专利名称：流体喷头的制作方法
背景流体喷射装置可用于各种不同的技术中。举例来说，某些打印装置如打印机、复印机和传真机通过将打印流体的细滴从流体喷孔阵列喷射到打印介质上来进行打印。在流体喷头上通常形成了流体喷射机构，流体喷头可动地联接在打印装置的主体上。通过对诸如单个流体喷射机构、流体喷头在打印介质上的移动，以及介质通过装置的运动等因素的精细控制，就可允许在介质上形成所需的图象。
某些流体喷射装置可设置成从单个流体喷头中喷出多种不同的流体，例如不同的墨水颜色和/或成分的流体。在这种流体喷头中，每种单独的流体通常从一组紧密间隔的流体喷孔中喷出，用于不同流体的不同孔组间隔开更大的距离。这种流体喷头的使用与每种不同的流体使用单独的流体喷头相比，可具有若干优点。例如，单个流体喷头通常比多个流体喷头更便宜，而且对于同等尺寸的流体喷射装置而言还可比多个流体喷头占用更少的空间。
虽然使用单个流体喷头来喷出多种不同的流体可比使用多个流体喷头更具优点，但是这种流体喷头也会出现各种问题。举例来说，当利用(或使用)任何流体喷射装置进行打印时，流体的微滴可能终止在流体喷头的喷出流体的孔周围的表面上，而非终止在预定的介质上。在流体喷头设置成可喷射多种流体的情况下，这些杂散的液滴可能污染用于不同流体的相邻流体喷孔，从而引起不希望有的流体混合。
另外，许多流体喷射装置都包括一种从流体喷头上清除掉杂散液滴的擦拭器结构。通常这种擦拭器结构擦拭过流体喷头的表面，在其前面推起流体波浪。根据不同流体喷孔的间隔、流体喷头的尺寸以及擦拭器结构的构造和运动方向，这种擦拭器结构可能会使不同的流体混合，从而会导致一种流体的流体喷孔与其它流体的流体喷孔相互污染。
流体的混合可能导致彩色重现的问题，并可能还导致其它问题。例如，流体喷射装置所普遍使用的某些流体可与从同一装置中喷射出来的其它流体发生反应。具有这种特性的墨水通常称为“反应性墨水”。如果其中一种反应性流体不是墨水，那么可称之为“定影流体”。在这两种反应性流体从同一流体喷射装置中喷出的情况下，这些流体可配置成在一种流体的液滴和另一流体的液滴相遇的边界处立即硬化，从而防止在接受流体的介质上出现混色和/或洇色。因此，在一种反应性流体污染了不同反应性流体的喷孔之处，这些流体会硬化并阻塞喷孔。因此难于在清理工位处通过经由喷孔“喷溅”或者发射流体来除去硬化的流体。
通过增大流体喷头的尺寸，并将用于每种流体的流体喷孔与其它流体的孔分布得更开一些，可以稍微地减轻这些问题。然而，这会增加流体喷射装置的成本和尺寸，从而会抵消使用单个流体喷头来喷出多种流体的一些优点。
概要本发明的一些实施例提供了一种流体喷头，其中这种流体喷头包括设在基底层之上的孔层。这种流体喷头还包括在流体喷头中所形成的第一组流体喷孔和第二组流体喷孔，以及在流体喷头中所形成的细长通道，其中第一组流体喷孔和第二组流体喷孔设置成用于喷出两种不同的流体，该通道设在第一组流体喷孔和第二组流体喷孔之间的一定位置处，以防止从第一组流体喷孔和第二组流体喷孔中喷出的流体的交叉污染。
附图简介
图1是根据本发明一个实施例的流体喷射装置的立体图。
图2是图1所示实施例的第一备选流体喷头的断开的放大平面图。
图3是图2的流体喷头沿着图2中的线3-3的剖视图。
图4是图1所示实施例的第二备选流体喷头的断开的放大平面图。
图5是图1所示实施例的第三备选流体喷头的断开的放大平面图。
图6是图1所示实施例的第四备选流体喷头的断开的放大平面图。
图7是图1所示实施例的第五备选流体喷头以及适用于这种流体喷头的示例性擦拭器结构的断开的放大平面图。
图8是图7的流体喷头沿着图7中的线8-8的剖视图。
