一种显示装置的制作方法

1.本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置。


背景技术：

2.随着显示装置多样化需求日趋增多，多功能显示装置受到越来越多关注，如可穿戴显示装置、指纹触控显示装置等。
3.然而，由于显示屏幕触控频率较高，致使显示屏幕很容易附着上指纹油脂或者脏污，进而影响用户的使用体验，因此如何做好显示屏幕清洁成为一个亟待解决的问题。


技术实现要素：

4.本实用新型实施例提供一种显示装置，以实现显示装置中显示屏幕的自清洁功能，从而通过显示屏幕自身来清除附着于显示屏幕上的脏污，保证用户的良好使用体验。
5.本实用新型实施例提供的显示装置，包括：显示屏幕和光催化清洁层；
6.所述显示屏幕包括阵列基板和在所述阵列基板上阵列排布的像素单元，所述像素单元包括多个子像素单元；所述像素单元中，每个所述子像素单元均包括一个第一发光器件，至少一个所述子像素单元包括一个第二发光器件；
7.所述光催化清洁层位于所述显示屏幕的出光侧并覆盖所述显示屏幕；所述第一发光器件响应所述阵列基板的驱动实现所述显示屏幕的画面显示；所述第二发光器件响应所述阵列基板的驱动使紫外光照射所述光催化清洁层，以使所述光催化清洁层清除附着于所述显示屏幕上的脏污。
8.可选地，所述第一发光器件包括红光发光二极管、绿光发光二极管或者蓝光发光二极管；所述第二发光器件包括紫外光发光二极管。
9.可选地，包括所述绿光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述红光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述蓝光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管。
10.可选地，所述像素单元中每个所述子像素单元均包括一个所述第二发光器件。
11.可选地，所述光催化清洁层的厚度为50nm至80nm。
12.可选地，所述显示屏幕还包括触控模组和玻璃盖板；所述触控模组位于所述像素单元与所述玻璃盖板之间；
13.所述光催化清洁层位于所述玻璃盖板远离所述触控模组的一侧并覆盖所述玻璃盖板，所述光催化清洁层在所述第二发光器件的紫外光照射下去除附着于所述玻璃盖板上的脏污。
14.可选地，所述阵列基板上设置有呈阵列排布的驱动电路；一个所述第一发光器件和一个所述第二发光器件分别对应一个所述驱动电路；所述第一发光器件和所述第二发光器件分别与对应的所述驱动电路电连接。
15.可选地，一个所述第一发光器件和对应的所述驱动电路构成一个所述子像素单
元；或者，一个所述第一发光器件和一个所述第二发光器件以及其分别对应的所述驱动电路构成一个所述子像素单元；所述子像素单元的平面尺寸为30um
×
100um～80um
×
200um。
16.可选地，所述第一发光器件和/或所述第二发光器件的平面尺寸为3um
×
3um～10um
×
10um。
17.可选地，所述光催化清洁层的材质包括二氧化钛。
18.本实用新型实施例提供的显示装置包括显示屏幕；显示屏幕包括阵列基板和在阵列基板上阵列排布的像素单元，像素单元包括多个子像素单元。在此基础上，通过设置像素单元中每个子像素单元均包括一个第一发光器件且至少一个子像素单元包括一个第二发光器件，以及设置显示装置还包括光催化清洁层，光催化清洁层位于显示屏幕的出光侧并覆盖显示屏幕，从而可以在第一发光器件响应阵列基板的驱动处于开启状态时，实现显示屏幕的正常画面显示，在第二发光器件响应阵列基板的驱动处于开启状态时，第二发光器件紫外光照射光催化清洁层，光催化清洁层在紫外光照射下将附着于显示屏幕上的脏污清除，实现显示屏幕的自清洁功能，保证显示屏幕的洁净，从而保证用户的良好使用体验。
附图说明
19.图1是本实用新型实施例提供的一种显示装置的俯视结构示意图；
20.图2是本实用新型实施例提供的一种显示屏幕的局部俯视结构示意图；
