以擦拭清洗光罩的方法及设备的制作方法

专利名称：以擦拭清洗光罩的方法及设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于清洗光罩的技术领域，特别是涉及一种清洗效度 快、且洁净度佳的光罩清洗方法及设备，详言之是一种利用湿润擦拭来清 洁光罩表面的技术。
背景技术：
按，现有半导体制程中的微影制程，是将预先形成于光罩上的集成电 路利用微影技术曝光于晶圆表面，因此为了改善晶圓微影制程的解析度，
会利用相移式的微影制程，其是于光罩上添加部分相移层(ShifterLayer), 借此一相移层在曝光时所衍生的正反相干涉，可使曝光机投射在晶圓上的 影像图案有较佳的解析度，而如图1所示， 一般光罩IO于对应影像图案区 会设有一光罩护膜20(Pellicle)，以防止微粒子沾附在光罩10的图案区中， 造成微影制程的缺陷。由于制程中，或因移载、或因摩擦、或因材料脱落 等，会于制程环境中产生粉尘，且这些粉尘中的微粒子(Particle)会沾附 于光罩IO表面，甚至因制程中的水气与热气而于光罩IO表面产生雾化的 现象，因此目前光罩IO于使用一段时间或次数后需要进行清洗，以去除光 罩IO表面的尘粉；
而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩10旋转而 成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造成微粒旋转，是微粒被移除的主 要物理机制，但其除了会产生大量清洗后的废水外，更需增加废水处理的 设备与成本，再者以大量清洗液进行清洗的动作，其因水份多、且湿度高， 故其不易快速去除水渍、烘干，而容易在光罩IO表面留下水痕，更甚者为 了避免清洗液喷洗到前述的光罩护膜20，'而影响到微影制程的解析度，因 此需另外设置各种不同的防患措施，进一步增加设备的成本，且会增加光 罩IO的清洗时间。
关于光罩的清洗，近年来更发展出一种利用气体或流体所产生的震波 来将粒子从光罩表面去除，这种清洗技术的设备成本极高，同时因其是令 微粒受震波作用而扬起，但其真空设备不见得能有效的将微粒吸走，而造 成微粒进一 步污染其他设备与材料。
换言之，前述的清洗方法并无法有效的去除光罩IO表面的微粒，同时 存在有浪费清洗液与需另外处理废水的问题，而造成其清洗效率不佳等状 况。
再者，不论是利用清洗液旋转清洗或震波清洗，现有的清洗技术在避
免伤及光罩护膜20的考量下，通常光罩10清洗仅能清洗顶部表面15与上 边缘表面11,至于非光罩护膜20范围的下边缘表面12则通常不会进行清 洗，造成微粒的累积。更进一步而言，光罩IO在长期使用及清洗过程中的 水气与热气，会于光罩IO表面形成雾化的现象，这些雾化的痕迹一样会影 响到微影制程的解析度。而前述不论是占附于光罩10下边缘表面12或雾 化的痕迹均无法由现有的微粒检测设备检出，因此当这些未完全清洗完成 的光罩用于微影制程中，容易使晶圆产生不良品，造成更大的损失。
而本发明即在于迅速、且有效地消除占附于光罩的两侧下边缘表面的 微粒与形成于光罩表面的雾化等平面式污渍。以节省光罩的清洗时间，并 提升光罩的清洗效率与洁净度。
有鉴于上述现有的以擦拭清洗光罩的方法及设备存在的缺陷，本发明 人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学 理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的以擦拭清洗光罩的方 法及设备，能够改进一般现有的以擦拭清洗光罩的方法及设备，使其更具 有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于 创设出确具实用价值的本发明。

发明内容
因此，本发明主要是在于，提供一种以擦拭清洗光罩的方法及设备， 其利用含浸清洗液的清洗头直接擦拭光罩上、下边缘表面与顶部表面，而 能有效地将《效粒去除，且不致留下清洗水痕。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据 本发明提出的 一种以擦拭清洗光罩的设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部 表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其包括 一或多数 个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧 边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该側边擦^t式装 置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面； 一或多数个顶 面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的 擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装 置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其进一步包含有；一^i体，其可设置 侧边擦拭装置与顶面擦拭装置设于一机体内； 一输送装置，其具有一可承 载光罩的承载单元，可将光罩移入机体内，且侧边擦拭装置设于输送装置 两侧或任一侧，又前述顶面擦拭装置设于输送装置上方； 一移转装置，其
