用于视窗片的层压板、包括它的视窗片和包括它的显示设备的制作方法
【专利摘要】本发明涉及层压板，包括该层压板的视窗片和包括该层压板的显示设备，所述层压板包括基底膜；和在所述基底膜的上侧和下侧的至少一侧上形成的含倍半硅氧烷的膜。
【专利说明】用于视窗片的层压板、包括它的视窗片和包括它的显示设 备
【技术领域】
[0001] 本发明涉及用于视窗片的层压板、包括它的视窗片和包括它的显示设备。
【背景技术】
[0002] 玻璃通常用于液晶显示面板的电极基板，用于等离子体显示面板、电致发光显示 管或发光二极管的显示材料。然而，由于玻璃受撞击易碎并且具有高比重，大表面积的薄的 和轻的玻璃产品的生产受到限制。
[0003] 透明的塑料材料代替玻璃材料在本领域中受到关注。塑料材料轻并且受撞击不易 碎，从而在各领域提供代替玻璃材料的可能性。因此，已经进行了各种研究以改善塑料材料 的透明度、表面硬度、耐久性和耐热性。
[0004] 近年来，随着诸如IXD、rop、移动电话、投影TV等各种显示设备的显著进步，位于 该显示设备的最外区域的部分视窗片被塑料材料所取代。
【发明内容】
[0005]【技术问题】
[0006] 本发明的一个方面提供了具有高强度、低反射率、低折射率和良好的防污和防指 纹性能的层压板。
[0007] 本发明的另一个方面提供了呈现优异的透明度、耐冲击性、硬度和耐划伤性的层 压板。
[0008] 本发明的再一个方面提供了能够应用于视窗片的层压板。
[0009] 本发明的又一个方面提供了包括所述层压板或所述视窗片的显示设备。
[0010] 【技术方案】
[0011] 根据本发明的一个方面，用于视窗片的层压板包括基底膜；和在所述基底膜的上 侧或下侧的至少一侧上形成并且含有倍半硅氧烷的膜。
[0012] 根据本发明的另一个方面，视窗片包括所述层压板。
[0013] 根据本发明的又一个方面，显示设备包括所述层压板。
[0014] 【有益效果】
[0015] 照此，本发明提供了具有高强度、低反射率、低折射率以及良好的防污和防指纹性 能的层压板。此外，本发明提供了呈现优异的透明度、耐冲击性、硬度和耐划伤性的层压板。
【专利附图】
【附图说明】
[0016] 图1为阐明根据本发明的一个实施方式的层压板的截面图。
[0017] 图2为阐明根据本发明的另一个实施方式的层压板的截面图。
[0018] 图3为阐明根据本发明的又一个实施方式的层压板的截面图。
[0019] 图4为阐明根据本发明的再一个实施方式的层压板的截面图。
[0020] 图5为阐明根据本发明的一个实施方式的显示设备的截面图。
[0021] 图6为阐明固化高度的测量的示意图。
【具体实施方式】
[0022] 【最佳方式】
[0023] 如本文使用的，例如"上侧（upper side) "和"下侧（lower side) "的术语是参照 附图而定义的。因此，应理解的是术语"上侧"可与术语"下侧"交替地使用。
[0024] 根据本发明的示例性实施例，层压板可包括基底膜；和在所述基底膜的上侧或下 侧的至少一侧上形成并且含有倍半硅氧烷的膜。
[0025] 图1和图2为阐明根据本发明的实施方式的层压板的视图
[0026] 参照图1，层压板100可包括基底膜110以及在基底膜110的上侧上形成并且含有 倍半硅氧烷的第一膜130。在图1中，所述层压板可省略粘合剂层120。
[0027] 参照图2,层压板200可包括基底膜210 ;在基底膜210的上侧上形成并且含有 倍半硅氧烷的第一膜230b ;和在基底膜210的下侧上形成并且含有倍半硅氧烷的第二膜 230a。在图2中，可从层压板200省略粘合剂层220a、220b。
[0028] 某底腊
[0029] 基底膜支撑层压板，并且可为不含倍半硅氧烷的膜。
[0030] 基底膜可具有根据使用DuPont牌跌落测试仪的落镖（falling-dart)耐冲击性评 价的约5J或更大的耐冲击性。在耐冲击性的该范围内，基底膜可在含倍半硅氧烷的膜的层 压中提供足够的耐冲击性，并且可提供高硬度和耐冲击性。优选地，基底膜具有约5J至约 20J的落镖耐冲击性。
[0031] 在使用DuPont牌跌落测试仪（500g，pinl/2〃，样品：100X 100mm)的落镖耐冲击性 的测量中，基底膜可具有月35cm或更大的耐冲击性，优选约35cm至约90cm。
