专利名称：改善液晶显示器像素边缘漏光的方法
技术领域：
本发明涉及一种液晶显示器，尤其是一种防止显示器边缘漏光的方法，具体地说 是一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法。
背景技术：
目前，TN型液晶显示器是比较常用的液晶显示器模式，一般为常白型，加最大灰阶 电压后为黑态。TFT的数据线和遮光线之间，加电压后，液晶分子取向较混乱，所以在彩膜侧 会做上BM来防止TFT侧的斜向漏光。但是做在彩膜侧就要考虑到对位精度，当对位有偏差 时，我们就可以从一些角度观察到液晶显示器像素的边缘漏光。TFT的数据线和遮光线之 间，加电压后，液晶分子取向较混乱，所以在彩膜侧需做上BM (黑色矩阵)来防止TFT (阵列 基板)侧的斜向漏光。对于我们常用的TN型液晶显示器，在暗态时，对位精度有影响的话， 边缘漏光会成为比较突出的问题，对此问题，中国专利CN200510080270. 9以及其他有机膜 相关专利是通过有机膜层来减小相互电场之间的影响。但他们均不能从根本上解决漏光问 题。如图1、2所示。
发明内容
本发明的目的是现有TN型液晶显示器的D线和遮光线的中间由于断差、横向电场 等的影响，液晶取向较混乱，造成斜向漏光，虽然在CF上有BM层可以遮住这一部分的漏光， 但实际制程中会因为对位等问题，造成边缘漏光的问题，发明一种改善液晶显示器像素边 缘漏光的方法，以从根本上阻断漏光。本发明的技术方案是
一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是在数据线和遮光线中间添加一层 由吸光材料形成的吸光层，从根本上阻止光线从数据线和遮光线之间透射出来。所述的吸光材料是一种和液晶材料无相互污染的吸光材料，该吸光材料层位于D 线和遮光线之间或位于G线和遮光线之间。所述的吸光材料为无机或有机材料。所述的吸光层的大小要求能完全遮住数据线和遮光线的空隙，宽度为0. 5-3um，厚 度为 0. 2-lum。本发明的有益效果
1.本发明从根本上解决了因数据线和遮光线之间液晶取向混乱而造成的边缘漏 光问题，从根本上阻断了斜向漏光的光源，提高了对比度。2.本发明不用增加BM的宽度，不会影响开口率，甚至可以减少BM宽度，增加开口率。3.本发明不仅适用于TN模式的面板，对有边缘漏光的其他显示模式也同样适用。
图1是现有的TN模式的子像素边缘截面示意图。
图2是现有的TN模式的子像素边缘光学模拟示意图。图3是发明实施例中的子像素边缘的结构示意图。图中1.CF基板；2. BM (黑色矩阵)；3. ITO ;4.色阻；5. D线； 6.绝缘层；7. TFT基板；8.遮光线；9.新添加的吸光层。
具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。如图3所示
一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，在数据线5和遮光线8中间添加一层由吸 光材料形成的吸光层9，从根本上阻止光线从数据线5和遮光线8之间透射出来，如图3所 示。吸光层9的大小要求能完全遮住数据线5和遮光线8的空隙，宽度为0. 5-3um,厚度为 0. 2-lum。具体实施时，在数据线5和遮光线8中间涂布的一层和液晶材料无相互污染的吸 光层9可以在数据线5和遮光线8之间，也可以在G线和遮光线8之间。吸光层9不只是 黑色，如BM，也可以是其他材料，其他颜色搭配色阻，阻断光线射出，但要求没有导电性，可 以是无机也可以是有机材料；在子像素内漏光处，都可以采用此方式，用吸光层对漏光部位 进行完全覆盖，以提高对比度。面板可为TN模式，但不仅限于TN模式，对有边缘漏光的其 他显示模式同样适用。本发明未涉及部分如所吸光层的具体材料牌号、成形方法等均与现有技术相同或 可采用现有技术加以实现。
权利要求
一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是在数据线和遮光线中间添加一层由吸光材料形成的吸光层，从根本上阻止光线从数据线和遮光线之间透射出来。
2.根据权利要求1所述的改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是所述的吸光 材料是一种和液晶材料无相互污染的吸光材料，该吸光材料层位于D线和遮光线之间或位 于G线和遮光线之间。
3.根据权利要求1或2所述的改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是所述的 吸光材料为无机或有机材料。
4.根据权利要求1所述的改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是所述的吸光 层的大小要求能完全遮住数据线和遮光线的空隙，宽度为0. 5-3um，厚度为0. 2-lum。
全文摘要
一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法，其特征是在数据线和遮光线中间添加一层由吸光材料形成的吸光层，从根本上阻止光线从数据线和遮光线之间透射出来。本发明解决了因数据线和遮光线之间液晶取向混乱而造成的边缘漏光问题，提高了对比度。
文档编号G02F1/1362GK101986190SQ201010241098
公开日2011年3月16日 申请日期2010年7月30日 优先权日2010年7月30日
发明者陈钢 申请人:南京中电熊猫液晶显示科技有限公司