具有一光罩盒启闭单元及一机械手臂单元，光罩盒启闭单元可用于启闭容 设光罩的光罩盒，而机械手臂单元可令光罩于光罩盒启闭单元与承载单元 间移载。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的侧边擦拭装置具有一 固定 框体，固定框体上设有一具第一、二巻布器的巻布单元，且擦拭布是巻绕 于第一、二巻布器间，巻布单元上进一步设有一可对擦拭布提供清洗液的
加水器，再者侧边擦拭装置于擦拭布异于光罩一側的固定框体上设有一清 洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出或缩回的清洗头，且清洗头可 同步擦拭光罩側边的上、下边缘表面。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的清洗单元进一步于清洗头 对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光罩前预先去除光罩上的微 粒。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的清洗单元进一步于清洗头 对应光罩出料一侧设有一烘干单，用于当光罩经擦拭后，可利用压缩干燥 空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的侧边擦拭装置并于擦拭布 对应光罩一侧的固定框体上设有一或多数压轮，让清洗单元的清洗头于对 '应光罩伸出时，可利用压轮预先形成夹掣空间，以防止光罩边缘异常拉动 擦拭布。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的顶面擦拭装置具有一 固定 框体，固定框体上设有一具第一、二巻布器的巻布单元，且擦拭布是巻绕 于第一、二巻布器间，巻布单元上进一步设有一可对擦拭布提供清洗液的
加水器，再者侧边擦拭装置于擦拭布异于光罩一側的固定框体上设有一清 洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出或缩回的清洗头，且清洗头可 将擦拭布压抵于光罩的顶部表面，供进行擦拭清洗。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的清洗单元进一步于清洗头 对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光罩前预先去除光罩上的微粒。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其中所述的清洗单元进一步于清洗头 对应光罩出料一側设有一烘干单，用于当光罩经擦拭后，可利用压缩干燥 空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。
前述的以擦拭清洗光罩的设备，其进一步于光罩进出口处设有一检测 装置，该检测装置具有一对应光罩顶面处设有一检知元件，以检知光罩顶 面的微粒状况，做为清洗擦拭前、后的比较，以确认其清洗效果。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本 发明提出的一种以擦拭清洗光罩的方法，其可利用擦拭手段清洗光罩异于
光罩护膜的上、下边缘表面及对应光罩护膜的顶部表面，其特征在于该方
法包含提供一含浸清洗液的侧边擦拭装置，其可同步接触擦拭光罩侧边 的上、下边缘表面，及提供一含浸清洗液的顶面擦拭装置，其可压抵接触 擦拭光罩的顶部表面，以形成一种含浸清洗液、且不滴水的湿润擦拭，而 足以去除光罩表面的微粒及雾化污渍等。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一 步实现。 前述的以擦拭清洗光罩的方法，其中所述的含浸清洗液的侧边擦拭装 置与顶面擦拭装置进一步于光罩进料一侧具有一去除手段，供于湿润擦拭 前预先去除微粒。
前述的以擦拭清洗光罩的方法，其中所述的含浸清洗液的侧边擦拭装 置与顶面装置进一步于光罩出料一侧具有一烘干手段，供于湿润擦拭后烘 干光罩，防止产生擦拭水痕。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上可知，为了 达到上述目的，本发明提供了一种以擦拭清洗光罩的设备包括有
