一种笔盖及书写工具的制作方法

文档序号:34888075发布日期:2023-07-25 16:50阅读:27来源:国知局
一种笔盖及书写工具的制作方法

本技术涉及书写工具制造,尤其涉及一种笔盖及书写工具。


背景技术:

1、笔盖是为了保护铅笔尖或防止水性笔、油性笔中的墨汁蒸发的一种保护装置,还具有装饰作用且便于携带,防止漏墨。如果我们仔细观察笔盖会发现笔盖上有一个通气孔,一旦儿童发生意外吞咽,通气孔可以降低窒息死亡的风险。根据国家文教用品强制生产标准,笔盖没有通气孔的笔均为不合格产品。

2、现有技术中的通气孔位于笔盖的一端,以保证所需的通气效果。然而,当通气孔设置在笔盖一端时,如果通气孔设置的过大,则不能很好的起到防止漏墨的效果,影响使用体验。


技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题在于,现有技术中提供的书写工具如果通气孔设置过大会造成漏墨现象,针对现有技术的上述缺陷,提供一种笔盖及书写工具。

2、本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

3、本实用新型提供一种笔盖,包括:盖体和连接件,所述连接件位于所述盖体的外圈,所述盖体为一端开口的空心柱体,所述连接件为两端开口的空心柱体,且所述连接件与所述盖体之间形成有沿所述盖体长度方向的通气孔。

4、其中,所述连接件包括与所述盖体贴合的第一连接部,以及与所述盖体具有预设间隙的第二连接部,所述第一连接部和所述第二连接部相互连接。

5、其中,所述第一连接部的横截面形状为弧形,所述第二连接部的横截面形状为l形。

6、其中,所述第一连接部的内圈的横截面形状为圆弧形,所述第一连接部的外圈的横截面形状为多边形。

7、其中,所述盖体包括筒体,以及设置在所述筒体一端的堵头,所述堵头嵌设于所述筒体一端。

8、其中,所述堵头完全内嵌于所述筒体或露出所述筒体预设距离。

9、其中,所述堵头为圆柱体,或者,所述堵头为圆柱体,以及在所述圆柱体上设置的顶盖。

10、其中,所述盖体的内圈为正多边形或圆形。

11、本实用新型还公开了一种书写工具,所述书写工具包括笔体,以及上述的笔盖,其中,所述笔盖扣合于所述笔体。

12、其中,所述笔体,与所述笔盖以一限位结构连接,所述限位结构为螺纹结构、卡扣结构或磁吸结构。

13、本实用新型的有益效果在于,与现有技术相比,本实用新型通过在盖体外圈设置连接件,使连接件在盖体之间形成沿盖体长度方向的通气孔,在使用过程中,盖体与笔体扣合时,因为盖体的一端为封闭状态,不会发生从盖体处漏墨的现场。连接件与盖体之间形成的通气孔位于盖体的一侧,不会对盖体自身的密封性产生影响,能够在保证盖体防止漏墨效果的条件下,一旦使用者发生误吞情况,能够做到更有效的通气效果。



技术特征:

1.一种笔盖,其特征在于,包括:盖体和连接件,所述连接件位于所述盖体的外圈,所述盖体为一端开口的空心柱体,所述连接件为两端开口的空心柱体,且所述连接件与所述盖体之间形成有沿所述盖体长度方向的通气孔。

2.根据权利要求1所述的笔盖,其特征在于,所述连接件包括与所述盖体贴合的第一连接部,以及与所述盖体具有预设间隙的第二连接部,所述第一连接部和所述第二连接部相互连接。

3.根据权利要求2所述的笔盖,其特征在于,所述第一连接部的横截面形状为弧形,所述第二连接部的横截面形状为l形。

4.根据权利要求2所述的笔盖,其特征在于,所述第一连接部的内圈的横截面形状为圆弧形,所述第一连接部的外圈的横截面形状为多边形。

5.根据权利要求1所述的笔盖,其特征在于,所述盖体包括筒体,以及设置在所述筒体一端的堵头,所述堵头嵌设于所述筒体一端。

6.根据权利要求5所述的笔盖,其特征在于,所述堵头完全内嵌于所述筒体或露出所述筒体预设距离。

7.根据权利要求6所述的笔盖,其特征在于,所述堵头为圆柱体,或者,所述堵头为圆柱体,以及在所述圆柱体上设置的顶盖。

8.根据权利要求6所述的笔盖,其特征在于,所述盖体的内圈为正多边形或圆形。

9.一种书写工具,其特征在于,所述书写工具包括笔体,以及权利要求1-8任意一项所述的笔盖,其中,所述笔盖扣合于所述笔体。

10.根据权利要求9所述的书写工具,其特征在于,所述书写工具包括笔体,所述笔体,与所述笔盖以一限位结构连接,所述限位结构为螺纹结构、卡扣结构或磁吸结构。


技术总结
本技术涉及书写工具制造技术领域,具体涉及一种笔盖及书写工具。一种笔盖,包括:盖体和连接件,所述连接件位于所述盖体的外圈,所述盖体为一端开口的空心柱体,所述连接件为两端开口的空心柱体,且所述连接件与所述盖体之间形成有沿所述盖体长度方向的通气孔。通过在所述盖体外圈一侧设置所述连接件,使所述连接件在所述盖体之间形成沿所述盖体长度方向的所述通气孔,不会对所述盖体自身的密封性产生影响,从而在保证所述盖体防止漏墨效果的条件下,一旦发生误吞情况,能够做到更有效的通气效果。

技术研发人员:高宽,曾令波,李小平
受保护的技术使用者:深圳慢物质文化创意有限公司
技术研发日:20230116
技术公布日:2024/1/13
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