专利名称：图案化雾面转印膜结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种转印膜结构，尤指一种图案化雾面转印膜结构。
背景技术：
产品外观构装为影响消费行为的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产品 往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-molddecoration)为一项新型塑料加工技术， 其将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，于塑料制品射出成形同时，一并 进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相较于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式，模内装饰技术 可配合制品量产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时间，已广泛应用于电子 装置、家用电器等诸多领域。请参阅图1以及图2，一已知技术转印膜结构的剖面示意图，以及此转印膜结构的 应用状态剖面示意图。如图所示，转印膜结构10包括一基底薄膜层11以及上方次序堆栈 形成的一离型层12、一硬化膜层13、一饰纹层14以及一黏着膜层15。基底薄膜层11可为塑料、金属或纤维系薄膜，用以提供表面平坦且不易变形的基 材，以利后续涂布与印刷等加工。离型层12设置于基底薄膜层11表面上方，用以辅助基底 薄膜层11离型。硬化膜层13设置于离型层12表面上，由树脂溶液干燥形成，为具高硬度 的保护层。饰纹层14设置于硬化膜层13表面上，系由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜 层15设置于饰纹层14表面上方，转印时，提供一定的制程条件(例如预定温度值)，使黏 着膜层15紧密黏着于物品20表面，从而将转印膜结构10结合于物品20。最后，借着离型 层12将基底薄膜层11撕离，即完成图纹转印。上述转印膜结构10可提供亮面装饰图纹，然而实务上，雾面化以及亮面与雾面同 时呈现的图案化雾面设计亦为常见的外观设计方式。本案设计人有鉴于此，从而提出本实 用新型，提供可产生图案化雾面效果的转印膜结构，以满足多样化的产品外观设计需求。
实用新型内容本实用新型目的在于提供一种图案化雾面转印膜结构。为达上述目的，本实用新型揭示一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括一 基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面； 一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于 该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的 上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面； 以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。本实用新型揭示另一种图案化雾面转印膜结构，其包括一基底薄膜层，包括一由 微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基 底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面 形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜 层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。所述抗眩光剂的微粒子的粒径为0. 1微米至20微米。所述抗眩光剂的微粒子为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一 种陶瓷材料。所述遮蔽层的厚度为2微米至10微米。所述遮蔽层的材料为聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚 酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系 树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系 树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯中的一种。与现有技术相比，本实用新型所具有的有益效果为本实用新型藉由具有凹凸粗 糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以于基底薄膜层上方形成一光面图案，从而使得 间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有 光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。以上的概述与接下来的详细说明及附图，皆是为了能进一步说明本实用新型为达 成预定目的所采取的方式、手段及功效。而有关本实用新型其它目的及优点，将在后续的说 明及图式中加以阐述。
46、56第二硬化膜层551金属薄膜层
具体实施方式
首先，请参阅图3以及图4，图3为本实用新型图案化雾面转印膜结构的第一具体 实施例的剖面示意图，图4为此图案化雾面转印膜结构的上视图。如图所示，图案化雾面转 印膜结构30包括一基底薄膜层31、一遮蔽层32、一离型层33、一硬化膜层34、一饰纹层35， 以及一黏着膜层36。基底薄膜层31掺杂有由微粒子310构成的抗眩光剂，使基底薄膜层 31具有一凹凸粗糙的上表面。遮蔽层32覆盖于基底薄膜层31的上表面的局部区域，遮蔽 层32具有一光滑的上表面，以于基底薄膜层31的上表面形成一光面图案320。离型层33 设置于基底薄膜层31以及遮蔽层32的上表面。硬化膜层34设置于离型层33的上表面。 饰纹层35设置于硬化膜层34的上表面。黏着膜层36设置于饰纹层35的上表面。由于硬化膜层34是间隔离型层33邻接于基底薄膜层31及遮蔽层32，因此硬化膜 层34将同样形成凹凸粗糙表面，上方分布有光面图案320，而于转印膜应用时达到图案化 雾面效果。基底薄膜层31为提供后续涂布与印刷等加工的基材，应具备高平坦度且不易变 形，可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚 氯乙烯系树脂等高分子聚合物基材，或选用玻璃纸、涂布纸、赛珞凡等纤维系薄膜，或上述 薄膜组成的复合薄膜基材，于制程时，掺入由微粒子310构成的抗眩光剂混合制备原料，经 由热吹膜成形为片状结构，或制作为可连续进行涂布及印刷工序的大面积卷装结构。基底 薄膜层31的厚度约为5微米(μ m)至300微米(μ m)。所述的抗眩光剂可选用氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石、氧化钡等陶瓷材料， 微粒子310的粒径约为0.1微米(μπι)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜层31内部及表 面，将可使其表面结构凹凸粗糙。遮蔽层32系以凹版印刷或网版印刷方式涂布于基底薄膜层31表面上方，经过干 燥固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树 脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚 胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯 氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。遮蔽层32的厚度约为2微米(μ m)至10微米(μ m)。离型层33用以辅助基底薄膜层31及遮蔽层32离型，系以涂布设备将原料溶液涂 布于基底薄膜层31及遮蔽层32的表面上方，经过加热干燥或紫外线照射固化而形成，可选 用聚硅氧烷系树脂、三聚氰胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素 系树脂、橡胶系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯_乙酸乙烯酯共 聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系树脂等材料，并根据材料种类，采取适当的固化方式。