21.图3是本实用新型实施例提供的另一种显示屏幕的局部俯视结构示意图；
22.图4是本实用新型实施例提供的一种子像素单元的结构示意图；
23.图5是本实用新型实施例提供的另一种显示装置的剖面结构示意图。
具体实施方式
24.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
25.图1是本实用新型实施例提供的一种显示装置的俯视结构示意图，图2是本实用新型实施例提供的一种显示屏幕的局部俯视结构示意图。结合图1至图2，显示装置100包括显示屏幕110和光催化清洁层120；显示屏幕110包括阵列基板1110和在阵列基板1110上阵列排布的像素单元200，像素单元200包括多个子像素单元210；在像素单元200中，每个子像素单元210均包括一个第一发光器件211，至少一个子像素单元210包括一个第二发光器件212；光催化清洁层120位于显示屏幕110的出光侧并覆盖显示屏幕110；第一发光器件211响应阵列基板1110的驱动实现显示屏幕110的画面显示；第二发光器件212响应阵列基板1110的驱动紫外光照射光催化清洁层120，以使光催化清洁层120清除附着于显示屏幕110上的脏污。
26.其中，显示装置100可以是微发光二极管显示装置(micro light emitting diode，micro led)。显示屏幕110可以是具有触控功能的显示屏幕。光催化清洁层120由光催化材料形成，具有光催化性能，且可以是透明的膜层。光催化材料的光催化性能是指光催化材料在光的作用下将有机物转换为无机物；例如，光催化材料在吸收了紫外光的能量之后，在自身基本无损耗的情况下将有机物最终降解为二氧化碳和水。
27.具体地，阵列基板1110用于控制第一发光器件211和第二发光器件212的工作状态；第一发光器件211因阵列基板1110的驱动处于开启状态时，可实现显示屏幕110的正常画面显示，第一发光器件211例如可以由砷化镓(gaas)、磷化镓(gap)或者铟镓氮(ingan)等材料制成；第二发光器件212因阵列基板1110的驱动处于开启状态时，第二发光器件212发出紫外光，该紫外光线可射入光催化清洁层120，第二发光器件212例如可以由氮化铝镓(algan)等材料制作成。
28.像素单元200代表一个像素，子像素单元210代表一个子像素。像素单元200中子像素单元210的数目可以是三个或者四个等等，对此不做具体限定，图2中示例性地示意出像素单元200中设置有三个子像素单元210的情况。每个像素单元200中的每个子像素单元210均包括一个第一发光器件211，并且每个像素单元200中至少有一个子像素单元210包括一个第二发光器件212，图2中示例性地示意出每个像素单元200中的子像素单元210均包括一个第一发光器件211并且每个像素单元200中仅有一个子像素单元210包括一个第二发光器件212的情况。这样，显示屏幕110的每个像素单元200既包括用于实现显示屏幕110正常画面显示功能的第一发光器件211，还包括用于发出紫外光线的第二发光器件212。
29.在需要显示屏幕110进行正常的画面显示时，可通过阵列基板1110控制像素单元200中的第一发光器件211开启且第二发光器件212关闭，从而第二发光器件212不发光而第一发光器件211发出的光线透过呈透明态的光催化清洁层120，实现显示屏幕110的画面显示。在需要清洁显示屏幕110时，可通过阵列基板1110控制第一发光器件211关闭且第二发光器件212开启，从而第一发光器件211不发光而第二发光器件212发出紫外光线，紫外光线射入光催化清洁层120时，光催化清洁层120吸收紫外光的能量而发挥其光催化作用，即将附着于显示屏幕110上的脏污降解为二氧化碳和水，实现显示屏幕110的自清洁功能，使得显示屏幕110洁净无脏污，保证用户拥有良好的屏幕使用体验感。只要能够被光催化材料光降解的脏污均属于本实施例的屏幕自清洁范围。