图9是图7的流体喷头的一个备选实施例的剖视图。
图10是图1所示实施例的第六备选流体喷头的断开的放大平面图。
图11是图10的流体喷头沿着图10中的线11-11的剖视图。
详细介绍图1显示了根据本发明的流体喷射装置10的一个示例性实施例。流体喷射装置10采用了台式打印机的形式，并包括主体12，以及可操作地结合在主体上的流体喷射墨盒14。流体喷射墨盒14设置成可使流体通过流体喷头18而沉积在邻近墨盒的介质16上。流体喷射装置10中的控制电路控制流体喷射墨盒14在介质16上的运动、介质在流体喷射墨盒下方的运动，以及流体从流体喷射墨盒上的单个流体喷孔中的发射。
虽然在本文中显示为处于打印装置的范围内，但是根据本发明的流体喷射装置可用于许多种不同的应用场合。另外，虽然所述打印装置采用台式打印机的形式，但是根据本发明的流体喷射装置可采用任何其它合适类型的打印装置如复印机或传真机的形式，并可具有任何其它所需的尺寸、大号或小号的样式。
图2显示了流体喷头18的一部分表面的放大平面图。流体喷头18包括用于将第一流体输送到流体喷头中的第一流体进给槽20a，以及用于将第二流体输送到流体喷头中的第二流体进给槽20b。为了清楚起见，只显示了两条流体进给槽。然而应当理解，根据本发明的流体喷头可以具有任意所需数量的流体进给槽，并且每种类型的喷射流体通常具有至少一条进给槽。例如一种六色的流体喷头可具有六条或更多条流体进给槽。
流体喷头18还包括至少一个用于各流体进给槽20a，20b的流体喷孔。在所示实施例中，对于每条流体进给槽，流体喷头18都包括单独的两列孔列21和21’。对应于流体进给槽20a的孔以22a表示，对应于流体进给槽20b的孔以22b表示。使用成列的孔22a和22b来喷出流体，有助于减小在流体喷头18经过介质16时的流体喷头或墨盒的宽度，从而有助于减少打印所需图象的时间。尽管所示实施例的每条流体进给槽20a和20b具有两列相关的流体喷孔，但应当理解，每条流体进给槽也可仅具有单列相关的流体喷孔，或者具有两列以上的孔。
随着在流体喷射技术上的最新进展，已经可以将流体进给槽20a和20b非常接近地放置在一起，例如间隔开大约1.2-1.4毫米。这是很有利的，因为这有助于减小流体喷头18的尺寸，从而降低流体喷头的制造成本。然而，这也使得与孔22b最紧密相邻的孔22a设置成离孔22b大约1毫米。
为了有助于防止从流体喷孔22a喷出的流体与从流体喷孔22b喷出的流体的交叉污染，流体喷头18还包括设在流体喷孔22a和22b之间的交叉污染隔离结构。图2显示了合适的交叉污染隔离结构30的第一示例性实施例，图3显示了该隔离结构的横截面视图。隔离结构30包括一对沟槽或通道32a，32b，其构造成可在流体喷头18的表面中形成充分的断开，从而防止来自流体喷孔22a的流体浆扩布至足以污染流体喷孔22b那么远的程度，反之亦然。在某些实施例中，通道32a和32b还构造成可防止在擦拭工位处被推至擦拭器前面的流体波浪扩展到相邻的流体喷孔上。这有助于防止因擦拭器而使不同的流体混合，从而有助于防止因擦拭器而导致的孔22a和22b的交叉污染。尽管图2-3的实施例具有两条大致平行的通道32a和32b，但是交叉污染隔离结构的其它实施例可具有三、四或更多条的平行通道。
通道32a和32b可具有任何合适的结构。参看图3，所示的流体喷头18包括基底层34、中间的保护层36以及孔层38。基底层34的表面通常包括电路结构(未示出)，其设置成用于在被脱离基底的电路触发时使流体从流体喷孔中喷出，而孔层包括形成了流体喷孔和相应发射室的结构。在基底层中形成了流体进给槽20a和20b，而流体喷孔22a和22b延伸穿过保护层36和孔层38。在孔层38中形成了所示实施例的通道32a和32b，其完全地穿过孔层而延伸到保护层36。尽管所示实施例的通道32a和32b延伸穿过孔层38的整个厚度，但是应当理解，这些通道也可以只是部分地延伸穿过孔层。