[0032] 可使用DuPont牌跌落测试仪根据钢球跌落测量耐冲击性。例如，可根据ASTM D4226使用DuPont牌跌落冲击测试仪测量基底膜的耐冲击性。在耐冲击性的测量中，可在 500g的负荷下使用具有30mmX70mmX基底膜厚度（长度X宽度X厚度）尺寸的样品。
[0033] 在400nm至800nm的波长处，基底膜可具有90%或更大的透光率，优选约90 %至 99%。在透光率的该范围内，可将所述基底膜应用于视窗片。
[0034] 基底膜可具有约50 μ m至约1000 μ m的厚度，优选约100 μ m至约1000 μ m，或约 100 μ m至约900 μ m，更优选约150 μ m至约800 μ m。在基底膜的该厚度范围内，可通过卷对 卷工艺（roll-to-roll process)来制造层压板，并且所述层压板可具有合适的厚度和耐冲 击性。
[0035] 在一些实施方式中，基底膜可为具有约70°C至约220°C的玻璃化转变温度（Tg)的 透明塑料膜。
[0036] 在其它实施方式中，基底膜可为透明塑料片。
[0037] 在其它实施方式中，基底膜可由聚苯乙烯、（甲基）丙烯酸酯-苯乙烯共聚物、聚 甲基丙烯酸甲酯-橡胶混合物、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚对苯二甲酸 乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚邻苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、环烯烃聚合物、 环烯烃共聚物、压克力、聚氟乙烯、聚酰胺、聚芳酯、赛璐玢、聚醚砜、降冰片烯树脂或它们的 混合物形成。
[0038] 优选地，基底膜由聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯-橡胶共聚物或聚对苯二甲酸乙 二醇酯形成。
[0039] 含倍半硅氣烷的腊
[0040] 含倍半硅氧烷的膜可为高硬度的塑料膜。
[0041] 在一个实施方式中，当在1kg的负荷下以0. 8mm/秒的速度划线后，使用三菱铅笔 (UNI)通过铅笔硬度测试仪（Shinto Scientific, Heidon)测试时，所述含倍半娃氧烧的膜 可具有约9H至10H的铅笔硬度。
[0042] 在200 μ m的膜厚度下于400nm至800nm的波长带中，所述膜可具有约88 %或更大 的透光率，优选90 %或更大，更优选约90 %至约100 %。
[0043] 所述膜可具有约250°C或更高的玻璃化转变温度，优选约290°C至约330°C。
[0044] 所述膜可具有约50 μ m至约500 μ m的厚度，优选约100 μ m至约300 μ m。
[0045] 在一个实施方式中，含倍半硅氧烷的膜可为由倍半硅氧烷或倍半硅氧烷树脂组成 的膜。
[0046] 在另一个实施方式中，含倍半硅氧烷的膜可为由含倍半硅氧烷或倍半硅氧烷树脂 的组合物的固化产品形成的膜。
[0047] 在又一个实施方式中，可通过将增强材料浸入含有聚硅氧烷等的基质树脂中，随 后固化所得物来制备含倍半硅氧烷的膜。增强材料的实例可包括玻璃纤维、玻璃纤维布、玻 璃织物、玻璃非织造织物、玻璃网、玻璃珠、玻璃粉、玻璃片、二氧化硅颗粒、硅溶胶或它们的 混合物，但不限于此。
[0048] 在又一个实施方式中，含倍半硅氧烷的膜可包括通过在透明膜的一侧或两侧上涂 布含倍半硅氧烷树脂或倍半硅氧烷树脂的组合物的固化产品而制备的膜。
[0049] 在一些实施方式中，所述膜可包括通过堆叠在550nm波长处具有约90 %或更大的 透光率和约250°C或更高的玻璃化转变温度的树脂层C1和具有约70°C至约220°C的玻璃化 转变温度的透明膜C2而制备的膜层压板。
[0050] 树脂层可为含有光固化的笼型倍半硅氧烷树脂的光固化树脂组合物的固化产品。
[0051] 在一个实施方式中，可通过在有机极性溶剂和碱性催化剂的存在下，对以下通式1 表示的硅化合物进行水解和部分缩合，随后在非极性溶剂和碱性催化剂的存在下的对水解 产物进行缩合而制备所述笼型倍半硅氧烷树脂。
[0052] 〈通式 1>
[0053] RSiX3
[0054] (在通式1中，R为（甲基）丙烯酰基、缩水甘油基或乙烯基，并且X为可水解的基 团）。
[0055] 在另一个实施方式中，笼型倍半硅氧烷树脂可由通式2或3表示。
[0056] 〈通式 2>
[0057] [RSi03/2]n
