一种防残留料理机的制作方法

本实用新型涉及一种料理机，尤其涉及一种防残留料理机。

背景技术：

传统的料理机其底罩与杯体连接处为了保证密封，其底罩顶部往水平方向延伸以延长密封圈深度，搅拌时固体容易残留在底罩顶部，搅拌效果差。为了克服上述缺陷，我们研制了一种改进的防残留料理机。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种防残留料理机，有效解决传统的料理机其底罩顶部往水平方向延伸以延长密封圈深度，导致的搅拌时固体容易残留在底罩顶部、搅拌效果差的问题。

本实用新型要解决其技术问题所采用的技术方案为：一种防残留料理机，包括杯体、底罩、加热所述底罩的发热体，杯体下方设有连接口，底罩与连接口连接，底罩内设有由电机驱动的搅拌刀，其特征在于：还包括密封圈，所述连接口内部周围设有阶梯，所述底罩顶部由外到内依次设有第一弯折和第二弯折，第一弯折上方设有由外到内逐渐往下倾斜的第一倾斜环面，第一弯折与第二弯折之间设有由外到内逐渐往下倾斜的第二倾斜环面，所述密封圈夹持在阶梯与底罩顶部外侧之间。

所述密封圈由底罩顶部外侧上方延伸到第二弯折下方。

所述密封圈为硅胶密封圈。

所述第一弯折与第二弯折方向相反。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型采用了上述的技术方案，该防残留料理机包括杯体、底罩、加热所述底罩的发热体，杯体下方设有连接口，底罩与连接口连接，底罩内设有由电机驱动的搅拌刀，其特征在于：还包括密封圈，所述连接口内部周围设有阶梯，所述底罩顶部由外到内依次设有第一弯折和第二弯折，第一弯折上方设有由外到内逐渐往下倾斜的第一倾斜环面，第一弯折与第二弯折之间设有由外到内逐渐往下倾斜的第二倾斜环面，所述密封圈夹持在阶梯与底罩顶部外侧之间。第一弯折与第二弯折加强了底罩强度的同时，也保证密封圈有足够的深度，第一倾斜环面与第二倾斜环面防止了固体在搅拌后的残留，搅拌效果好。所述密封圈由底罩顶部外侧上方延伸到第二弯折下方，密封圈有足够的深度，密封效果好。所述密封圈为硅胶密封圈，密封效果好，寿命长。所述第一弯折与第二弯折方向相反，使得第一倾斜环面与第二倾斜环面不至于太倾斜降低对密封圈夹持效果，也不至于太平而使得固体残留。

这样能有效解决传统的料理机其底罩顶部往水平方向延伸以延长密封圈深度，导致的搅拌时固体容易残留在底罩顶部、搅拌效果差的问题，并且本实用新型具有结构简单、使用方便、美观耐用的特点。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图。

图2为本实用新型的剖视图。

图3为图2的A处放大图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型及其具体实施方式作进一步详细说明：

参见图1至图3，本实用新型包括杯体1、底罩2、加热所述底罩2的发热体3，杯体1下方设有连接口4，底罩2与连接口4连接，底罩2内设有由电机驱动的搅拌刀5，其特征在于：还包括密封圈6，所述连接口4内部周围设有阶梯11，所述底罩2顶部由外到内依次设有第一弯折21和第二弯折22，第一弯折21上方设有由外到内逐渐往下倾斜的第一倾斜环面7，第一弯折21与第二弯折22之间设有由外到内逐渐往下倾斜的第二倾斜环面8，所述密封圈6夹持在阶梯11与底罩2顶部外侧之间。第一弯折21与第二弯折22加强了底罩2强度的同时，也保证密封圈6有足够的深度，第一倾斜环面7与第二倾斜环面8防止了固体在搅拌后的残留，搅拌效果好。

所述密封圈6由底罩2顶部外侧上方延伸到第二弯折22下方，密封圈6有足够的深度，密封效果好。

所述密封圈6为硅胶密封圈，密封效果好，寿命长。

所述第一弯折21与第二弯折22方向相反，使得第一倾斜环面7与第二倾斜环面8不至于太倾斜降低对密封圈6夹持效果，也不至于太平而使得固体残留。

这样的结构简单，使用方便，美观耐用，能有效解决传统的料理机其底罩顶部往水平方向延伸以延长密封圈深度，导致的搅拌时固体容易残留在底罩顶部、搅拌效果差的问题。

通过上述的结构和原理的描述，所属技术领域的技术人员应当理解，本实用新型不局限于上述的具体实施方式，在本实用新型基础上采用本领域公知技术的改进和替代均落在本实用新型的保护范围，应由各权利要求限定。