一或多数侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一 面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该 侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面；
一或多数顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向 光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布， 该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面；
经由上述的说明，本发明通过前述技术手段的展现，可让本发明有效、 且迅速的去除光罩护膜以外表面的微粒与雾化污渍等，以缩短光罩清洗时 间，而不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，有效的提升光罩清洗效率，并 大幅提升光罩清洗后的洁净度。
借由上述技术方案，本发明以擦拭清洗光罩的方法及设备至少具有下 列优点
根据本发明的设计，是利用擦拭手段直接去除光罩表面的微粒与雾化 污渍，同一表面仅需一次擦拭动作，无需重复以清洗液沖洗，故清洗速度 较现有者快。
根据牟发明的设计，本发明可直接将微粒与雾化污渍直接擦拭清洗， 且更可同步清洗光罩侧边的上、下边纟彖表面，故其清洗效率佳。
根据本发明的设计，本发明是以含浸的湿润状擦拭，无需使用大量的 清洗液，故可大幅减少清洗剂的使用，避免增加废水处理的困扰，且可减 少清洗后产生水痕的现象，进一步可降^f氐清洗处理的成本。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的 技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和
其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附
图，详细il明如下。


图1所绘示的是光罩的外观示意图。
图2是本发明光罩清洗设备的外观示意图。
图'3是本发明光罩清洗设备的内部状态示意图，其显示本发明的构成 及相对关系。
图4是本发明光罩清洗设备的清洗动作示意图，用以说明光罩旋转及 清洗的位置。
图5是本发明的侧边擦拭装置端面示意图，用于揭示其未夹掣光罩上、 下边缘表面的状态。
图6是本发明的侧边擦拭装置端面示意图，进一步揭示其夹掣光罩上、 下边缘表面擦拭的状态。
图7是本发明的側边擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其连续擦拭光 罩上、下边缘表面状态。
图8是本发明的顶面擦拭装置的侧面示意图，用于揭示其顶部表面连 续擦拭状态。
图9是本发明光罩清洗设备另一实施例的外观示意图，用以说明其构 成及相对关系。
图IO是本发明光罩清洗设备另一实施例的前视平面示意图，进一步说 明其清洗动作的状态。
10:光罩11:上边缘表面
12:下边缘表面15:顶部表面
20:光罩护膜30:机体
40:输送装置45:承载单元
50:移载装置51:光罩盒启闭单元
55:机械手臂单元60:
65:进出气元件70:側边擦拭装置
71:固定框体72:巻布单元
711::第一巻料器712::第二巻料器
73:导轮74:擦拭布
75:清洗单元76:清洗头
77:去除单元78:烘干单元
79:压轮80:顶面擦拭装置
81:固定框体82: 8巻布单元
811:第一巻料器812:第二巻料器
83:导轮84:擦拭布
85:清洗单元86:清洗压轮
87:去除单元88:烘干单元
90:去除装置91:固定框
92:第一去除单元93:第二去除单元
95:烘干装置96:固定框
97:第一烘干单元98:第二烘干单元
100:检测装置101:固定框
105:才佥知元件
具体实施例方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功 效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的以擦拭清洗光罩的方 法及设备其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。
参考所附的图式，首先参考图1所示，是一般光罩IO组件，该光罩10 底面设有一保护电路影像区的光罩护膜20，该光罩10具有异于光罩护膜 20的上、下边缘表面ll、 12及对应光罩护膜20的顶部表面15，本发明以 擦拭清洁光罩的方法包含提供一含浸清洗液的侧边擦拭装置70，其可同步 接触擦拭光罩IO侧边的上、下边缘表面11、 12,及提供一含浸清洗液的顶 面擦拭装置80，其可压抵接触擦拭光罩10的顶部表面15，以形成一种含 浸清洗液、且不滴水的湿润擦拭，而足以去除光罩IO表面的微粒及雾化污