在某些实施例中，保护层36构造成可保护基底层34的表面及其上面的电路结构免受可进入通道32a和32b的任何反应性和/或腐蚀性流体的侵蚀。保护层36可由任何合适的材料制成，包括但不限于环氧基光刻胶，例如可从MicroChem，Inc.或Sotec Microsystems公司得到的SU-8光刻胶。类似地，保护层36可具有任何合适的厚度。在保护层36由SU-8形成的情况下，可采用大约两至四微米的相对较薄的层来形成保护层36。这会是有利的，因为相对较薄的保护材料层可比较厚的保护层更便宜地制造出。可以理解，如果需要，可以完全地省略保护层36。在省略了保护层36的实施例中，基底层34的表面上的电路结构可包括本领域的技术人员所知的其它保护手段。
通道32a和32b可形成于流体喷孔22a和22b之间的任何合适的位置。在所示实施例中，通道32a和32b之间的中间点位于流体进给槽20a和流体进给槽20b之间的大致中间位置，但是，这两个通道也可根据需要而居中于另一位置处。在某些实施例中，通道32a和32b基本上居中于流体喷孔22a和22b的中间，这是因为将这些居中通道设置成更接近孔22a和22a之间的中点可允许在流体浆碰上通道之前在通道的任一侧上形成更大的流体浆。这使得流体浆更加不太可能地填充通道以及由此而漫溢过通道。
通道32a和32b可分开任意合适的距离。例如，在流体进给槽20a和20b分开大约1.4毫米距离的情况下，通道32a和32b可分开大约25-100微米范围内的距离，更典型地分开大约50微米的距离。同样，通道32a和32b可具有任何合适的宽度。合适的宽度包括但不限于大约20-80微米范围内的宽度。更典型的是，通道32a和32b具有大约50微米的宽度。
通道32a和32b也可具有任何合适的长度。典型地，通道32a和32b设置成延伸到至少与流体喷孔的列21和21’的长度那样远的程度，使得在任何流体喷孔22a和任何流体喷孔22b之间不存在直线路径。在某些实施例中，通道32a和32b可设置成延伸超出流体喷孔列21和21'的端部，从而进一步防止了交叉污染。在这些实施例中，通道32a和32b可延伸至超出流体喷孔列21和21’的末端达任意所需的距离。合适的距离包括但不限于超过流体喷孔列21和21’的各端达大约300-500微米。在某些实施例中，由于用来制造流体喷头18的制造工艺的缘故，流体喷孔的列21和21’可包括一些未与流体进给槽20a或20b流体相连的孔。在这些实施例中，通道32a和32b可具有延伸到达(或超过)最后一个流体相连的流体喷孔的长度。
同样地，通道32a和32b可具有任何合适的深度。举例来说，如上所述，通道32a和32b可以只延伸通到孔层38的中途，或者一直延伸穿过整个孔层38。通道32a和32b的典型深度包括但不限于从大约10微米至孔层的整个深度，孔层通常为20-100微米厚。
通道32a和32b可以任何合适的方式来形成。在某些实施例中，在形成流体喷孔22a和22b的时候来形成通道32a和32b。在这些实施例中，通道32a和32b的形成不会显著地增加整个流体喷头制造过程的成本和/或难度。用于形成通道32a和32b的方法通常取决于形成孔层38的材料。在某些实施例中，光刻胶如SU-8光刻胶可用来形成孔层38。
