专利名称：对位平台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种对位平台，特别涉及一种用于制程中对位的结构。
背景技术：
高科技时代，进入奈米级的处理模式，对许多精密的产品于制程中有更高的要求，才能以最平稳的方式得到最高的产出，特别是光电及晶圆产业，其产品于x、y、θ的二.五维度的精密定位成为必备组件；习知已有于X轴上设置一套横向调整装置，再在I轴上设置一套纵向调整装置，最后于平面上设置一套旋转角度调整装置，层迭之下，便形成有相当高度的机构，层层间有误差，很难达到奈米级的要求。于是进一步提出种种改良结构，从三层式简化为单层式，一种并联式多轴同动的机构，被发展出来，最主要以导螺杆的方式带动，但是层迭之下，传动机构是设于调整机构的侧面；此种结构解决了高度上的问题，却也有侧 面传动，产生影响到部份传动的精密性，为了提供更符合实际需求的物品，创作人乃进行研发，以解决习知使用上易产生的问题。
发明内容针对现有技术存在的缺陷和不足，本实用新型的主要目的在于提供一种对位平台。为达成上述的目的，本实用新型采用以下技术方案一种对位平台包括一基座，至少两个对位组件，各对位组件固定于基座上，一载台，载台接于各对位组件之上；各对位组件具有一底框架，底框架一侧外固定一驱动件，使驱动件连接一驱动轴，驱动轴穿入底框架且枢接于底框架的两侧，驱动轴上枢接一底滑块，底滑块设有两翼，底滑块的两翼分别设置有一底导沟，让各底导沟分别贴靠于底框架另两侧顶端所设的一底导槽，底滑块顶面固定一顶导轨，顶导轨两侧分别设置一顶导槽，使于顶导轨上套接一顶滑块，顶滑块的两侧分别设置一顶导沟，让各顶导沟分别贴靠于顶导轨的顶导槽，顶滑块的顶面固接一固定环圈，固定环圈的外周侧有一外环沟，外环沟定位有至少两个滚珠，固定环圈外套有一活动环圈，活动环圈的内周侧有一内环沟，内环沟与各滚珠相接。对位平台发觉到间接传动的影响与误差，将驱动改设于直接传动，如此一来，精度提高，承载力提高，传动快，调整快，且整体的厚度也没变，却能达成更好的对准功用，可以大大提高产能与良率为使贵审查委员能更进一步了解本实用新型为达成预定目的所采取的技术、手段及功效，兹举一较佳可行的实施例，并配合图式详细说明如后，相信本实用新型的目的、特征与优点，当可由此得一深入且具体的了解。
图I为本实用新型的立体图。[0009]图2为本实用新型图I的圈部的放大立体图。图3为本实用新型对位组件的立体图。图4为本实用新型对位组件的立体分解图。
具体实施方式
如图I至4所示，为本实用新型一种对位平台，包括一基座2，至少两个对位组件I，各对位组件I固定于基座2上，一载台4，载台4接于各对位组件I之上；各对位组件I具有一底框架11,底框架11 一侧外固定一驱动件13，使驱动件13连接一驱动轴14，驱动轴
14穿入底框架11，且驱动轴14枢接于底框架11的两侧，驱动轴14上枢接一底滑块15，底滑块15设有两翼16，底滑块15的两翼16分别设置有一底导沟17，让各底导沟17分别贴 靠于底框架11另两侧顶端所设的一底导槽12，底滑块15顶面固定一顶导轨20，顶导轨20两侧分别设置一顶导槽21，使于顶导轨20上套接一顶滑块22，顶滑块22的两侧分别设置一顶导沟23，让各顶导沟23分别贴靠于顶导轨20的预导槽21，顶滑块22的顶面固接一固定环圈24,固定环圈24的外周侧有一外环沟25,夕卜环沟25定位有至少两个滚珠26,固定环圈24外套有一活动环圈27，活动环圈27的内周侧有一内环沟28，内环沟28与各滚珠26相接。