渍等；
而本发明清洗设备是如图2、 3所揭示，其至少包含有一承载、移动光 罩10的输送装置40、 一或多数用于同步清洗光罩IO上、下边缘表面ll、 12的侧边擦拭装置70及一或多数清洗光罩IO顶部表面15的顶面擦拭装置 80;
在图2、 3的实施例中，本发明清洗设备包含有一封闭式机体30,以确 保清洗动作与清洗环境不受外界干扰。而输送装置40上设有一可夹掣、且 载送光罩10移动的承载单元45,该承载单元45并可于输送装置40上不同 的位置上原地旋转(如图4所示)，以供清洗光罩10不同侧的上、下边缘 表面11、 12与顶部表面15;
该清洗设备进一步包含有一移载装置50,该移载装置50具有一光罩盒 启闭单元51及一机械手臂单元55，其中光罩盒启闭单元51可供置入一可 选择性启闭的光罩盒60，且光罩盒60上设有一或多数进出气单元65，供 对光罩盒60置于储存架或光罩盒启闭单元51时对内部进行气体充注，以
避免光罩IO疏化，该移载装置50操作上可利用光罩盒启闭单元51将光罩 盒60开启，并以机械手臂单元55取出置于光罩盒60内的光罩10,且将此 一光罩10移载至清洗设备的输送装置40承载单元45上；
至于前述一或多数侧边擦拭装置70可设于前述输送装置40对应光罩 10的一侧或两侧，本发明以一组设于输送装置40 —侧的侧边擦拭装置70 为主要实施例，进一步配合参阅图5所示，其是于输送装置40—侧设有一 固定框体71，固定框体71上设有一巻布单元72,该巻布单元72包含有一 第一巻布器721与一第二巻布器722，且固定框体71上设有复数导轮73， 并于巻布单元72的第一、二巻布器721、 722与导轮73间巻绕有一擦拭布 74，擦拭布74的一侧表面面向输送装置40上的光罩10侧缘，让擦拭布74 受第一、二巻布器721、 722作用巻收，且利用导轮73保持擦拭布74的张 力，再者擦拭布74是选自具吸收性、且不产生微粒或纤维剥落的无尘布、 无尘纸等。再者巻布单元72上进一步设有加水器(图中未绘)，可对擦拭 布74提供清洗液，使擦拭布74于接触光罩10前预先含浸清洗液而成不滴 水的湿润状，且为了增进去除樣吏粒的效果，巻布单元72提供的清洗液进一 步可预先加热至适当温度，前述清洗液可为不伤害光罩10表面的超纯水 (D.I. Water )、氢氧化铵与过氧化氢的水溶液(A.P.M )、石克酸与过氧化氢溶 液(S.P.M)等。再者侧边擦拭装置70于擦、拭布74异于光罩10 —侧的固定 框体71上设有一清洗单元75,该清洗单元75具有一可对应光罩10伸出或 缩回的清洗头76,且清洗头76上、下部可同步贴靠或远离光罩IO侧边的 上、下边缘表面11、 12 (如图6所示)，供清洗头76同步擦拭光罩IO侧边 的上、下边缘表面11、 12;
另搭配图7所示，清洗单元75进一步于清洗头76两侧分设有一去除 单元77及一烘干单元78。其中去除单元77是设于清洗头76对应光罩10 进料的一侧，其可为吹气元件或吸气元件，用于操:作上可在光罩IO进入清 洗头76擦拭前先行去除较大或沾附力较小的微粒，本发明以真空吸气元件 为主要实施例，以避免微粒扬起沾附于光罩IO其他表面或设备内。而烘干 单元78是设于清洗头76对应光罩10出料的一侧，用于当光罩IO经擦拭 后，可利用压缩干燥空气(CDA)或氮气(N2)立即烘干清洗后的光罩10， 以避免于光罩10表面留下擦拭水痕，再者烘干单元78进一步可设置有加 热器(图中未绘)，使烘干单元78可提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮 气(N2 )，进一步增进其烘干效果。另侧边擦拭装置70并于擦拭布74对应 光罩10—侧的固定框体71上设有一或多数压轮79，让清洗单元75的清洗 头76于对应光罩10伸出时，可利用压轮79预先形成夹掣空间，以防止光 罩10边缘异常拉动擦拭布74。
又前述一或多数顶面擦拭装置80可设于前述输送装置40对应光罩10
顶部表面15的上方，本发明以一组设于输送装置40上方的顶面擦拭装置 80为主要实施例，进一步参阅图3、 8所示，前述顶面擦拭装置80则于输 送装置40 —侧设有一固定框体81，该固定框体81上设有一巻布单元82， 该巻布单元82包含有一第一巻布器821与一第二巻布器822,第一、二巻 布器821 、 822与导轮83间巻绕有一擦拭布84,擦拭布84的一侧表面面向 输送装置40上的光罩10顶面，且固定框体81上设有复数可保存擦拭布84 张力的导轮83,再者擦拭布84—样亦是选自具吸收性、且不产生微粒或纤 维剥落的无尘布、无尘纸等。又巻布单元82上进一步加设有一清洗液加水 器(图中未绘)，可对擦拭布84提供清洗液，使擦拭布84于接触光罩10 前预先含浸清洗液而成不滴水的湿润状，且巻布单元82另加设有一加热器 (图中未绘)，以提供清洗液的预热作用，可增进去除微粒的效果，前述清 洗液可为不伤害光罩IO表面的超纯水(D丄Water)、氢氧化铵与过氧化氢 的水溶液(A.P,M)、碌u酸与过氧化氢溶液(S.P.M)等。再者顶面擦拭装置 80于固定框体71的擦拭布74对应光罩10上方设有一清洗单元85，该清 洗单元85具有一可作动擦拭布84贴4氐或远离光罩10顶部表面15的清洗 头86(如图8所示)；
