一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置的制作方法

1.本实用新型涉及陶瓷餐具加工技术领域，尤其涉及一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置。


背景技术：

2.陶瓷餐具，陶瓷的传统概念是指所有以粘土等无机非金属矿物为原料的人工工业产品。它包括由粘土或含有粘土的混合物经混炼，成形，煅烧而制成的各种制品。陶瓷餐具的烧制和应用在我国有着悠久的历史，其造型多样、色彩斑斓、手感清凉细滑，容易洗涤，深受国人喜爱。而在陶瓷餐具生产过程中，需对其进行上釉工作。
3.在传统的上釉装置中，通常存在上釉不均匀的现象出现，影响了陶瓷餐具加工的良品率，而且在上釉过程中，喷洒出的有料容易向四周扩散溅射，不仅不便于清理，而且容易影响人体健康。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于：为了解决上述问题，而提出的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，包括上釉箱，所述上釉箱的内部设置有上釉室和釉料室，所述上釉室的内部设置有釉料箱，所述釉料箱的侧壁设置有贯穿上釉室延伸至釉料室内的输料管，所述输料管上设置有泵体，所述输料管的底端连接有喷头管，所述喷头管的外部设置有防溅组件，所述上釉室的内部设置有侧架，所述侧架的顶部设置有限位板，所述侧架的内部设置有旋转顶升机构，所述旋转顶升机构的顶部设置有放置板。
7.优选地，所述防溅组件包括防溅罩、弹簧、固定杆，所述固定杆贯穿防溅罩，一端与上釉室的底壁连接，另一端与所述喷头管固定连接，所述弹簧套设在固定杆的外部，且位于防溅罩的上方。
8.优选地，所述防溅罩的底部设置有移动轮，所述放置板上具有与移动轮适配的环道。
9.优选地，所述旋转顶升机构包括旋转组件和升降组件，所述旋转组件包括驱动电机一、旋转杆部，所述驱动电机一的输出轴与旋转杆部连接，所述旋转杆部的顶端贯穿限位板与放置板固定连接，所述升降组件包括驱动电机二、齿轮、齿牙，所述驱动电机二通过电机座安装在侧架上，所述齿轮与驱动电机二的输出轴连接，所述齿牙均匀分布在旋转杆部的外壁。
10.优选地，所述旋转杆部包括内杆和外套杆，所述内杆的顶端贯穿外套杆并与其滑动配合，所述内杆和外套杆之间还设置有防滑结构。
11.优选地，所述防滑结构包括限位凸块、防滑槽，所述限位凸块对称设置在内杆的两侧，所述防滑槽设置在外套杆的内壁两侧，且与限位凸块相适配。
12.优选地，所述齿牙分布在外套杆的中部位置，且与齿轮啮合连接。
13.优选地，所述输料管的外部设置有与上釉室底壁连接的固定套。
14.综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：
15.1、本技术中，通过驱动电机二带动齿轮转动，齿轮通过齿牙带动外套杆上移，外套杆带动放置板上移，使得陶瓷餐具移动至喷头管下方合适距离，启动驱动电机一，驱动电机一带动内杆转动，内杆通过防滑结构带动外套杆同步转动，从而使得外套杆带动放置板转动，然后启动泵体，泵体将釉料箱内的釉料通过输料管从喷头管均匀喷涂在陶瓷餐具，有利于提高陶瓷餐具的上釉均匀度。
16.2、本技术中，放置板上移时，与防溅罩接触，并推动弹簧压缩，在弹簧的作用下，防溅罩与放置板形成封闭空间，能防止釉料喷洒过程中向外部扩散，提高了上釉装置的防溅射效果。
附图说明
17.图1示出了根据本实用新型实施例提供的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置的主视结构示意图；
18.图2示出了根据本实用新型实施例提供的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置的主视内部结构示意图；
19.图3示出了根据本实用新型实施例提供的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置的旋转杆部截面结构示意图；
20.图4示出了根据本实用新型实施例提供的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置的图2中a部放大结构示意图。
21.图例说明：