[0058] (在通式2中，R为（甲基）丙烯酰基、缩水甘油基或乙烯基，并且η为8、10、12或 14)。
[0059] 〈通式 3>
[0060] [RiR^SiCV^^SiCVl
[0061] (在通式3中，R1为乙烯基、Cl至CIO烷基、苯基、（甲基）丙烯酰基、烯丙基或含环 氧乙烷环的基团；(m+rOR 1化合物中的至少两种为选自具有不饱和双键的乙烯基、（甲基） 丙烯酰基或烯丙基的活性有机官能团；R2为甲基;m为从1至4的整数；η为从8至16的整 数；并且m+n在10至20的范围内）。
[0062] 光固化组合物可包括至少一种或两种由通式2或3表示的倍半硅氧烷树脂。
[0063] 在又一个实施方式中，笼型倍半硅氧烷树脂可由通式1或2中的以下通式4、5或 6表示。
[0064] 〈通式 4>
【权利要求】
1. 一种用于视窗片的层压板，包括： 基底膜； 含倍半硅氧烷的膜，所述含倍半硅氧烷的膜在所述基底膜的上侧和下侧的至少一侧上 形成。
2. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述层压板具有小于约5mm的弯曲高度。
3. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述层压板具有约6H或更大的铅笔硬度。
4. 根据权利要求1所述的层压板，其中根据ASTM D4226,所述基底膜具有约5J或更大 的落镖耐冲击性。
5. 根据权利要求1所述的层压板，其中，当使用DuPont跌落测试仪（500g，pinl/2"，样 品尺寸：l〇〇X 100mm)测量落镖耐冲击性时，所述基底膜具有约35cm或更大的耐冲击性。
6. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述基底膜由聚苯乙烯、（甲基）丙烯酸酯-苯 乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯-橡胶混合物、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚乙烯 醇、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚邻苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯、聚乙 烯、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、压克力、聚氟乙烯、聚酰胺、聚芳酯、赛璐玢、聚醚砜、降冰 片烯树脂、环烯烃共聚物或它们的混合物形成。
7. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述基底膜具有约50 μ m至约1000 μ m的厚度。
8. 根据权利要求1所述的层压板，其中，当在lkg的负荷下以0. 8mm/秒的速度划线后， 使用三菱铅笔（UNI)通过铅笔硬度测试仪（Shinto Scientific, Heidon)测定时，所述含倍 半硅氧烷的膜具有约9H至约10H的铅笔硬度。
9. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述含倍半硅氧烷的膜具有约88%或更大的透 光率。
10. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述含倍半硅氧烷的膜具有约50 μ m至约 500 μ m的厚度。
11. 根据权利要求1所述的层压板，其中所述含倍半硅氧烷的膜包括含有倍半硅氧烷 树脂的组合物的固化产品。
12. 根据权利要求1所述的层压板，进一步包括：在所述基底膜和所述含倍半硅氧烷的 膜之间的粘合剂层。
13. 根据权利要求12所述的层压板，其中所述粘合剂层具有约-50°C至约-10°C的玻璃 化转变温度。
14. 根据权利要求12所述的层压板，其中所述粘合剂层具有约lX104dyn/cm2至约 1. 5X 106dyn/cm2 的模量（G'）。
15. 根据权利要求12所述的层压板，其中所述粘合剂层由包括（甲基）丙烯酸共聚物 和固化剂的粘合剂组合物形成。
16. 根据权利要求15所述的层压板，其中所述（甲基）丙烯酸共聚物为选自含羟基的 乙烯基单体、含烷基的乙烯基单体、含羧酸基的乙烯基单体和含芳环的乙烯基单体的组中 的一种或多种单体的混合物的共聚物。
