改善型下穿通道路口的制作方法

文档序号:2270600阅读:310来源:国知局
专利名称:改善型下穿通道路口的制作方法
技术领域
本实用新型涉及ー种下穿道路,具体地指ー种改善型下穿通道路ロ。
背景技术
一般的城市道路下穿通道如附图I所示,在交叉路ロ段下穿通道采用暗埋结构1,在暗埋结构I两端外采用“U”型敞ロ结构2与地面道路顺接。结构横断面如附图2所示。由于敞ロ结构2设置在交叉路ロ附近,它占用了较宽的地面道路,地面道路车道数減少,当左右转向车辆较多时,容易引起交通堵塞。例如对于双向八车道的道路(如附图1、2所示),在道路中间设置了双向四车道的地下通道后,地面道路单向只剰余2条车道,为了避免路ロ转弯车辆对直行车辆的影响,一般需通过局部道路拓宽增加车道,设置转向车道来解決。当道路拓宽条件有限,有些甚至受道路两侧建筑物控制而无法拓宽时,路ロ的交通条件将会很差,经常在地下通道敞开段两侧的地面道路上发生拥堵。·发明内容本实用新型的目的在于克服现有下穿通道路ロ的敞开段占用地面道路较多,影响地面道路车辆通行的问题,尤其是在交叉路ロ处车道数量減少容易堵塞的缺陷,提供ー种改善型下穿通道路ロ,来提高交叉路ロ交通疏解能力,缓解路ロ附近地面拥堵状况、改善地面道路交通环境。为实现上述目的,本实用新型所设计的改善型下穿通道路ロ,包括暗埋段和位于暗埋段两端的敞开段、以及位于敞开段两侧的侧墙,至少有一端的敞开段的ー侧或两侧的侧墙的顶部设置有向敞开段内侧延伸的扩展道路。优选地,所述侧墙为与地表垂直的直墙。优选地,所述扩展道路是在从侧墙顶部内伸的悬臂板上铺装路面构成。优选地,所述扩展道路与敞开段的两侧墙之间的地面的垂直距离大于或等于限界高度。进ー步地,所述扩展道路位于敞开段上方一侧设有向上的挡墙。本实用新型的有益效果通过改变传统的下穿通道敞开段“U”形结构形式,在不影响行车限界的前提下在侧墙顶部向内延伸形成扩展道路,以增加地面道路的宽度,此外,还可将敞开段侧墙做成直墙进ー步增加地面道路宽度,从而在投资增加不大的情况下,在路ロ附近增加车道数量、改善路ロ交通条件,具有很强的创造性和实用性。近年来随着城市机动车数量的大幅增长,城市道路下穿通道的数量日益増加,本实用新型可在绝大多数城市道路下穿通道等工程中推广应用,前景广阔。

图I为现有技术中下穿通道路ロ的平面布置图。图2为图I的纵向剖视图。[0012]图3为图I的敞开段的横向剖视图。图4为本实用新型的下穿通道路ロ的平面布置图。图5为图4的纵向剖视图。图6为图5的敞开段的横向剖视图。图中暗埋段I,敞开段2,地面道路3,侧墙4,下穿通道建筑限界5,扩展道路6,挡墙7。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进ー步的详细描述。 如图4飞所示,本实施例提供ー种改善型下穿通道路ロ,包括地面道路3,埋段I和位于暗埋段I两端的敞开段2、以及位于敞开段2两侧的侧墙4,敞开段2的侧墙4的顶部设置有向敞开段2内侧延伸的扩展道路6,且侧墙4为与地表垂直的直墙,该设计可以减小敞开段宽度,以增加地面道路3的宽度。扩展道路6是在从侧墙4顶部内伸的悬臂板(图未示)上铺装路面构成。如图6所示,利用扩展道路6増加了地面道路3的宽度,达到增设一条车道的效果,改善交叉路ロ处的交通条件,或避免道路右侧局部拓宽,減少道路用地。需要说明的是,扩展道路6可以增设在一端或两端的敞开段2上,且敞开段的两侧的侧墙4可以均增设扩展道路6,也可以只有一侧侧墙4增设扩展道路6,具体视地面交通需求而定。再如图5所示,扩展道路6与敞开段2的两侧墙4之间的地面的垂直距离大于或等于限界高度,在城市道路设计中一般需大于4. 5m。这是由于增加的扩展道路6纵向长度设置需要满足地下通道建筑限界要求,以保证车辆的正常通行,其具体设置与敞开段坡度和通道暗埋段深度有夫。关于限界高度的定义解释參照《城市道路工程设计规范》CJJ37-2012,其中3. 4道路建筑限界。扩展道路6位于敞开段2上方一侧设有向上的挡墙7。设置挡墙7以保证行车安全,避免车辆由扩展道路6上翻入敞开段2内。
权利要求1.ー种改善型下穿通道路ロ,包括暗埋段(I)和位于暗埋段(I)两端的敞开段(2)、以及位于敞开段(2)两侧的侧墙(4),其特征在于至少有一端的敞开段(2)的ー侧或两侧的侧墙(4)的顶部设置有向敞开段(2)内侧延伸的扩展道路(6)。
2.根据权利要求I所述的改善型下穿通道路ロ,其特征在于所述侧墙(4)为与地表垂直的直墙。
3.根据权利要求I或2所述的改善型下穿通道路ロ,其特征在于所述扩展道路(6)是在从侧墙(4)顶部内伸的悬臂板上铺装路面构成。
4.根据权利要求I或2所述的改善型下穿通道路ロ,其特征在于所述扩展道路(6)与敞开段(2)的两侧墙(4)之间的地面的垂直距离大于或等于限界高度。
5.根据权利要求I或2所述的改善型下穿通道路ロ,其特征在于所述扩展道路(6)位于敞开段(2)上方一侧设有向上的挡墙(7)。
专利摘要本实用新型公开了一种改善型下穿通道路口,包括暗埋段和位于暗埋段两端的敞开段、以及位于敞开段两侧的侧墙,至少有一端的敞开段的一侧或两侧的侧墙的顶部设置有向敞开段内侧延伸的扩展道路。通过改变传统的下穿通道敞开段“U”形结构形式,在不影响行车限界的前提下在侧墙顶部向内延伸形成扩展道路,以增加地面道路的宽度,此外,还可将敞开段侧墙做成直墙进一步增加地面道路宽度,从而在投资增加不大的情况下,在路口附近增加车道数量、改善路口交通条件,具有很强的创造性和实用性。
文档编号E01C1/04GK202658487SQ201220282419
公开日2013年1月9日 申请日期2012年6月15日 优先权日2012年6月15日
发明者孙文昊, 焦齐柱, 王腾飞, 李鸣冲, 王春梅, 刘浩, 孙春光 申请人:中铁第四勘察设计院集团有限公司
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