位杆二的上方设置有限位杆三，所述凹槽一靠近所述拨杆的一侧上方设置有若干个与所述限位杆三相配合的插槽。

10、与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

11、(1)、通过设置的支撑机构可以对青瓷进行支撑，而设置的静电机构则会使青瓷的表面带有静电，增加电离喷釉时的喷涂效果，使釉液的吸附效果更好，喷涂更加均匀，而设置的重力机构则可以通过检测青瓷的重量预估青瓷的大小，从而调节喷涂装置的喷涂量，有效的提升喷釉的效果，通过设置的电机一与支撑机构连接，当电机一转动的时候则可以使整个支撑机构转动起来，从而使青瓷转动，使喷涂装置在喷釉的时候可以更加均匀的喷涂。

12、(2)、通过设置在转盘上端的滑槽一和滑块一，可以使支撑台与转盘之间可以滑动，而设置的弹簧槽和弹簧一则可以在支撑台上无负载的时候将支撑台顶起，使重力机构复位和静电机构断开，而设置的若干个支撑柱和滑槽二可以使支撑台和转盘之间的连接更加稳固，使支撑台的移动更加顺滑平稳，避免青瓷放置位置不在中心的时候支撑台产生轻微倾斜，从而可以避免在喷釉的时候喷涂不均匀，通过设置的电阻管和拨片，当支撑台上放置有青瓷的时候，通过青瓷的重力将支撑台压下，支撑台随之带动轴套移动使拨片在电阻管的外壁滑动，从而通过改变阻值的大小使电流产生变化，使喷涂装置调节喷液量，可以更好的对青瓷进行喷釉，通过设置的线圈和永磁体，当转盘转动的时候，线圈跟着转动，通过切割永磁体的磁感线产生电流，通过设置的接电管一和接电管二，当支撑台上放置青瓷而下滑的时候，使接电管一和接电管二连通，因为陶瓷并非导体，而接电的时候会受到电离，从而使线圈转动产生的电流与青瓷接触的时候会使青瓷的表面产生静电，而设置的稳流器则可以使电流过滤，从而保证青瓷的表面只有单一电荷，使青瓷的外壁的静电效果更加稳定。

13、(3)、通过设置的泵体，可以将集料箱内的釉液吸入后通过连接管排出后通过电离喷涂枪喷出，当喷出的时候通过电离喷涂枪对釉液进行电离，产生与青瓷表面相反的电场，从而使釉液可以与青瓷外壁均匀且紧密的粘合在一起，通过设置的电机二运行后带动丝杆转动，使滑块二在滑槽四内滑动，从而调节电离喷涂枪的位置对青瓷进行一个全方面的喷涂。

14、(4)、通过设置的限位块内的顶块，可以对拨块进行一个限位，使滑块二在滑动的时候不会导致拨块晃动，通过设置的拨杆和限位杆一，可以有效的防止拨块的转动幅度过大，通过拨杆与限位杆二和限位杆三接触而带动拨块转动使电机二的转向改变，从而可以使滑块二往复的对青瓷进行喷釉，而设置的插槽可以根据青瓷的不同高度设置滑块二的进程，有效的提升喷釉的速度和效率。