图4显示了根据本发明的交叉污染隔离结构130的第二备选实施例。在这个实施例中，隔离结构130包括单个连续的通道132。通道132可具有任何合适的尺寸，包括但不限于图2-3所示实施例的各通道32a和32b所用的上述尺寸。所示通道132延伸至超出了流体喷孔的列121和121’的长度，并设在流体进给槽120a和120b之间的大致中途处。同样，通道132可具有任何合适的宽度。合适的宽度包括但不限于大约50-500微米之间(或者为流体进给槽120a和120b之间间隔的大约5-50％)的宽度。
图5显示了根据本发明的交叉污染隔离结构230的第三备选实施例。隔离结构230包括以闭环形式包围了流体进给槽220a和流体喷孔222a的第一通道232a，以及以闭环形式包围了流体进给槽220b和流体喷孔222b的第二通道232b。在这里依照第一通道232a来介绍隔离结构230的细节。但是，应当理解这种介绍同样适用于第二通道232b。
在某些实施例中，通道232a设置成基本上完全地包围了流体喷孔222a，从而有助于防止流体浆从流体喷孔在任意方向上扩展开来。通道232a可具有任何合适的尺寸，并可形成于流体喷头18上的任何合适位置中。通常，通道232a设置成沿着通道的长边或尺寸234而离最近的流体喷孔222a为大约200-500微米，沿着通道的短边或尺寸236而离最近的流体相连的流体喷孔为大约100-500微米，然而通道232a也可以与流体喷孔222a分开一段超出这些范围之外的距离。通道232a也可具有任何合适的宽度。通道232可具有大约20到200微米之间、或大约50-100微米之间的宽度。尽管所示通道232a和232b完全地包围了相应的流体喷孔，但是如果需要，这些通道也可仅仅部分地包围流体喷孔。
图6显示了在流体进给槽320a和320b之间形成的根据本发明的合适交叉污染隔离结构330的另一实施例。隔离结构330不具有在流体喷孔列的整个长度上以连续方式延伸的通道，而是包括栅格状地布置的多个较短通道332。在所示实施例中，这些单个的较短通道布置成两列通道列334a和334b。通道列334a的单个通道相对于通道列334b的单个通道沿着通道列的长度方向而偏移开。这种偏移结构有助于保证在槽320a和320b的相应流体喷孔322a和322b之间不存在直接通路。
通道列334a和334b的单个通道332可具有任何合适的尺寸。通道332的合适长度包括但不限于700-1100微米的长度。另外，各通道列334a和334b可具有任何合适数量的单个通道。举例来说，在流体喷头具有(沿着流体进给槽和流体喷孔通道的长边)8500微米的高度并且各单独通道332都具有900微米的长度的情况下，其中一个通道列可具有七条单独通道，而另一个通道列可具有六条单独通道。
图7和8显示了根据本发明的交叉污染隔离结构430的另一实施例。在这个实施例中，隔离结构430使流体喷孔抬起至高于凸台状结构436a和436b上的流体喷头的周围的废物接受部分432。例如，在流体喷孔422a和422b定位成大致分开1.2毫米的情况下，废物接受部分432可为大约一毫米宽，或者甚至更宽。
图5和7的流体喷头以基本相似的方式来形成。在某些实施例中，通过掩蔽抗蚀层并曝光抗蚀层来形成所需的形状，这样来形成隔离结构230，430。在这些实施例中，成形时的区别在于对不同抗蚀剂掩模的使用。一种类型的抗蚀剂掩模可用于形成图5所示闭环结构及其孔，而第二类型的抗蚀剂掩模可用于形成图7所示废物接受部分及其孔。用于图7中的掩模比图5的掩模可允许除去更多抗蚀剂。另外，如图8中所示，废物接受部分432可延伸穿过孔层438的整个厚度(到达中间的保护层435)，或者仅部分地穿过孔层的厚度。