离 型层33的厚度约为0.5微米(μπι)至40微米(μπι)。硬化膜层34为具有高硬度的保护层，系以涂布设备将原料溶液涂布于离型层33 表面上方，经过固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、 聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺 系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。硬化膜层34的厚度约为3微米(μ m)至60微 米(ym)。硬化膜层34邻接离型层33的表面将同样形成凹凸粗糙表面，上方分布有光面图 案320，可使转印物品产生图案化雾面效果。饰纹层35包括一油墨层350，系采用网版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷 方式制作形成，提供油墨装饰图纹，其印刷原料一般可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、 聚丙烯酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维 素酯系树脂、醇酸树脂等树脂为结合剂加上颜料混合制得。黏着膜层36可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树脂、聚 酰胺系树脂等材料，以涂布设备将原料溶液涂布于饰纹层35表面上方，经过干燥形成。黏 着膜层36的厚度约为3微米(μ m)至50微米(μ m)。接着，请参阅图5，本实用新型的图案化雾面转印膜结构的第二具体实施例的剖面 示意图。此实施例中，图案化雾面转印膜结构40包括一基底薄膜层41、一遮蔽层42、一离 型层43、一第一硬化膜层44、一饰纹层45、一第二硬化膜层46，以及一黏着膜层47。基底薄 膜层41掺杂有由微粒子410构成的抗眩光剂，使基底薄膜层41具有一凹凸粗糙的上表面。 遮蔽层42覆盖于基底薄膜层41的上表面的局部区域，遮蔽层42具有一光滑的上表面，以 于基底薄膜层41的上表面形成一光面图案。离型层43设置于基底薄膜层41以及遮蔽层 42的上表面。第一硬化膜层44设置于离型层43的上表面。饰纹层45包括一油墨层450， 设置于第一硬化膜层44的上表面。第二硬化膜层46设置于饰纹层45的上表面。黏着膜 层47设置于第二硬化膜层46的上表面。图案化雾面转印膜结构40中，第一硬化膜层44将同样形成凹凸粗糙表面，并分布 有光面图案，而于应用时达到图案化雾面效果。同时，饰纹层45与黏着膜层47之间增设的 第二硬化膜层46将可阻挡黏着膜层47的胶水向下渗漏，防止饰纹层45的油墨图纹受到破 坏，且可进一步加强膜层结构强度。上述第一、二具体实施例的图案化雾面转印膜结构中，饰纹层仅由单一油墨层构 成，然实务上，饰纹层可为复合结构。请参阅图6，本实用新型的图案化雾面转印膜结构的第 三具体实施例的剖面示意图。此实施例中，图案化雾面转印膜结构50包括次序堆栈的一基 底薄膜层51、一遮蔽层52、一离型层53、一第一硬化膜层54、一饰纹层55、一第二硬化膜 层56以及一黏着膜层57，基底薄膜层51掺杂有由微粒子510所构成的抗眩光剂。其中饰 纹层55包括一油墨层550以及一金属薄膜层551，油墨层550设置于第一硬化膜层54的上 表面，金属薄膜层551则设置于油墨层550的上表面。第二硬化膜层56设置于金属薄膜层 551与黏着膜层57之间。综上所述，本实用新型的图案化雾面转印膜结构系于具有凹凸粗糙的上表面的基 底薄膜层上方设置遮蔽层，以于基底薄膜层上方形成光面图案，使得间隔离型层邻接于基 底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，并分布有光面图案，于转印膜应用 时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。
权利要求一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。
2.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子 的粒径为0. 1微米至20微米。
3.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂的微粒子 为氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
4.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的厚度为2微 米至10微米。
5.根据权利要求1所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的材料为聚 胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树 月旨、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系 树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸酯 中的一种。
6.一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的 上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以 于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面； 一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面； 一饰纹层，设置于该第一硬化膜层的上表面； 一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及 一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。
7.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂微粒子的 粒径为0. 1微米至20微米。
8.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该抗眩光剂微粒子为 氧化硅、氧化钛、碳黑、碳酸钙、滑石以及氧化钡中的一种陶瓷材料。
9.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的厚度为2微 米至10微米。
10.根据权利要求6所述的图案化雾面转印膜结构，其特征在于，该遮蔽层的材料为自 由聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系 树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚 砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂、异氰酸 酯中的一种。
专利摘要一种图案化雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一遮蔽层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层及一黏着膜层。该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；遮蔽层具有一光滑的上表面，覆盖于基底薄膜层的上表面的局部区域，以于基底薄膜层上方形成一光面图案；离型层设置于基底薄膜层及遮蔽层的上表面；硬化膜层设置于离型层的上表面；饰纹层设置于硬化膜层的上表面；黏着膜层设置于饰纹层的上表面。其中，间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，且上方分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果。
文档编号B32B27/18GK201712399SQ201020207468
公开日2011年1月19日 申请日期2010年5月28日 优先权日2010年5月28日
发明者蔡明伦, 谢宇恒, 黄宋因 申请人:胜昱科技股份有限公司