一种高透光率的金色类双银low-e玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrOX层，第二层为AZO层，第三层为Si层，第四层为AZO层，第五层为Cu层，第六层为CrNxOy层，第七层为SnO2层，第八层为AZO层，第九层为Si层，第十层为AZO层，第十一层为Ag层，第十二层为CrNxOy层，最外层为Si3N4层。本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
【专利说明】一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃
【【技术领域】】
[0001]本发明涉及一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
【【背景技术】】
[0002]镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。但由于市场上现有的金色镀膜玻璃产品，色调暗淡且生产成本高，且大多数为阳光控制镀膜玻璃。
【
【发明内容】
】
[0003]本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
[0004]本发明是通过以下技术方案实现的:
[0005]一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrOjl 21，第二层为AZ0层22，第三层为Si层23，第四层为AZ0层24，第五层为Cu层25，第六层为CrNxOy层26，第七层为SnO 2层27，第八层为AZ0层28，第九层为Si层29，第十层为AZ0层210，第^ 层为Ag层211，第十二层为CrNxOy层212，最外层为Si 3N4层213。
[0006]如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SSTZrOx层21的厚度为30?40nmo
[0007]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第二层AZ0层22的厚度为10?15nm，第四层AZ0层24的厚度10?20nm，第八层AZ0层28的厚度为8?12nm，第十层为AZ0210的厚度为10?20nm。
[0008]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第三层Si层23的厚度为3?5nm，第九层Si层295?8nm。
[0009]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第五层Cu层25的厚度为10?15nm。
[0010]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第六层CrNxOy层26和第十二层CrNxOy层212的厚度均为3nm?
[0011]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第七层SnOjl 27的厚度为60nmo
[0012]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述第十一层Ag层211的厚度为10?15nm。
[0013]如上所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，其特征在于所述最外层Si3N4层213的厚度为50nmo
[0014]与现有技术相比，本发明有如下优点:
[0015]1、本发明特殊膜系的金色类双银L0W-E玻璃，色泽鲜艳，而且透光率高，达到70%以上；Ο
[0016]2、本发明与采用金作为功能层生产的金色相比较，Si作为功能层的成本不到用金的千分之一，且产品的辐射率仅0.02，节能效果显著。
[0017]3、本发明采用铜替代一层银，在保证了金色效果的同时比普通的双银L0W-E玻璃成本更低。
【【专利附图】
【附图说明】】
[0018]图1是本发明结构示意图。
【【具体实施方式】】
[0019]一种高透光率的金色类双银L0W-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrOjl 21，第二层为AZ0层22，第三层为Si层23，第四层为AZ0层24，第五层为Cu层25，第六层为CrNxOy层26，第七层为SnOjl 27，第八层为AZ0层28，第九层为Si层29，第十层为AZ0层210，第i 层为Ag层211，第十二层为CrNxOy层212，最外层为Si 3N4层213。
[0020]所述第一膜层即最内层为SSTZrOjl 21，即掺锆氧化不锈钢层，通过在不锈钢内掺锆，在反应溅射时提高膜层的折射率，达到2.0左右，从而提升复合膜系的透过率。作调节金色颜色层，可得到较黄的金色效果。SSTZrOjl 21的厚度为30?40nm，优选35nm，nm是纳米，lm = 109nm。
[0021]所述第二层AZ0层22，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，平滑Si层，为S1、Cu层作铺垫，降低辐射率。AZ0层的厚度为10?15nm。优选12nm。
[0022]所述第三层Si层23，即硅层，为功能层，用来作为金色提供层。Si层的厚度为3?5nm，优选 4nm。
[0023]所述第四层AZ0层24，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，由于Si溅射后成簇状结构，通过用AZ0层平滑Si层，为下层镀Cu起打底作用。为Cu层作铺垫，降低辐射率。AZ0层的厚度为10?20nm。优选15nm。
[0024]所述第五层Cu层25，即金属铜层，为功能层，降低成本，色泽鲜艳。Cu层的厚度为10 ?15nm，优选 12nm。
[0025]所述第六层CrNxOy层26，即氮氧化铬层，提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。CrNxOy层26的厚度为3nm?