上述通道和隔离结构的各种实施例可与辅助的擦拭器结构一起使用，以便进一步帮助降低流体喷头上的流体交叉污染的风险。图7中显示了合适的擦拭器结构440的一个示例。擦拭器结构包括设置成分别擦拭流体喷孔422a和422b的孔擦拭器442a和442b，以及设置成可清理废物接受部分432的废物接受部分擦拭器444。
孔擦拭器442a和442b设置成用于将流体从凸台结构436a和436b上推走，并将其推入相邻的废物接受部分432中。孔擦拭器442a和442b可具有任何合适的结构。例如，每个孔擦拭器442a和442b可具有相对于擦拭器在凸台结构436a和436b上的运动方向成斜线定向的擦拭结构。这种结构可将流体推入到邻近擦拭器后沿的废物接受部分432中。作为备选，在所示实施例中，孔擦拭器442a和442b可具有V形形状的擦拭结构。这样，孔擦拭器442a和442b在凸台结构436a和436b的任一侧上将流体推向通道432。
废物接受部分擦拭器444设在凸台结构436a和436b之间(并位于任一侧)，并设置成伸入废物接受部分432中以便从废物接受部分中擦掉流体。废物接受部分擦拭器444可具有任何合适的结构。例如，废物接受部分擦拭器可具有凹入的结构，以便当孔擦拭器在流体喷头上移动时可从凸台结构436a和436b的侧面上除去流体。作为备选，如所述实施例中所示，废物接受部分擦拭器444可具有大致笔直的形状，并且可定向成大致垂直于擦拭器440在流体喷头表面上移动的方向。
在某些实施例中，孔擦拭器442a和442b可设置成与废物接受部分擦拭器444相独立地擦拭表面。在这些实施例中，孔擦拭器442a和442b可设置成以与废物接受部分擦拭器444擦拭废物接受部分432不相同的周期和/或频率，来擦拭凸台结构436a和436b。举例来说，孔擦拭器442a和442b可设置成在流体喷头使用两分钟之后对凸台结构436a及436b进行擦拭，而废物接受部分擦拭器444可设置成以更低频率如每隔二十分钟地来清理废物接受部分432。同样，在某些实施例中，在擦拭过程中可以不同的压力将孔擦拭器442a和442b压靠在流体喷头上，并且孔擦拭器442a和442b可由不同的材料来制成。
如上所述，根据需要，可省略位于孔层438和基底层434之间的中间保护层435。图9显示了图7所示流体喷头的一个备选实施例的剖视图，其中省略了保护层435。在这个实施例中，废物接受部分432延伸至基底层434。在流体喷射装置所喷出的流体可能腐蚀基底层434的表面和/或与之反应的情况下，可将基底层的表面转换成或者涂敷上与流体更少发生化学反应的物质，或者用这种物质对其进行处理。
图10和11显示了根据本发明的具有交叉污染隔离结构530的另一实施例的流体喷头。与图7-8的实施例相类似，隔离结构530使流体喷孔522a和522b抬起至高于凸台状结构536a和536b上的流体喷头的周围的废物接受部分532。然而，隔离结构530还包括沿着废物接受部分532的长度而延伸的壁540，其将废物接受部分532分成第一废物接受部分532a和第二废物接受部分532b。图10和11的实施例类似于图5的实施例，但具有更宽的通道。壁540可有助于用作防止交叉污染的另一隔离结构，并且也可允许在对孔层538进行更少蚀刻的条件下进行隔离结构530的制作。可以理解，可采用带有废物接受部分擦拭器的合适擦拭器结构(未示出)来清理图10和11所示实施例的隔离结构，其中每个第一和第二废物接受部分538a和538b都带有废物接受部分擦拭器。