30.综上所述，本实用新型实施例通过设置像素单元200中每个子像素单元210均包括一个第一发光器件211且至少一个子像素单元210包括一个第二发光器件212，以及设置显示装置100还包括光催化清洁层120，不仅实现了显示屏幕110的正常画面显示，还实现了显示屏幕110的自清洁，使得显示屏幕110可以根据需要随时进行自洁而保持洁净的状态，提升了用户的屏幕使用体验。相较于现有技术通过抗指纹膜、抗刮膜、钢化膜或者擦拭等方式防止脏污残留屏幕，本实用新型的技术方案，环保性高，使用起来简单便捷，效果更好，同时结构简单易于实现。
31.在上述各实施例的基础上，可选地，第一发光器件211包括红光发光二极管、绿光发光二极管或者蓝光发光二极管；第二发光器件212包括紫外光发光二极管。如图2中以不同的填充图案表示第一发光器件211为红光发光二极管、绿光发光二极管或者蓝光发光二极管，斜条纹的填充图案表示第一发光器件211为红光发光二极管，竖条纹的填充图案表示第一发光器件211为绿光发光二极管，网格的填充图案表示第一发光器件211为蓝光发光二极管。即图2中示例性示意出每个像素单元200包括三个子像素单元210，三个子像素单元210分别包括红光发光二极管、绿光发光二极管和蓝光发光二极管，在此基础上，三个子像素单元210中的其中一个子像素单元210还包括紫外光发光二极管，由此可以实现具有自清洁功能的micro led显示装置100。
32.在上述各实施例的基础上，可选地，包括绿光发光二极管的子像素单元210包括紫外光发光二极管；或者，包括红光发光二极管的子像素单元210包括紫外光发光二极管；或者，包括蓝光发光二极管的子像素单元210包括紫外光发光二极管。即在像素单元200中仅有一个子像素单元210包括第二发光器件212时，包括第二发光器件212的子像素单元210是像素单元200中的任意一个子像素单元210，本实施例对此不做具体限制，图2中示例性地示意出包括绿光发光二极管的子像素单元210包括紫外光发光二极管的情况。
33.由于光的发散、散射性质以及像素单元200的阵列排布，从而在每个像素单元200中仅一个子像素单元210设置第二发光器件212即可为整层光催化清洁层120提供紫外光线，实现整个显示屏幕110的自清洁，这样不仅使得第二发光器件212对显示屏幕110的占用率较低而且还使得显示装置100的制作成本偏低。当然，为了达到更好的清洁效果，可以在每个像素单元200中设置多个子像素单元210包括第二发光器件212，以为整层光催化清洁层120提供充分的紫外光线。
34.图3是本实用新型实施例提供的另一种显示屏幕的局部俯视结构示意图。参考图3，作为本实用新型的一种实施方式，可选地，像素单元200中每个子像素单元210均包括一个第二发光器件212，从而在显示屏幕110自清洁时，各像素单元200为光催化清洁层120提供充足的紫外光线，使得光催化清洁层120充分发挥其光催化作用，充分降解去除显示屏幕110上的脏污，实现显示屏幕110的更好的清洁效果，为用户提供更好的使用体验。另外在本实用新型实施例中，除了图2和图3所示例性示意的像素单元200中的子像素单元210的排布方式以外，还可以是其它像素排布方式，保证像素单元200中至少有一个子像素单元210在设置第一发光器件211的基础上还设置第二发光器件212即可。
35.在上述各实施例的基础上，可选地，光催化清洁层120的材质包括二氧化钛(tio2)，二氧化钛具有优良的催化性能、稳定的化学性能、环保无毒且使用寿命长，并且成膜时可以达到无色透明的状态。当然，其它具有性能更好的光催化材料也可以用于本实施例的光催化清洁层120，本实施例对此不作具体限定。
36.光催化清洁层120的厚度过薄使得整层光催化清洁层120的光催化能力较弱，不足以充分清洁显示屏幕110，而光催化清洁层120的厚度过厚容易出现材料浪费的情况。在上述各实施例的基础上，可选地，光催化清洁层120的厚度为50nm至80nm，从而既保证整层光催化清洁层120的光催化能力较好，又保证了材料的有效利用。另外本实用新型实施例中，光催化清洁层120可以通过蒸镀工艺形成。