再者，清洗单元85进一步于清洗头86两侧分设有一去除单元87及一 烘干单元88。其中去除单元87是设于清洗头86对应光罩IO进料的一侧， 其可为吹气元件或吸气元件，于操作上可在光罩10进入清洗头86擦拭前 先行去除较大或沾附力较小的微粒，本发明以真空吸气元件为主要实施例， 可避免微粒扬起而沾附于光罩10其他表面或设备内。另烘干单元88是设 于清洗头86对应光罩10出料的一侧，用于当光罩10经擦^^后，可利用压 缩干燥空气(CDA)或氮气(N2)立即烘干清洗后的光罩10，以避免于光 罩10表面留下擦拭水痕，再者烘干单元88进一步可设置有加热器(图中 未绘)，使烘干单元88可提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮气(N2)，进 一步增进其烘干效果。
借此，组构成一可迅速清洗、且清洗效率佳的以擦拭清洁光罩的设备 结构者。
通过前述本发明的清洗设备结构，本发明于实际操作上，是如图2~4 所示，将光罩盒60置于移载装置50的光罩盒启闭单元51内，并于开启光 罩盒60后，利用机械手臂单元55将光罩10取出并转置于输送装置40的 承载单元45上，进一步并利用输送装置40将承载单元45连同光罩10移 入机体30内；
接着如图5 7所示，令承载单元45将光罩10移至对应侧边擦拭装置 70处，且側边擦拭装置70并令其清洗单元75的清洗头76相对光罩10侧
边伸出，借由压轮79将预先含浸清洗液的湿润状擦拭布74压抵于清洗头
76上、下表面，而当光罩10受承载单元45作动向清洗头76移动时，可先 利用去除单元77的真空吸气作用将光罩IO表面的纟敖粒吸取(如图7所示)， 接着令清洗头76将擦拭布74压贴于光罩10的上、下边缘表面11、 12 (如 图6、 7所示)，当其光罩10继续移动时，可利用该呈湿润状的擦拭布74 擦拭该光罩10側边的上、下边缘表面11、 12,同时光罩10经擦拭后进一 步可利用烘干单元78即时烘干光罩IO的上、下边缘表面11、 12，以避免 于上、下边缘表面11、 12形成擦拭的水痕，进而完成光罩IO—侧的上、 下边缘表面11、 12。接着令清洗单元75的清洗头76退回后，使光罩IO反 向移至側边#~拭装置70前方的A点(如图4所示)，并利用^^载单元45旋 转该光罩10，而以前述方式擦拭该光罩10另侧的上、下边缘表面11、 12 的清洗擦拭；
而于完成光罩10两侧的上、下边缘表面11、 12的清洗擦拭后，则是 如图8所示，利用承载单元45将光罩10移至顶面擦拭装置80,该顶面擦 拭装置80并令其清洗单元85的清洗头86相对光罩10顶部表面15伸出， 借由清洗头86将预先含浸清洗液的湿润状擦拭布84压抵于光罩IO顶部表 面15，而当光罩10受承载单元45作动向清洗头86移动时，可先利用去除 单元87的真空吸气作用将光罩10表面的微粒吸取(如图8所示)，接着令 清洗头86以擦拭布84擦拭该光罩10的顶部表面15,且光罩10于擦拭后 进一步可利用烘干单元88即时烘干光罩10的顶部表面15，以避免于光罩 10的顶部表面15形成擦拭的水痕，进而完成光罩10顶部表面15 —侧的擦 拭。接着令清洗单元85的清洗头86缩回，使光罩IO反向移至顶面擦拭装 置80前方的B点(如图4所示)，并利用承载单元45旋转该光罩10，再 以前述方式擦拭该光罩IO顶部表面15的另侧，最后将光罩10退出机体30， 且以移载装置50的机械手臂单元55将清洗后的光罩10置入光罩盒启闭单 元51的光罩盒60内，并于光罩盒60闭合后取出该置有光罩10的光罩盒 60，而以自动、且连续式完成整个光罩IO的清洗工作，大幅提升其清洗的 速度，且由于是属直接接触的擦拭清洗，故可去除较小的微粒、沾附力较 大的纟效粒，以^雾化污渍等，有效地增进光罩IO清洗效率。
再者，本发明于实际操作上，进一步可于侧边擦拭装置70与顶面擦拭 装置80利用加热器使含浸于擦拭布74、 84上的清洗液预先加热，以增加 其去除微粒与雾化污渍的效果。又侧边擦拭装置70与顶面擦拭装置80的 烘干单元78、 88进一步可利用加热器提供热压缩干燥空气(CDA)或热氮 气(N2 )，而能提升其烘干效果。另側边擦拭装置70与顶面擦拭装置80的 巻布单元72、 82可令擦拭布74于清洗擦拭过程中微量移动，以即时带走 擦拭后的微粒，避免微粒伤害光罩IO，并能增进其清洗擦拭效果。
又本发明另有一实施例，其是如图9、 IO所揭示，其中输送装置40两