除了有助于防止流体的交叉污染之外，本文所公开的通道结构还可提供其它的益处。例如，在未设污染隔离通道的传统流体喷头中，来自流体喷头擦拭结构的擦拭力分布在整个流体喷头上。然而，在本文所公开的实施例中，由于设有污染隔离通道，因此擦拭力可更加集中在流体喷孔上，这可导致更有效和更彻底的擦拭。另外，这些通道可在流体喷头的孔层中提供一定量的应力释放，从而可有助于防止因基底层、中间保护层和孔层之间的热膨胀差异而引起的破坏。
尽管本公开内容包括具体实施例，然而这些具体实施例不应被视为具有限制意义，这是因为大量的变型都是可行的。本公开的主题包括本文所公开的各种部件、特征、功能和/或性能的所有新颖的和非显而易见的组合和再组合。以下权利要求特别地指出了被视为新颖的和非显而易见的某些组合和再组合。这些权利要求会提到“一个”部件或“第一”部件或其等效体。这些权利要求应理解为包括了对一个或多个这种部件的涵盖，即不要求也不排除两个或更多个这种部件。特征、功能、部件和/或性能的其它组合和再组合可通过对本权利要求的修改或者通过在本申请或相关申请中提出新的权利要求，来要求其权利。这些权利要求，无论是比原始权利要求的范围更宽、更窄、相等同或者不同，也都被视为包括在本公开的主题内。
权利要求
1.一种流体喷头(18)，其中所述流体喷头包括设在基底层(34)之上的孔层(38)，所述流体喷头包括在所述孔层(38)中形成的第一组流体喷孔(22a)和第二组流体喷孔(22b)，其中所述第一组流体喷孔(22a)和所述第二组流体喷孔(22b)设置成可喷出两种不同的流体；以及在所述孔层中形成的细长通道(32a)，其中所述通道(32a)设在所述第一组流体喷孔(22a)和所述第二组流体喷孔(22b)之间的一定位置处，以防止从所述第一组流体喷孔(22a)和所述第二组流体喷孔(22b)中喷出的流体的交叉污染。
2.根据权利要求1所述的流体喷头(18)，其特征在于，所述通道(32a)是第一通道，所述流体喷头还包括大致平行于所述第一通道(32a)而延伸的第二通道(32b)。
3.根据权利要求2所述的流体喷头(18)，其特征在于，所述第一组流体喷孔(22a)设在流体喷孔的第一列(21)中，所述第二组流体喷孔(22b)设在流体喷孔的第二列(21)中，流体喷孔的所述第一和第二列均各自具有一定的长度，所述第一和第二通道(32a，32b)均各自延伸了至少一段流体喷孔的所述第一和第二列(21)的长度。
4.根据权利要求2所述的流体喷头(18)，其特征在于，所述第一通道(332)是第一通道列(334a)中的多条通道(332)中的一条通道，其中所述第二通道(332)是第二通道列(334b)中的多条通道(332)中的一条通道(332)，所述第一通道列(334a)中的每条通道相对于所述第二通道列(334b)中的每条通道(332)在长度方向上偏移开。
5.根据权利要求1所述的流体喷头(18)，其特征在于，所述通道(232a)以闭环形式围绕所述第一组流体喷孔(222b)而延伸。
6.一种流体喷头(18)，其包括设在流体喷头上的多个流体喷孔，其中所述多个流体喷孔设置成至少第一组孔(22a)和第二组孔(22b)，所述第一组孔(22a)和第二组孔(22b)具有一定的长度并设置成可喷射不同的流体；以及设在所述流体喷头(18)上的处于所述第一组孔(22a)和第二组孔(22b)之间的大致中间位置处的至少两条废物通道(32a，32b)，其中所述废物通道(32a，32b)在所述第一组孔(22a)和第二组孔(22b)之间以平行方式延伸了一段所述第一和第二组孔(22a，22b)的长度，以防止从所述第一组孔(22a)喷出的流体和从所述第二组孔(22b)中喷出的流体的交叉污染。
