专利名称：遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光学元件，尤其涉及一种晶圆级(wafer level)遮光片阵列、遮光 片阵列的制造方法及具有该遮光片阵列的镜头模组阵列。
背景技术：
一般的镜头模组主要包括镜片组、容纳镜片组的镜筒、影像感测器和镜座，影像感 测器设置在镜座内，镜座容纳可旋转的镜筒。但是，该镜头模组一般体积较大。随着摄像技术的发展，镜头模组与各种便携式电子装置如手机、摄像机、电脑等的 结合，更是得到众多消费者的青睐，所以市场对小型化镜头模组的需求增加。目前小型化镜头模组多采用晶圆级镜片，其一般是利用精密模具制造出微型镜片 阵列，然后与硅晶圆制成的影像感测器电连接、封装，然后切割，得到的每一小单元都是一 个晶圆级的相机模组。然而，部分入射光线并非直接通过折射后进入影像感测器，而是在各 晶圆级镜片的表面经过多次反射后进入影像感测器，从而形成眩光，造成影像模糊，眩光的 存在严重影响了所拍摄影像的品质。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能减少/消除眩光的遮光片阵列、一种制造该遮光片 阵列的方法及具有该镜头模组阵列。一种遮光片阵列包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在 该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面。该遮光 片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。—种遮光片阵列的制造方法包括以下步骤提供一块透光平板；于该透光平板的 表面设置光阻层；对该光阻层曝光显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；对 该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；于该粗 糙面形成遮光层；去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成 具有多个间隔分布的透光区的遮光片阵列。一种镜头模组阵列包括一个镜片阵列及与该镜片阵列叠合在一起的遮光片阵列。 该镜片阵列包括多个镜片。该遮光片阵列包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分 布的透光区及在该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行 的表面。该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。该透光区的中心轴与该镜片的中心
轴重合。与现有技术相比，本发明提供的遮光片阵列的遮光层设于遮光片阵列的粗糙面， 可有效的减少/消除眩光现象一方面该遮光层本身可以吸收光线，另一方面，即使有部分 未被遮光层吸收的光线还可由该遮光层与粗糙面之间的粗糙介面而产生漫反射，从而更有 效地防止散杂光进入镜片阵列，减少/消除眩光。
图1是本发明第一实施例的遮光片阵列的制造方法的流程图，该遮光片阵列包括 一块透光平板。图2是提供的透光平板及设于该透光平板表面的光阻层的示意图。图3是对图2中的光阻层曝光、显影后留下的多个间隔分布的预留部分的示意图。图4是对该预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理后的示意图。图5是形成遮光层于该粗糙表面及预留部分表面的示意图。图6是去除该预留部分，以形成具有多个透光区的遮光片阵列的示意图。图7是形成滤光层于该透光区的表面的示意图。图8是形成对位孔于该遮光片阵列的示意图。图9是本发明第二实施例提供的遮光片阵列的示意图。图10是本发明第三实施例提供的镜头模组阵列的示意图。
具体实施例方式请参阅图1，其为本发明第一实施例中遮光片阵列的制造方法的流程图。该方法包 括以下步骤提供一块透光平板；于该透光平板的表面设置光阻层；对该光阻层曝光、显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙于该粗糙面形成遮光层；去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成具有多 个间隔分布的透光区的遮光片阵列。下面将以制造遮光片阵列20为例对本发明实施例中遮光片阵列的制造方法进行 详细说明。请参阅图2，首先提供一块透光平板10。于该透光平板10的表面设置光阻层102。 本实施例中，该透光平板10由玻璃制成，采用旋涂方法在该透光平板10的表面设置负光阻 层102。当然，该透光平板10也可以由塑料等透光材料制成。当然，也可以采用喷涂方法在 该透光平板10的表面设置正光阻层。请参阅图3，对该光阻层102曝光、显影，以保留该光阻层102的多个间隔分布的预 留部分103。优选地，本实施例中，该预留部分103呈圆柱状，且该多个预留部分103呈阵 列式排布。当然，该预留部分103的形状应根据实际情况来确定，不限于本实施例中的圆柱 状。请参阅图4，对该光阻层102的预留部分103周围的透光平板10的表面进行粗糙 化处理，以使其成为粗糙面104。本实施例中，采用干蚀刻方法对该预留部分103周围的透 光平板10的表面进行粗糙化处理。当然，也可以采用湿蚀刻或研磨等其它方法以使该预留 部分103周围的透光平板10的表面粗糙。请参阅图5，于该粗糙面104形成遮光层105。本实施例中，采用溅镀的方法于该粗
4糙面104及该预留部分103的表面形成该遮光层105，且该遮光层105的材料为铬。当然， 也可以采用蒸镀等其它镀膜方法来形成遮光层105，当然，该遮光层105的材料也可以氮化 钛等其它可以吸收光线的材料。请参阅图6，去除该预留部分103，使透光平板10相应于原预留部分103的表面曝 露于外，以形成具有多个间隔分布的透光区106的遮光片阵列20。该透光区106为实心透 光体，其具有两个相对且平行的表面。该遮光片阵列20的透光平板10具有多个透光区106 及在该透光区106周围的粗糙区107。该粗糙区107具有上述的粗糙面104。请参阅图7，于该透光区106的表面形成滤光层108，以免影像感测器(图未示) 产生杂讯。滤光层108可采用不同的设计用以实现过滤不同波长的光线，在本实施例中，该 滤光层108可以是红外光截止滤光膜、低通滤光膜、紫外截止滤光膜等其它类型滤光膜。请参阅图8，于该遮光片阵列20的粗糙区107形成至少两个贯穿该透光平板10及 该遮光层105的对位孔109。该对位孔109用来与镜片阵列(图未示)进行对位，以使该透 光区106的中心轴与该镜片阵列的镜片的中心轴对准。本实施例中，该对位孔109为圆形 通孑L。