一种外设防滑裙带的工艺瓶的制作方法

本实用新型具体涉及一种外设防滑裙带的工艺瓶。

背景技术：

目前，工艺瓶具有很高的欣赏价值和收藏价值，其外表面上一般堆砌、绘制有各种富有艺术感的图案，特别是一些容量较低、且用于盛放香水、酒等高档物品的高透工艺瓶，不仅需要工艺品种类广泛，还要具有一定的收藏价值。

在现有技术中，工艺瓶作为香水和酒的容器，为了提高其品味和观赏性，增强其视觉效应，越来越精致，样式越来越多且有特色。但是是其也存在以下不足：1、现有的工艺瓶，尤其的一些体型比较大的工艺瓶，虽然具有特别的形状外观，但是其形状组成的流畅感差，另外在装有酒液后，无法通过折射光线提高工艺瓶的视觉观赏效果；2、现有的工艺瓶，尤其的一些体型比较大的工艺瓶，在瓶身上无防滑的结构，因此其外表面过于光滑，容易失手跌落，从而浪费酒液。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型目的是提供一种防滑效果好、线条更具有流畅感和光线折叠效果好的高透瓶。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：

一种外设防滑裙带的工艺瓶，包括内设容纳空间的瓶身，及设置在瓶身上端的、且与瓶身一体成型的瓶口，及设置在瓶身下端的、且与瓶身一体成型的瓶底座，所述瓶身包括厚壁高透的瓶身主体，及设置与瓶身主体一体设置的、有用于防滑的第一裙带，及位于第一裙带下方的、用于防滑的第二裙带，及位于第二裙带下方的、用于防滑的第三裙带，所述第一裙带、第二裙带和第三裙带相互平行设置。

作为优选，所述第一裙带呈半圆设置，所述第一裙带内还设置有圆形管道腔。

作为优选，所述第二裙带和第三裙带的结构与第一裙带的结构一致。

作为优选，所述第一裙带、第二裙带和第三裙带为等距分布设置。

作为优选，所述瓶身主体为倾斜设置，所述瓶身主体一侧上端设置有向外呈凸起的上弧部，所述瓶身主体另一侧下端设置有向外呈凸起的下弧部。

作为优选，所述瓶口包括瓶口筒体，及设置在瓶口筒体上端的、且向外弯折的外沿部。

本实用新型技术效果主要体现在以下方面：该工艺瓶通过在瓶身主体上等距设置有第一裙带、第二裙带和第三裙带，并且在结合倾斜的瓶身主体，不仅能够提高瓶身的防滑效果，还使得瓶身主体的线条更具有流畅感，此外还具有光线折叠效果，提高工艺瓶的视觉效果。

附图说明

图1为本实用新型一种外设防滑裙带的工艺瓶的结构图；

图2为图1中A-A的剖视图。

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步详述，以使本实用新型技术方案更易于理解和掌握。

在本实施例中，需要理解的是，术语“中间”、“上”、“下”、“顶部”、“右侧”、“左端”、“上方”、“背面”、“中部”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

另，在本具体实施方式中如未特别说明部件之间的连接或固定方式，其连接或固定方式均可为通过现有技术中常用的螺栓固定或钉销固定，或销轴连接等方式，因此，在本实施例中不在详述。

一种外设防滑裙带的工艺瓶，如图1-2所示，包括内设容纳空间的瓶身1，及设置在瓶身1上端的、且与瓶身1一体成型的瓶口2，及设置在瓶身1下端的、且与瓶身1一体成型的瓶底座3，所述瓶身1包括厚壁高透的瓶身主体11，及设置与瓶身主体11一体设置的、有用于防滑的第一裙带12，及位于第一裙带12下方的、用于防滑的第二裙带13，及位于第二裙带13下方的、用于防滑的第三裙带14，所述第一裙带12、第二裙带13和第三裙带14相互平行设置。所述瓶身主体11为倾斜设置，所述瓶身主体11一侧上端设置有向外呈凸起的上弧部111，所述瓶身主体11另一侧下端设置有向外呈凸起的下弧部112。通过上弧部111和下弧部112能够使得瓶身主体11倾斜，并具有流畅的线条感。所述第一裙带12呈半圆设置，所述第一裙带12内还设置有圆形管道腔121。通过管道腔121减少第一裙带12的厚度，并且通过管道腔121产生光线折叠效果，提高工艺瓶的视觉效果。所述第二裙带13和第三裙带14的结构与第一裙带12的结构一致。通过设置有第一裙带12、第二裙带13和第三裙带14，不仅能够装饰瓶身主体11，还能够提高瓶身主体11的防滑功能，有利于使用者手持。所述第一裙带12、第二裙带13和第三裙带14为等距分布设置，有利于完全分布在瓶身主体11上。所述瓶口2包括瓶口筒体21，及设置在瓶口筒体21上端的、且向外弯折的外沿部22。

本实用新型技术效果主要体现在以下方面：该工艺瓶通过在瓶身主体上等距设置有第一裙带、第二裙带和第三裙带，并且在结合倾斜的瓶身主体，不仅能够提高瓶身的防滑效果，还使得瓶身主体的线条更具有流畅感，此外还具有光线折叠效果，提高工艺瓶的视觉效果。

当然，以上只是本实用新型的典型实例，除此之外，本实用新型还可以有其它多种具体实施方式，凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本实用新型要求保护的范围之内。