17. 根据权利要求15所述的层压板，其中，基于100重量份的所述（甲基）丙烯酸共聚 物，所述固化剂的含量为约〇. 01重量份至约5重量份。
18. 根据权利要求12所述的层压板，其中所述粘合剂层具有约5 μ m至约50 μ m的厚 度。
19. 根据权利要求1所述的层压板，进一步包括：在所述含倍半硅氧烷的一侧上形成的 涂层。
20. 根据权利要求19所述的层压板，其中所述涂层在25°C下具有约80°或更大的水接 触角或者约25°或更大的十六烷接触角。
21. 根据权利要求19所述的层压板，其中所述涂层在550nm的波长处具有约2%或更 小的反射率。
22. 根据权利要求19所述的层压板，其中所述涂层由包括（甲基）丙烯酸酯类化合物 和无机纳米颗粒的组合物形成。
23. 根据权利要求22所述的层压板，其中所述（甲基）丙烯酸酯类化合物包括含氟（甲 基）丙烯酸酯类化合物。
24. 根据权利要求23所述的层压板，其中所述含氟（甲基）丙烯酸酯类化合物包括氟 改性（甲基）丙烯酸酯共聚物、氟改性（甲基）丙烯酸酯单体或它们的混合物。
25. 根据权利要求24所述的层压板，其中所述氟改性（甲基）丙烯酸酯单体与所述氟 改性（甲基）丙烯酸酯共聚物在所述组合物中的重量比在约〇. 1至约6的范围内。
26. 根据权利要求22所述的层压板，其中所述组合物进一步包括引发剂。
27. 根据权利要求26所述的层压板，其中，基于100重量份的所述组合物，所述组合物 包括约40重量份至约95重量份的所述（甲基）丙烯酸酯类化合物、约1重量份至约50重 量份的所述无机纳米颗粒和约〇. 1重量份至约10重量份的所述引发剂。
28. 根据权利要求22所述的层压板，其中所述（甲基）丙烯酸酯类化合物包括（甲基） 丙烯酸UV可固化树脂和多官能（甲基）丙烯酸酯单体中的至少一种。
29. 根据权利要求28所述的层压板，其中所述组合物进一步包括硅改性聚丙烯酸酯和 消泡剂中的至少一种。
30. 根据权利要求29所述的层压板，其中所述组合物进一步包括引发剂。
31. 根据权利要求30所述的层压板，其中所述组合物包括：约30重量份至约70重量 份的所述UV可固化树脂、约5重量份至约25重量份的所述多官能（甲基）丙烯酸酯单体、 约 5至45重量份的所述无机纳米颗粒，并且基于总共100重量份的所述UV可固化树脂、所 述多官能（甲基）丙烯酸酯单体和所述无机纳米颗粒，包括约〇. 1重量份至约10重量份的 所述引发剂、约〇. 1重量份至约5重量份的所述硅改性聚丙烯酸酯和约0. 01重量份至约5 重量份的所述消泡剂。
32. 根据权利要求22所述的层压板，其中所述无机纳米颗粒包括中空二氧化硅、反应 性二氧化硅或它们的混合物。
33. 根据权利要求32所述的层压板，其中所述中空二氧化硅具有约5nm至约300nm的 平均粒径和约50m2/g至约1500m 2/g的比表面积。
34. 根据权利要求32所述的层压板，其中所述反应性二氧化硅具有约5nm至约300nm 的平均粒径。
35. 根据权利要求32所述的层压板，其中所述中空二氧化硅经氟化合物的表面处理。
36. 根据权利要求32所述的层压板，其中所述反应性二氧化硅经（甲基）丙烯酸酯类 化合物的表面处理。
37. 根据权利要求23所述的层压板，其中，基于总共100重量份的所述含氟（甲基）丙 烯酸酯类化合物和所述无机纳米颗粒，所述无机纳米颗粒的含量为约1重量份至约50重量 份。
38. 根据权利要求29所述的层压板，其中所述硅改性聚丙烯酸酯在其末端上包括羟 基。
39. 根据权利要求29所述的层压板，其中，以固含量计，所述硅改性聚丙烯酸酯具有约 20mgK0H/g 至约 40mgK0H/g 的酸值。
40. 根据权利要求29所述的层压板，其中所述消泡剂包括二甲基聚硅氧烷或氟改性聚 硅氧烷。
41. 根据权利要求19所述的层压板，其中所述涂层具有约10nm至约500nm的厚度。
42. 根据权利要求1所述的层压板，进一步包括：硬涂层。
43. -种视窗片，所述视窗片包括根据权利要求1所述的层压板。
44. 一种显示设备，所述显示设备包括根据权利要求43所述的视窗片。
【文档编号】G09F9/00GK104105598SQ201380006898
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2013年1月25日 优先权日:2012年1月27日
【发明者】崔晋喜, 金度泳, 姜炅求 申请人:三星Sdi株式会社