专利名称：一种表面硬化膜结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种表面硬化膜的结构，具体涉及一种可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，以提升该基板的环境稳定性与机械强度的基板表面硬化膜结构。
背景技术：
随着光电、微机电以及光学组件产品逐渐走向轻薄化、可携带性以及多元应用的潮流趋势下，塑料基板所具有的质量轻及高可塑特性，已渐渐取代过去采用玻璃或其它基板所制作的组件；然而，塑料基板使用一段时间后，塑料基板表面容易产生刮痕与磨损，进而影响相关组件的质量与寿命。过去为了提升塑料基板的应用价值，必须在基板表面设置硬化膜(HardCoating)，以改善塑料基板的环境稳定性与机械强度；然而在现有的硬化膜使用技术领域中，可以作为硬化膜的材料有很多种，包含类钻碳膜(Diamond Like Carbon ;DLC)、硅基化合物(Silicon-BasedCompound)及金属氧化物等；其中以二氧化娃硬化膜，为具有较低的折射率(约1.46)及较为优异的硬度，已广泛地应用在各种以塑料基板为主的组件的光学镀膜上。对于目前制作二氧化硅硬化膜的技术上，许多塑料原材生产及相关上游塑料加工产业仍以浸溃法(Dipping)将基板浸于特定溶液中以达到沉积二氧化硅硬化膜的技术为主流，但是，由于浸溃法容易受到塑料基板本身形状的影响，使得二氧化硅硬化膜的均匀性不佳，降低制作相关组件下游制程的优良率，且基板所浸泡的特定溶液中需要用高含量的溶剂加以稀释，以便于浸溃成型；然而，特定溶液中因溶剂含量高导致固含量较低，当浸溃成型溶剂挥发后，形成于塑料基板表面的二氧化硅硬化膜较薄，导致整体硬度较低(约为HB)。另一种现有基板硬化结构如图1及图2所示，该基板11先与PMMA (聚甲基丙烯酸甲脂)层12共挤出，使该基板11表面形成有PMMA (聚甲基丙烯酸甲脂)层12，再将PMMA层12表面设置硬化膜13，此硬化结构虽可达到3H硬度；然而，多层结构的设置成型程序较多且成本较高。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上，以提升基板的环境稳定性与机械强度的基板表面硬化膜结构。为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种表面硬化膜结构，其特征在于，所述硬化膜结构为设置在基板上的表面硬化膜，在所述基板至少一面设置有UV层，在所述UV层上附着有耐磨涂层，所述耐磨涂层的厚度为5 50 μ m。其中优选的技术方案是，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面。[0009]优选的技术方案还有，所述UV层与耐磨涂层设置在基板下表面。优选的技术方案还有，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面及下表面。进一步优选的技术方案还有，所述耐磨涂层的厚度为30~40μm。进一步优选的技术方案还有，所述基板为压克力板。进一步优选的技术方案还有，所述基板为PC板。本实用新型的优点和有益效果在于:由于在基板至少一表面设置有UV层并涂布有耐磨涂层，而耐磨涂层的厚度为5 50 μ m,由于表面的UV层与耐磨涂层使整体基板表面达到硬化耐磨作用，从而提升了基板的环境稳定性与机械强度，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上。
图1是现有基板表面硬化结构的结构示意图；图2是现有基板表面硬化结构的结构立体图；图3是本实用新型表面硬化膜结构的结构示意图；图4是本实用新型表面硬化膜结构的结构立体图。图中:1、基板；2、UV层；3、耐磨涂层;4、纳米粒子;11、上表面；12、下表面。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。如图3、4所不,本实用新型是一种表面硬化膜结构,该基板1至少一表面设有UV层2 (固化硬质层)，在UV层2上涂布设有耐磨涂层3，而耐磨涂层3的厚度为5 50 μ m,如图所示的实施例中，UV层2与耐磨涂层3设置于基板I上表面11及下表面12 ;当然也可视使用者所需设置于基板I上表面11，或者设置于基板I下表面12。其中，基板1可以为压克力板或者PC (聚碳酸酯)板等塑料基板，耐磨涂层3的厚度较佳者为30~40μm,耐磨涂层3中设有纳米粒子4 (可以为二氧化硅)，以增加该耐磨涂层2的硬度。在基板1表面设置有UV层2与耐磨涂层3，由于UV层2与耐磨涂层3可使整体基板I表面达到硬化及耐磨的作用，可达到至少3H硬度，以提升基板I的环境稳定性与机械强度，可应用于触控屏幕、光学膜片(例如棱镜片、扩散板、偏光片等)、按键(例如电器产品的按键)、镜片(例如眼镜、相机镜头等)或电器产品的外壳等产品上，以达到耐磨防刮的功效，并增加产品的质量与使用寿命。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种表面硬化膜结构，其特征在于，所述硬化膜结构为设置在基板上的表面硬化膜，在所述基板至少一面设置有UV层，在所述UV层上附着有耐磨涂层，所述耐磨涂层的厚度为5 50 μ m0
2.如权利要求1所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面。
3.如权利要求1所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述UV层与耐磨涂层设置在基板下表面。
4.如权利要求1所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述UV层与耐磨涂层设置在基板上表面及下表面。
5.如权利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述耐磨涂层的厚度为30 40 μ m。
6.如权利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述基板为压克力板。
7.如权利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜结构，其特征在于，所述基板为PC板。
专利摘要本实用新型公开了一种表面硬化膜结构，该硬化膜结构为设置在基板上的表面硬化膜，在基板至少一面设置有UV层，在UV层上附着有耐磨涂层，耐磨涂层的厚度为5~50μm，UV层与耐磨涂层设置在基板的上表面和/或下表面。由于在基板至少一表面设置有UV层并涂布有耐磨涂层，而耐磨涂层的厚度为5~50μm，由于表面的UV层与耐磨涂层使整体基板表面达到硬化耐磨作用，从而提升了基板的环境稳定性与机械强度，可应用于触控屏幕、光学膜片、按键、镜片等产品上。
文档编号B32B27/06GK202965374SQ201220518768
公开日2013年6月5日 申请日期2012年10月10日 优先权日2012年10月10日
发明者周永南 申请人:江阴通利光电科技有限公司