37.在上述各实施例的基础上，可选地，阵列基板1110上设置有呈阵列排布的驱动电路213；一个第一发光器件211和一个第二发光器件212分别对应一个驱动电路213，第一发光器件211和第二发光器件212分别与对应的驱动电路213电连接。即第一发光器件211通常是有源驱动，而第二发光器件212也可以是有源驱动，这样便无需为第二发光器件212设置其它形式的驱动方式，可简化显示装置100的制作工艺。示例性地，图4是本实用新型实施例提供的一种子像素单元的结构示意图，参考图4，在子像素单元210中第一发光器件211和第二发光器件212分别与对应的驱动电路213电连接，第一发光器件211和第二发光器件212分别对应的驱动电路213的结构相同。
38.在上述各实施例的基础上，可选地，一个第一发光器件211和对应的驱动电路213构成一个子像素单元210；或者，一个第一发光器件211和一个第二发光器件212以及其分别
对应的驱动电路213构成一个子像素单元210；子像素单元210的平面尺寸为30um
×
100um～80um
×
200um。可选地，第一发光器件211和/或第二发光器件212的平面尺寸为3um
×
3um～10um
×
10um。
39.具体地，可继续参考图4，图4中示例性示意出了一个第一发光器件211和一个第二发光器件212以及其分别对应的驱动电路213构成一个子像素单元210的情况。而无论是由一个第一发光器件211和对应的驱动电路213构成的子像素单元210还是由一个第一发光器件211和一个第二发光器件212以及其分别对应的驱动电路213构成的子像素单元210，以显示屏幕110为14inch为例，显示屏幕110的ppi为157，子像素单元210的平面尺寸均为53.7um
×
161.1um。因此，由于子像素单元210的平面尺寸本身较大，从而可以在子像素单元210中设置多个发光器件，所以本实用新型实施例设置子像素单元210在包括一个第一发光器件211和对应的驱动电路213的基础上，还包括第二光器件212和对应的驱动电路213并不会影响子像素单元210的平面尺寸，进而也不会影响显示屏幕110的ppi和显示屏幕110的平面尺寸。其中，第一发光器件211和/或第二发光器件212的平面尺寸为10um
×
10um。
40.阵列基板1110和阵列排布的像素单元200构成了显示屏幕110的显示面板。图5是本实用新型实施例提供的另一种显示装置的剖面结构示意图，参考图5，在上述各实施例的基础上，可选地，显示屏幕110还包括触控模组112和玻璃盖板113；触控模组112位于像素单元200与玻璃盖板113之间，即位于显示面板111与玻璃盖板113之间；光催化清洁层120位于玻璃盖板113远离触控模组112的一侧并覆盖玻璃盖板113，所述光催化清洁层120在第二发光器件212的紫外光照射下去除附着于玻璃盖板113上的脏污。
41.其中，触控模组112用以实现显示屏幕110的触控功能，因为有触控功能的设置，显示屏幕110触控频率较高，显示屏幕110很容易附着上指纹油脂或者脏污。因此在显示屏幕110的显示面板111中设置像素单元200包括第二发光器件212，且在显示屏幕110的玻璃盖板113的上方设置光催化清洁层120，,在用户对显示屏幕110的玻璃盖板113进行触控操作后，若需要清洁显示屏幕110的玻璃盖板113，即可通过控制像素单元200中第一发光器件211关闭且第二发光器件212开启，从而第一发光器件211不发光而第二发光器件212发出紫外光线，紫外光线射入光催化清洁层120，光催化清洁层120吸收紫外光的能量而发挥其光催化作用，将附着于显示屏幕110的玻璃盖板113上的脏污降解为二氧化碳和水，实现的玻璃盖板113的清洁能，使得显示屏幕110的的玻璃盖板113洁净无脏污，保证用户拥有良好的屏幕使用体验。
42.注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。