由于遮光片阵列20的遮光层105设于遮光片阵列20的粗糙面104，可有效的减 少/消除眩光现象一方面该遮光层105本身可以吸收光线，另一方面，即使有部分未被遮 光层105吸收的光线还可由该遮光层105与粗糙面104之间的粗糙介面而产生漫反射，从 而更有效地防止散杂光进入镜片阵列，减少/消除眩光。请参阅图9，其为本发明第二实施例提供的遮光片阵列20a，其具有一块透光平板 IOa0该透光平板IOa具有多个间隔分布的透光区106a及在该透光区106a周围的粗糙区 107a。该透光区106a为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面。该粗糙区107a具有 一个第一表面108a及与该第一表面108a相对的第二表面109a。该第一表面108a为粗糙 面。该遮光片阵列20a还具有设于该第二表面109a的遮光层201a。本实施例中，该第二表 面109a为光滑面。当然，该第二表面109a也可以为粗糙面。光线经由该第一表面108a散射后，部分光线穿过透光平板10a，并被遮光层201a 吸收，从而可以更有效地消除眩光。当然，也可以在该第一表面108a及第二表面109a上均设有遮光层201a。当然，于该第二表面109a形成遮光层201a时，也可以先在该粗糙区107a的第二 表面109所在的透光平板IOa的表面设置光阻层，再曝光、显影，以留下该光阻层的预留部 分，然后于未被该预留部分覆盖的该第二表面109a形成遮光层201a，最后再去除该预留部 分，便将遮光层201a形成于该第二表面109a。请参阅图10，其为本发明第三实施例提供的镜头模组阵列30。该镜头模组阵列30 包括一个镜片阵列40及一个与该镜片阵列40叠合在一起的遮光片阵列50。该镜片阵列40包括多个镜片401及多个对位结构402。本实施例中，该多个对位 结构402为通孔，且每两个镜片401之间有一个对位结构402。当然，该对位结构402也可 以为凸起。该遮光片阵列50包括一块透光平板501。该透光平板501具有多个间隔分布的透 光区502及在该透光区502周围的粗糙区503。该透光区502为实心透光体，其具有两个相 对且平行的表面。该遮光片阵列50还包括设于该粗糙区503的表面的遮光层504、至少两个位于该粗糙区503且贯穿该透光平板501及遮光层504的对位孔505及形成于该透光区 502的表面的滤光层506。该对位孔505与对位结构402相配合，以使该镜片阵列40与该遮光片阵列50叠 合时，镜片401的中心轴与透光区502的中心轴重合，最后切割成多个镜头模组。由于遮光片阵列50的遮光层504设于遮光片阵列50的粗糙区503，可有效的减 少/消除眩光现象一方面该遮光层504本身可以吸收光线，另一方面，即使有部分未被遮 光层504吸收的光线还可由该遮光层504与粗糙区503之间的粗糙介面而产生漫反射，从 而更有效地防止散杂光进入镜片阵列40，减少/消除眩光，进而提高每一镜头模组的成像 品质。当然，也可以在该镜片阵列40与遮光片阵列50之间设一个间隔片阵列(图未 示)。该间隔片阵列具有多个间隔分布的通孔，该多个通孔的中心轴与镜片401的中心轴及 透光区502的中心轴重合。当然，也可以先将该遮光片阵列50与多个镜片阵列叠合在一起，然后与具有多个 影像感测器的硅晶圆压合封装，最后切割成多个相机模组。另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明 精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
一种遮光片阵列，其包括一块透光平板，其特征在于，该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。
2.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该粗糙区具有相对的第一表面和第 二表面，该第一表面为粗糙面，该遮光层至少设于该第一表面与该第二表面中的一个面。
3.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该多个透光区呈阵列式排布。
4.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该粗糙区设有至少两个贯穿该透光 平板及该遮光层的对位孔。
5.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该遮光片阵列进一步包括设于该透 光区的表面的滤光层。
6.一种遮光片阵列的制造方法，其包括以下步骤提供一块透光平板；于该透光平板的表面设置光阻层；对该光阻层曝光显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；于该粗糙面形成遮光层；去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成具有多个间 隔分布的透光区的遮光片阵列。
7.如权利要求6所述的遮光片阵列的制造方法，其特征在于该遮光片阵列的制造方 法进一步包括形成至少两个对位孔，该对位孔贯穿该透光平板及该遮光层。
8.如权利要求6所述的遮光片阵列的制造方法，其特征在于该遮光片阵列的制造方 法进一步包括形成滤光层于该透光区的表面。
9.一种镜头模组阵列，其包括一个镜片阵列，该镜片阵列包括多个镜片；一个与该镜片阵列叠合在一起的遮光片阵列，该遮光片阵列包括一块透光平板，该透 光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体， 其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层，该透光区的 中心轴与该镜片的中心轴重合。
10.如权利要求9所述的镜头模组阵列，其特征在于其特征在于，该粗糙区具有相对 的第一表面及第二表面，该第一表面为粗糙面，该遮光层至少设于该第一表面与第二表面 中的一个面。
全文摘要
本发明涉及一种遮光片阵列，其包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心体结构。该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。该遮光片阵列可减少/消除眩光。本发明还涉及一种制造该遮光片阵列的方法及一种具有该遮光片阵列的镜头模组阵列。
文档编号G03F7/00GK101872033SQ200910301809
公开日2010年10月27日 申请日期2009年4月24日 优先权日2009年4月24日
发明者洪新钦 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司