一种气胸教学模型的制作方法

本实用新型涉及医学教学技术领域，具体涉及一种气胸教学模型。

背景技术：

气体进入胸膜腔，造成积气状态，称为气胸。多因肺部疾病或外力影响使肺组织和脏层胸膜破裂，或靠近肺表面的细微气肿泡破裂，肺和支气管内空气逸入胸膜腔。张力性气胸是指较大的肺泡破裂或较大较深的肺裂伤或支气管破裂，裂口与胸膜腔相通，且形成单向活瓣，又称高压性气胸。吸气时空气从裂口进入胸膜腔内，而呼气时活瓣关闭，腔内空气不能排出，致胸膜腔内压力不断升高，压迫肺使之逐渐萎陷，并将纵隔推向健侧，挤压健侧肺，产生呼吸和循环功能的严重障碍。胸膜腔内的高压空气若被挤入纵隔，扩散至皮下组织，形成颈部、面部、胸部等处皮下气肿。本病属肺科急症之一，严重者可危及生命。

目前市场上没有张力性气胸的教学模型，在教学过程中需要讲解张力性气胸的形成机制，仅靠文字和图像难以讲解清楚，因此本实用新型提供一种气胸教学模型，此模型可以帮助学生对张力性气胸的产生机制有更好的理解。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种气胸教学模型，用以解决现有教学过程中仅靠文字和图像难以将气胸的形成机制讲解清楚的问题。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案为：提供一种气胸教学模型，所述气胸教学模型包括注射器、气管、气囊、胸壁和胸膜，所述气管包括主气管、左支气管和右支气管，主气管与所述注射器相连，所述气囊包括左气囊和右气囊，左气囊和左支气管相连，右气囊和右支气管相连，所述胸壁包裹气囊与胸膜并在主气管的外部闭合形成封闭结构，所述胸膜包括左胸膜和右胸膜，左胸膜连接左气囊与胸壁，右胸膜连接右气囊与胸壁。

作为一种优选的技术方案，所述左气囊上设置有单向活瓣。

作为一种优选的技术方案，所述左支气管和左气囊相连并伸入左气囊中，所述右支气管和右气囊相连并伸入右气囊中。

作为一种优选的技术方案，所述左胸膜从左支气管与左气囊的连接处向胸壁延伸，所述右胸膜从右支气管与右气囊的连接处向胸壁延伸。

作为一种优选的技术方案，所述左胸膜、左气囊和胸壁形成左胸膜腔。

作为一种优选的技术方案，形成所述左胸膜腔的胸壁上设置有活塞。

作为一种优选的技术方案，所述右胸膜、右气囊和胸壁形成右胸膜腔。

作为一种优选的技术方案，所述胸壁和胸膜均为透明弹性复合材料膜。

本实用新型方法具有如下优点：

(1)本实用新型采用注射器、气囊等装置模拟气胸的发生机制，结构简单，易操作；

(2)能够简介明了地模拟气胸的发生机制，通俗易懂；

(3)材料简单易采购，节省教学成本；

(4)可重复使用，提高利用率。

附图说明

图1为一种气胸教学模型模拟吸气时的结构示意图。

图2为一种气胸教学模型模拟呼气时的结构示意图。

图中：注射器01、主气管02、右气囊03、右胸膜腔04、右胸膜05、单向活瓣06、左胸膜腔07、胸壁08、左气囊09、右支气管10、左支气管11、左胸膜12、活塞13。

具体实施方式

以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

实施例1

参考图1，本实用新型提供一种气胸教学模型，包括注射器01、气管、气囊、胸壁08和胸膜，气管包括主气管02、左支气管11和右支气管10，主气管02与注射器01相连，气囊包括左气囊09和右气囊03，上设置有单向活瓣06，左支气管11和左气囊09相连并伸入左气囊09中，所述右支气管10和右气囊03相连并伸入右气囊03中。胸壁08包裹气囊与胸膜并在主气管02的外部闭合形成封闭结构，胸膜包括左胸膜12和右胸膜05，所述左胸膜12从左支气管11与左气囊09的连接处向胸壁08延伸，所述右胸膜05从右支气管10与右气囊03的连接处向胸壁08延伸，左胸膜12、左气囊09和胸壁08形成左胸膜腔07，右胸膜05、右气囊03和胸壁08形成右胸膜腔04。

具体地，胸壁08和胸膜均为透明弹性复合材料膜，能够清楚的观测到模型内部发生的变化，推进注射器01模拟人体吸气，回抽注射器01模拟人体呼气，简单易操作，左气囊09模拟人体左侧受损伤的左肺，单向活瓣06模拟伤口，右气囊03模拟人体健康的右肺，形成左胸膜腔07的胸壁08上设置有活塞13，当左胸膜腔07内的气体过多时，打开活塞即可放出气体，以供二次使用。

一种气胸教学模型模拟气胸发生机制的方法包括：推进注射器01模拟吸气，可见左气囊09膨胀，左气囊09上的单向活瓣06伤口打开，气体进入左胸膜腔07，左胸膜腔07膨胀；回抽注射器01模拟呼气，可见左气囊09体积减小，左气囊09上的单向活瓣06伤口关闭，但是左胸膜腔07内气体不减少，多次操作后，左胸膜腔07内的气体逐渐增多挤压左气囊09和左胸膜12，且左胸膜腔07内气体压力逐渐增大使左气囊09萎缩。

虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本实用新型作了详尽的描述，但在本实用新型基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本实用新型精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本实用新型要求保护的范围。