7.一种包括基底层(34)和形成于所述基底层(34)之上的孔层(38)的流体喷头(18)，所述流体喷头(18)包括在所述孔层(38)中形成的第一组孔(22a)和第二组孔(22b)，其中所述第一组孔(22a)和第二组孔(22b)均各自包括多个流体喷孔；以及在所述孔层中形成的沟槽(32a)，其中所述沟槽在所述第一和第二组孔(22a，22b)之间的某一位置处将所述第一组孔(22a)与所述第二组孔(22b)分开，以防止从所述第一组孔(22a)喷出的流体和从所述第二组孔(22b)喷出的流体的交叉污染。
8.一种流体喷头的清理装置(440)，其设置成可通过在流体喷头(18)上进行擦拭来定期清理所述流体喷头(18)，所述流体喷头包括流体喷射部分(436a)，设置成以相对于所述流体喷射部分(436a)垂直偏移的方式而与所述流体喷射部分(436a)相邻的凹入的废物接受部分(432)，以及设在所述孔部分(436a)上的流体喷孔(422a)，所述清理装置(440)包括设置成可擦拭所述流体喷头的孔部分(436a)的孔清理结构(442a)，以及废物接受部分清理结构(444)，其设置成伸入所述废物接受部分(432)中以便从所述废物接受部分(432)中擦掉流体。
9.一种制造流体喷头(18)的方法，包括在所述流体喷头(18)中形成多个流体喷孔，所述多个流体喷孔包括第一组孔(22a)和第二组孔(22b)；在所述流体喷头(18)中的位于所述第一组孔(22a)和第二组孔(22b)的大致中间位置中形成细长通道(32a)，其中所述细长通道(32a)设置成可防止从所述第一组孔(22a)喷出的流体和从所述第二组孔(22b)喷出的流体的交叉污染。
10.一种用于清理流体喷射装置(10)中的流体喷头(18)的方法，所述流体喷头(18)包括孔部分(436a)以及设置成与所述孔部分(436a)相邻的凹入的废物接受部分(432)，所述孔部分(436a)相对于所述废物接受部分(432)垂直偏移，还包括设在所述孔部分(436a)上的流体喷孔(422a)，以及设置成通过擦拭所述流体喷头(18)来定期清理所述流体喷头(18)的清理装置(440)，其中所述清理装置(440)包括设置成可擦拭所述流体喷头(18)的孔部分(436a)的孔清理结构(442a)，以及设置成伸入所述废物接受部分(432)中以便从所述废物接受部分(432)中擦掉流体的废物接受部分清理结构(444)，所述方法包括用所述孔清理结构(442a)在所述流体喷孔(422a)上进行擦拭，以便将废弃流体推入所述废物接受部分(432)中；用所述废物接受部分清理结构(444)沿着所述废物接受部分(432)进行擦拭，以便从所述废物接受部分(432)中清理废弃流体。
全文摘要
公开了一种流体喷头(18)，其中流体喷头(18)包括设在基底层(34)之上的孔层(38)。流体喷头(18)包括在流体喷头(18)中形成的第一组流体喷孔(22a)和第二组流体喷孔(22b)，以及在流体喷头(18)中形成的细长通道(32a)，其中第一组流体喷孔(22a)和第二组流体喷孔(22b)设置成可喷出两种不同的流体，通道(32a)设在第一组流体喷孔(22a)和第二组流体喷孔(22b)之间的一定位置处，以防止从第一组流体喷孔(22a)和第二组流体喷孔(22b)中喷出的流体的交叉污染。
文档编号B41J2/165GK1741906SQ200480002767
公开日2006年3月1日 申请日期2004年1月28日 优先权日2003年1月28日
发明者J·斯托弗, C·L·霍尔斯顿 申请人:惠普开发有限公司