侧下方至少一侧设有两側边擦拭装置70A、 70B，本实施例以两侧均设有两 側边擦拭装置70A、 70B为主要实施例，该两侧边擦拭装置70A、 70B是于 一固定框体71上设有一巻布单元72，该巻布单元72包含有一第一巻布器 721与一第二巻布器722,且固定框体71上并设有一可选择性贴靠或远离 光罩10两側下边缘表面12的清洗头76A、 76B,其中清洗头76A、 76B是 呈压轮状，而两侧边擦拭装置70A、 70B的巻布单元72第一、二巻布器721、 722与清洗头76A、 76B间分别巻绕有一擦拭布74。再者其中前方的侧边擦 拭装置70A巻布单元72上进一步可设有加水器(图中未绘)与加热器(图 中未绘)，以对擦拭布74提供清洗液或具适当加热温度的清洗液。让前方 侧边擦拭装置70A可对光罩10下边缘表面12进行湿润擦拭清洗，而后方 的侧边擦拭装置70B对光罩10下边缘表面12进行干性擦拭；
而输送装置40上方设有两顶面擦4式装置80A、 80B,该两顶面擦拭装 置80A、 80B是于一固定框体81上设有一巻布单元82，该巻布单元82包 含有一第一巻布器821与一第二巻布器822，且固定框体81上并设有一可 选择性贴靠或远离光罩10顶面15的清洗压轮86A、 86B，而两顶面擦4式装 置80A、 80B的巻布单元82第一、二巻布器821、 822与清洗压轮86A、 86B 间分别巻绕有一擦拭布84。再者其中前方的顶面擦拭装置80A巻布单元82 上进一步可设有加水器(图中未绘)与加热器(图中未绘)，可对擦拭布84 提供清洗液或具适当加热温度的清洗液。让前方顶面擦拭装置80A可对光 罩10顶面15进行湿润擦拭清洗，而后方的顶面擦拭装置80B则对光罩10 顶面15进行干性擦拭；
再者，输送装置40可于前端与后端分设有一去除装置90及一烘干装 置95。其中去除装置90具有一光罩10穿过的固定框91，而固定框91于 对应光罩10顶面15与下边缘表面12处分设有第一去除单元92与第二去 除单元93，其可为真空吸气元件。于操作上，让光罩10进入擦拭前先行去 除较大或沾附力较小的《效粒。烘干装置95具有一光罩10穿过的固定框96， 而固定框96于对应光罩10顶面15与下边缘表面12处分没有第一烘干单 元97与第二烘干单元98,其立即烘干清洗后的光罩10,以避免于光罩10 表面留下擦拭水痕。且输送装置40光罩10进出料口进一步设有一检测装 置100,该检测装置100具有一可供光罩10穿过的固定框101，而固定框 101于对应光罩10顶面15处i殳有一4企知元件105，该检知元件105可光学 或雷射检测元件，以检知光罩10顶面15的微粒状况，做为清洗擦拭前、 后的比较，以确认其清洗效果。本实施例一样可达到前述的目的与功效。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式 上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发 明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利
用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但 凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例 所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围 内。
权利要求
1、一种以擦拭清洗光罩的设备，尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备，其特征在于其包括一或多数个侧边擦拭装置，其设于对应光罩一侧，侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状，该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面；一或多数个顶面擦拭装置，其设于光罩上方，顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布，擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布，该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。
2、 根据权利要求1所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于其进一 步包含有；一机体，其可设置侧边擦拭装置与顶面擦拭装置设于一机体内； 一输送装置，其具有一可承载光罩的承载单元，可将光罩移入机体内， 且侧边擦拭装置设于输送装置两侧或任一侧，又前述顶面擦拭装置设于输 送装置上方；一移转装置，其具有一光罩盒启闭单元及一机械手臂单元，光罩盒启 闭单元可用于启闭容设光罩的光罩盒，而机械手臂单元可令光罩于光罩盒 启闭单元与承载单元间移载。