[0026]所述第七层SnOjl 27，即氧化锌层，为中间介质层，保护层。SnO 2层27的厚度为60nmo
[0027]所述第八层为AZ0层28，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，平滑Si层，为S1、Ag层作铺垫，降低辐射率。AZ0层28的厚度为10nm。
[0028]所述第九层为Si层29，即硅层，为功能层，用来作为金色提供层。Si层29的厚度为5?8nm,
[0029]所述第十层为AZ0210，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，由于Si溅射后成簇状结构，通过用AZ0层平滑Si层，为下层镀Ag起打底作用，为Ag层作铺垫，降低辐射率。AZ0层210的厚度为10?20nm，优选15nm。
[0030]所述第十一层为Ag层211，即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。
[0031]第十二层为CrNxOy层212，即氮氧化铬层，提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。CrNxOy层212的厚度为3nm?
[0032]所述最外层Si3N4层213，即氮化硅层；顶层介质层，Si 3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，设置在最外层作为保护整个膜层的第一道壁皇。用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料S1:Al = 92:8，密度96%，提高膜层的物理性能和抗氧化性能。Si3N4层的厚度为50nm。
[0033]Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
[0034]制备所述的高透光率的金色类双银L0W-E玻璃的方法，包括如下步骤:
[0035](1)磁控溅射SSTZrOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe:Zr = 80:20，氩氧比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量；
[0036](2)磁控溅射氧AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，即AZ0靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，为S1、Cu层作铺垫；
[0037](3)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500?550SCCM ；
[0038](4)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷ZnAZO靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量02，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，为Cu层作铺垫；
[0039](5)磁控溅射Cu层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，体流量500?550SCCM ；
[0040](6)磁控溅射CrNxOy层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，渗少量氧气；
[0041](7)磁控溅射SnOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量；
[0042](8)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn，即AZ0靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量02，氩氧比为400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，为S1、Ag层作铺垫；
[0043](9)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500?550SCCM ；
[0044](10)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn，即AZ0勒，用氩气作为溅射气体，掺入少量02，氩氧比为400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，为Ag层作铺垫；
[0045](11)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，气体流量500?550SCCM。
[0046](12)磁控溅射CrNxOy层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，渗少量氧气；
[0047](13)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶，硅铝质量百分比92:8，氩氮比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氮比决定了成膜的质量。磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比S1:Al = 92:8 ;此处得到的是Si3N4，而金属A1是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属A1并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属A1混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层。
【权利要求】
1.一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(I)，其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层，其中第一膜层即最内层为SSTZrOx层(21)，第二层为AZO层(22)，第三层为Si层(23)，第四层为AZO层(24)，第五层为Cu层(25)，第六层为CrNxOy层(26)，第七层为SnO 2层(27)，第八层为AZO层(28)，第九层为Si层(29)，第十层为AZO层(210)，第^ 层为Ag层(211)，第十二层为CrNxOy层(212)，最外层为 Si3N4层(213) ο
2.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SSTZrOx层(21)的厚度为30?40nmo
3.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二层AZO层(22)的厚度为10?15nm，第四层AZO层(24)的厚度10?20nm，第八层AZO层(28)的厚度为8?1211111，第十层为六20(210)的厚度为10?20nm。
4.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Si层(23)的厚度为3?5nm，第九层Si层(29)5?8nm。
5.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层Cu层(25)的厚度为10?15nm。
6.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层CrNxOy层(26)和第十二层CrNxOy层(212)的厚度均为3nm。
7.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层SnOJl (27)的厚度为 60nmo
8.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第i^一层Ag层(211)的厚度为10?15nm。
9.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层Si3NJl (213)的厚度为 50nm。
【文档编号】B32B17/00GK204222314SQ201420674987
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月12日 优先权日:2014年11月12日
【发明者】魏佳坤, 林改, 郑梅鹏, 宋晓群, 郑凯永 申请人:揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司