专利名称：显示面板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种显示面板，特别是涉及一种可避免漏光问题的显示面板。
背景技术：
显示面板主要包括两片基板，以及设置于两片基板之间的显示介质层。举例而言， 液晶显示面板包括一阵列基板、一彩色滤光片基板，以及设置于阵列基板与彩色滤光片基板之间的液晶层。为了维持阵列基板与彩色滤光片基板之间的间隙(gap)，阵列基板与彩色滤光片基板之间会设置有间隙物(spacer)。一般而言，现有液晶显示面板是利用设置于阵列基板与彩色滤光片基板之间并对应于栅极线的光致抗蚀剂间隙物来支撑阵列基板与彩色滤光片基板的间隙。然而，液晶显示面板在出厂前会经历按压测试，在按压测试后光致抗蚀剂间隙物常会因受按压而位移至开口区，并导致配向膜的损伤。配向膜的损伤会影响到液晶分子的转动而会产生漏光问题。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种显示面板，以解决显示面板的光致抗蚀剂间隙物的位移造成的漏光问题。本发明的一较佳实施例提供一种显示面板，包括一第一基板结构、一第二基板结构与第一基板结构面对设置、多个光致抗蚀剂间隙物位于第一基板结构与第二基板结构之间，以及一显示介质位于第一基板结构与第二基板结构之间。第一基板结构包括一第一基板、多个次像素单元位于第一基板上、多条栅极线大体上彼此平行设置于第一基板上、多条数据线大体上互相平行设置于第一基板上、一第一电容补偿电极、一第二电容补偿电极、一第一漏极延伸部，以及一第二漏极延伸部。各次像素单元包括一第一次像素、一第二次像素、一第三次像素与一第四次像素，第一次像素与第二次像素分别位于次像素单元的两斜对角，且第三次像素与第四次像素分别位于次像素单元的另两斜对角。栅极线包括一第一栅极线设置于第一次像素与第三次像素以及第二次像素与第四次像素之间并邻近第一次像素与第三次像素，用以驱动第一次像素；一第二栅极线设置于第一次像素与第三次像素以及第二次像素与第四次像素之间并邻近第二次像素与第四次像素，用以驱动第二次像素；一第三栅极线设置于第一次像素与第三次像素相对于第一栅极线的另一侧，用以驱动第三次像素；以及一第四栅极线，设置于第二次像素与第四次像素相对于第二栅极线的另一侧，用以驱动第四次像素。数据线与栅极线相交，且数据线包括一第一数据线设置于第一次像素与第四次像素相对于第二次像素与第三次像素的另一侧，用以驱动第一次像素与第四次像素；以及一第二数据线设置于第三次像素与第二次像素相对于第一次像素与第四次像素的另一侧，用以驱动第三次像素与第二次像素。第一电容补偿电极与第一栅极线连接并沿一第一方向延伸至第一次像素与第三次像素之间。第二电容补偿电极与第二栅极线连接并沿一相反于第一方向的第二方向延伸至第二次像素与第四次像素之间。第一漏极延伸部位于第一次像素内并与第一电容补偿电极部分重叠。第二漏极延伸部位于第二次像素内并与第二电容补偿电极部分重叠。各光致抗蚀剂间隙物至少与第一电容补偿电极与第二电容补偿电极的其中一者部分重叠。 本发明的显示面板的主光致抗蚀剂间隙物设置于补偿电容区内，而次光致抗蚀剂间隙物则设置于相邻的两电容补偿电极之间，因此可避免光致抗蚀剂间隙物在进行按压测试时产生位移，而可有效解决漏光问题。
图1示出了本发明的第一-较佳实施例的显示面板的示意图。
图2为沿图1的剖线A-A，示出的剖面示意图。
图3示出了本发明的第一-较佳实施例的一第一变化型的显示面板的示
图4示出了本发明的第一-较佳实施例的一第二变化型的显示面板的示
图5示出了本发明的第二.较佳实施例的显示面板的示意图。
图6为沿图5的剖线B-B，示出的剖面示意图。
图7示出了本发明的第二.较佳实施例的一变化型的显示面板的示意图
图8示出了本发明的第三.较佳实施例的显示面板的示意图。
主要附图标记说明
1显示面板10第一基板结构
12第一基板13栅极绝缘层
14薄膜晶体管15半导体层
16像素电极171第一电容补偿电极
172第二电容补偿电极181第一漏极延伸部
182第二漏极延伸部19保护层
19A开口20第二基板结构
22第二基板24图案化遮光层
26彩色滤光层28共通电极
30光致抗蚀剂间隙物30M主光致抗蚀剂间隙物
30M]主光致抗蚀剂间隙物30M2主光致抗蚀剂间隙物
30S次光致抗蚀剂间隙物40显示介质
PU次像素单元
Pl次像素P2次像素
P3次像素P4次像素
GL栅极线GLl栅极线
GL2栅极线GL3栅极线
GL4栅极线DL数据线
DLl数据线DL2数据线
CL共通线G栅极
S源极D漏极
1，显示面板1，，显示面板
2显示面板2，显示面板
3 显示面板