3、 根据权利要求1或2所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所 述的側边擦拭装置具有一固定框体，固定框体上设有一具第一、二巻布器 的巻布单元，且擦拭布是巻绕于第一、二巻布器间，巻布单元上进一步设 有一可对擦拭布提供清洗液的加水器，再者側边擦拭装置于擦拭布异于光 罩一侧的固定框体上设有一清洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出 或缩回的清洗头，且清洗头可同步擦拭光罩侧边的上、下边缘表面。
4、 根据权利要求3所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所述的 清洗单元进一步于清洗头对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光 罩前预先去除光罩上的微粒。
5、 根据权利要求3所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所述的 清洗单元进一步于清洗头对应光罩出料一侧设有一烘干单，用于当光罩经 搭y试后，可利用压缩干燥空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。
6、 根据权利要求3所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所述的 侧边擦拭装置并于擦拭布对应光罩一侧的固定框体上设有 一或多数压轮， 让清洗单元的清洗头于对应光罩伸出时，可利用压轮预先形成夹掣空间， 以防止光罩边缘异常拉动擦拭布。
7、 根据权利要求1或2所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所 述的顶面擦拭装置具有一固定框体，固定框体上设有一具第一、二巻布器 的巻布单元，且擦拭布是巻绕于第一、二巻布器间，巻布单元上进一步设 有一可对擦拭布提供清洗液的加水器，再者侧边擦拭装置于擦拭布异于光 罩一侧的固定框体上设有一清洗单元，该清洗单元具有一可对应光罩伸出 或缩回的清洗头，且清洗头可将擦拭布压抵于光罩的顶部表面，供进行擦拭清洗o
8、 根据权利要求7所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所述的 清洗单元进一步于清洗头对应光罩进料一侧设有一去除单元，可于擦拭光 罩前预先去除光罩上的微粒。
9、 根据权利要求7所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于所述的 清洗单元进一步于清洗头对应光罩出料一侧设有一烘干单，用于当光罩经 擦拭后，可利用压缩干燥空气或氮气立即烘干清洗后的光罩。
10、 根据权利要求1或2所述的以擦拭清洗光罩的设备，其特征在于 其进一步于光罩进出口处设有一检测装置，该检测装置具有一对应光罩顶 面处设有一检知元件，以检知光罩顶面的微粒状况，做为清洗擦拭前、后 的比较，以确认其清洗效果。
11、 一种以擦拭清洗光罩的方法，其可利用擦拭手段清洗光罩异于光 罩护膜的上、下边缘表面及对应光罩护膜的顶部表面，其特征在于该方法 包含提供一含浸清洗液的侧边擦拭装置，其可同步接触擦拭光罩侧边的上、 下边纟彖表面， ，及提供一含浸清洗液的顶面擦拭装置，其可压抵接触擦拭光罩的顶部 表面，以形成一种含浸清洗液、且不滴水的湿润擦拭，而足以去除光罩表 面的微粒及雾化污渍等。
12、 根据权利要求11所述的以擦拭清洗光罩的方法，其特征在于所述 的含浸清洗液的侧边擦拭装置与顶面擦拭装置进一步于光罩进料一侧具有 一去除手段，供于湿润擦拭前预先去除微粒。
13、 根据权利要求11所述的以擦拭清洗光罩的方法，其特征在于所述 的含浸清洗液的侧边擦拭装置与顶面装置进一步于光罩出料一側具有一烘 干手段，供于湿润擦拭后烘干光罩，防止产生擦拭水痕。
全文摘要
本发明是关于一种以擦拭清洗光罩的方法及设备，特别是指一种可有效去陈光罩表面微粒子与雾化污渍的清洁方法与设备，该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置，以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置，而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩之上、下边缘表面与顶部表面，借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等，以缩短光罩清洗及再运用时间，同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕，并大幅提升光罩清洗后的洁净度。
文档编号G03F1/00GK101364041SQ20071014355
公开日2009年2月11日 申请日期2007年8月9日 优先权日2007年8月9日
发明者廖莉雯 申请人:廖莉雯