驱动件13为一马达，驱动轴14为一螺杆，底滑块15为一中间有一螺纹沟18。底滑块15与顶导轨20间为十字状。其中对位组件I为四组，分别设于基座2的四角。其中相邻的对位组件I的底框架10间为呈角状，也就是说对角为X轴向设置，另一对角Y轴向设置。使各对位组件I的对位均由底框架11的驱动件13带动驱动轴14，让底滑块15横移或纵移，而顶滑块22与活动环区27则自由移动与转动，由各对位组件I彼此间调整达到对位的效用，当然对位组件I两组亦能使用，五组也能使用。其中图示固定环圈24是以至少两个螺丝锁接于顶滑块22上，且顶导轨20也是以至少两个螺丝锁接于底滑块15上，顶滑块22是呈π状,底滑块15是呈T状。综上所述的结构，本实用新型运用直接传动的设计以取代已往间接传动的机构，让最底层的驱动件与驱动轴直接产生动力驱动的效用，直接快速无误差地达到所欲定位的功用，至于相对关系的配置，则已有许多报告已展现，在此不再陈述，故本实用新型于机构上更精简，能降低周边控制组件的设计，对整体的精度对正，有很高的帮助，所以能提供很好的使用性，为一完全与习知不同的机构。以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种对位平台，包括一基座，至少两个对位组件，各对位组件固定于基座上，一载台，载台接于各对位组件之上；各对位组件具有一底框架，底框架一侧外固定一驱动件，使驱动件连接一驱动轴，驱动轴穿入底框架且枢接于底框架的两侧，驱动轴上枢接一底滑块，底滑块设有两翼，底滑块的两翼分别设置有一底导沟，让各底导沟分别贴靠于底框架另两侧顶端所设的一底导槽，底滑块顶面固定一顶导轨，顶导轨两侧分别设置一顶导槽，顶导轨上套接一顶滑块，顶滑块的两侧分别设置一顶导沟，让各顶导沟分别贴靠于顶导轨的顶导槽，顶滑块的顶面固接一固定环圈，固定环圈的外周侧有一外环沟，外环沟定位有至少两个滚珠，固定环圈外套有一活动环圈，活动环圈的内周侧有一内环沟，内环沟与各滚珠相接。
2.根据权利要求I所述的对位平台，其特征在于，所述驱动轴是螺杆，底滑块中间有一螺纹沟。
3.根据权利要求I所述的对位平台，其特征在于，底滑块与顶导轨间为十字状。
4.根据权利要求I所述的对位平台，其特征在于，所述对位组件为四组，分别设于基座的四角。
5.根据权利要求I所述的对位平台，其特征在于，相邻的对位组件的底框架间呈角状。
专利摘要本实用新型公开了一种对位平台，包括一基座，其上固定有至少两个对位组件，对位组件上设有一载台；对位组件具有一底框架，底框架一侧外固定一驱动件，驱动件连接一驱动轴，驱动轴穿入底框架且枢接于底框架的两侧，驱动轴上枢接一底滑块，底滑块设有两翼，两翼分别设置有一底导沟，底导沟分别贴靠于底框架另两侧顶端所设的底导槽，底滑块顶面固定顶导轨，顶导轨两侧分别设置顶导槽，顶导轨上套接顶滑块，顶滑块的两侧分别设置一顶导沟，让各顶导沟分别贴靠于顶导轨的顶导槽，顶滑块的顶面固接一固定环圈，固定环圈的外周侧有外环沟，外环沟定位有至少两个滚珠，固定环圈外套有活动环圈，活动环圈的内周侧有内环沟，内环沟与各滚珠相接。
文档编号B25B11/00GK202702066SQ201220263590
公开日2013年1月30日 申请日期2012年6月5日 优先权日2012年6月5日
发明者董文山 申请人:骏泽科技股份有限公司, 惠祥贸易股份有限公司