22.1、上釉箱；2、上釉室；3、釉料室；4、釉料箱；5、输料管；6、泵体；7、固定杆；8、弹簧；9、固定套；10、喷头管；11、防溅罩；12、侧架；13、限位板；14、驱动电机一；15、内杆；16、外套杆；17、齿轮；18、驱动电机二；19、齿牙；20、放置板；21、移动轮；22、限位凸块；23、防滑槽；24、环道。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：
25.一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，包括上釉箱1，上釉箱1的内部设置有上釉室2和釉料室3，上釉室2的内部设置有釉料箱4，釉料箱4的侧壁设置有贯穿上釉室2延伸至釉料室3内的输料管5，输料管5上设置有泵体6，输料管5的底端连接有喷头管10，启动泵体6，泵体6将釉料箱4内的釉料通过输料管5从喷头管10均匀喷涂在陶瓷餐具，喷头管10的外部设置有防溅组件，能够有效阻止喷洒的釉料溅射扩散，上釉室2的内部设置有侧架12，侧架12的顶部设置有限位板13，侧架12的内部设置有旋转顶升机构，旋转顶升机构的顶部设置有
放置板20，通过旋转顶升机构带动放置板20转动和升降调节。
26.具体的，如图2所示，防溅组件包括防溅罩11、弹簧8、固定杆7，固定杆7贯穿防溅罩11，一端与上釉室2的底壁连接，另一端与喷头管10固定连接，弹簧8套设在固定杆7的外部，且位于防溅罩11的上方，输料管5同时贯穿防溅罩11，并与其滑动连接，放置板20上移后，在弹簧8的弹力作用下，与防溅罩11的底部抵接，从而形成封闭空间。
27.具体的，如图4所示，防溅罩11的底部设置有移动轮21，放置板20上具有与移动轮21适配的环道24，使得防溅罩11与放置板20形成封闭空间时，当放置板20转动时，移动轮21在环道24内滚动，减小放置板20在转动过程中的阻力。
28.具体的，如图2所示，旋转顶升机构包括旋转组件和升降组件，旋转组件包括驱动电机一14、旋转杆部，驱动电机一14的输出轴与旋转杆部连接，旋转杆部的顶端贯穿限位板13与放置板20固定连接，升降组件包括驱动电机二18、齿轮17、齿牙19，驱动电机二18通过电机座安装在侧架12上，齿轮17与驱动电机二18的输出轴连接，齿牙19均匀分布在旋转杆部的外壁，启动驱动电机一14，驱动电机一14带动旋转杆部转动，旋转杆部带动放置板20转动，有利于陶瓷餐具的均匀上釉，通过驱动电机二18带动齿轮17转动，齿轮17通过齿牙19带动旋转杆部升降，从而调节放置板20与喷头管10之间的距离。
29.具体的，如图3所示，旋转杆部包括内杆15和外套杆16，内杆15的顶端贯穿外套杆16并与其滑动配合，内杆15和外套杆16之间还设置有防滑结构。
30.具体的，如图3所示，防滑结构包括限位凸块22、防滑槽23，限位凸块22对称设置在内杆15的两侧，防滑槽23设置在外套杆16的内壁两侧，且与限位凸块22相适配，使得内杆15转动时，在限位凸块22与防滑槽23的配合下带动外套杆16同步转动。
31.具体的，如图2所示，齿牙19分布在外套杆16的中部位置，且与齿轮17啮合连接，保证齿轮17转动时通过齿牙19带动外套杆16上下移动。
32.具体的，如图2所示，输料管5的外部设置有与上釉室2底壁连接的固定套9，用于固定输料管5，保证其的稳定性。
33.综上所述，本实施例所提供的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，使用时，将陶瓷餐具放在放置板20上，然后启动驱动电机二18，驱动电机二18带动齿轮17转动，齿轮17通过齿牙19带动外套杆16上移，外套杆16带动放置板20上移，使得陶瓷餐具移动至喷头管10下方合适距离，启动驱动电机一14，驱动电机一14带动内杆15转动，内杆15通过防滑结构带动外套杆16同步转动，从而使得外套杆16带动放置板20转动，然后启动泵体6，泵体6将釉料箱4内的釉料通过输料管5从喷头管10均匀喷涂在陶瓷餐具，有利于提高陶瓷餐具的上釉均匀度；放置板20上移时，与防溅罩11接触，并推动弹簧8压缩，在弹簧8的作用下，防溅罩11与放置板20形成封闭空间，能防止釉料喷洒过程中向外部扩散，提高了上釉装置的防溅射效果。
34.实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。