具体实施例方式为使本领域技术人员能更进一步了解本发明，下文特列举本发明的较佳实施例， 并配合附图，详细说明本发明的构成内容及所欲达成的功效。请参考图1与图2。图1示出了本发明的第一较佳实施例的显示面板的示意图，图 2为沿图1的剖线A-A’示出的剖面示意图，其中为了突显本实施例的显示面板的配置，图1 未示出出第二基板结构与显示介质。如图1与图2所示，本实施例的显示面板1主要包括一第一基板结构10、一第二基板结构20、多个光致抗蚀剂间隙物30以及一显示介质40。在本实施例中，第一基板结构10为一阵列基板结构，且第二基板结构20为一彩色滤光片基板结构，但不以此为限。第一基板结构10包括一第一基板12、多个次像素单元PU、多条栅极线GL、多条数据线DL、多条共通线CL、多个薄膜晶体管14、多个像素电极16、一第一电容补偿电极171、一第二电容补偿电极172、一第一漏极延伸部181，以及一第二漏极延伸部182。 在本实施例中，次像素单元PU位于第一基板12上，其中各次像素单元PU包括一次像素Pl、 一次像素P2、一次像素P3与一次像素P4。次像素Pl与次像素P2分别位于次像素单元PU 的两斜对角，且次像素P3与次像素P4分别位于次像素单元PU的另两斜对角，如图1所示。 各像素单元PU的次像素P1、次像素P2、次像素P3与次像素P4会构成一像素阵列，此像素阵列包括多个次像素列与多个次像素行。在像素阵列的一次像素列中，次像素Pl与次像素 P3呈交替重复排列，而在另一次像素列中，次像素P4与次像素P2呈交替重复排列。栅极线GL大体上彼此平行设置于第一基板12上并沿一列方向延伸，且栅极线GL包括一栅极线 GL1、一栅极线GL2、一栅极线GL3与一栅极线GL4。栅极线GLl设置于次像素Pl与次像素 P3以及次像素P2与次像素P4之间并邻近次像素Pl与次像素P3，用以驱动次像素Pl ；栅极线GL2设置于次像素Pl与次像素P3以及次像素P2与次像素P4之间并邻近次像素P2 与次像素P4，用以驱动次像素P2 ；栅极线GL3设置于次像素Pl与次像素P3相对于栅极线 GLl的另一侧，用以驱动次像素P3 ；栅极线GL4设置于次像素P2与次像素P4相对于栅极线GL2的另一侧，用以驱动次像素P4。也就是说，相邻的两次像素列之间设置有两条栅极线GL。数据线DL大体上互相平行设置于第一基板12上，且数据线DL与栅极线GL相交， 亦即各数据线DL是沿一行方向延伸。数据线DL包括一数据线DLl与一数据线DL2。数据线DLl设置于次像素Pl与次像素P4相对于次像素P2与次像素P3的另一侧，用以驱动次像素Pl与次像素P4 ；数据线DL2设置于次像素P3与次像素P2相对于次像素Pl与次像素 P4的另一侧，用以驱动次像素P3与次像素P2。也就是说，数据线DL设置于部分相邻的次像素行之间。共通线CL与数据线DL大体上彼此平行并交替设置，亦即共通线CL设置于次像素Pl与次像素P4以及次像素P2与次像素P3之间，而数据线DLl设置于次像素单元PU 的次像素Pl与次像素P4的外侧，以及数据线DL2设置于次像素单元PU的次像素P2与次像素P33的外侧。也就是说，共通线CL设置于部分相邻的次像素行之间并与数据线DL交替设置。薄膜晶体管14分别位于次像素P1、次像素P2、次像素P3与次像素P4内，其中各薄膜晶体管14包括一栅极G、一源极S与一漏极D。栅极G分别与对应的栅极线GL电性连接。源极S分别与对应的数据线DL电性连接。第一漏极延伸部181位于次像素Pl内并与次像素Pl内的薄膜晶体管14的漏极D连接，且第一漏极延伸部181与第一电容补偿电极171部分重叠，借此可形成补偿电容；第二漏极延伸部182位于次像素P2内并与次像素P2 内的薄膜晶体管14的漏极D连接，且第二漏极延伸部182与第二电容补偿电极172部分重叠，借此可形成补偿电容。上述补偿电容设计可避免漏极D与栅极G因工艺变异或其它因素产生的对位不准问题所导致的栅极-漏极电容(Cgd)的变异。像素电极16分别位于次像素P1、次像素P2、次像素P3与次像素P4内，其中各像素电极16分别与次像素P1、次像素 P2、次像素P3与次像素P4内的漏极D电性连接。第一电容补偿电极171与栅极线GLl连接并沿一第一方向Dl延伸至次像素Pl与次像素P3之间，第二电容补偿电极172与栅极线 GL2连接并沿一相反于第一方向Dl的第二方向D2延伸至次像素P2与次像素P4之间。在本实施例中，栅极线GL、栅极G、共通线CL、第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172可由同一层导电层所构成，例如第一金属层(metal 1，Ml)，但不以此为限。数据线DL、源极S、漏极D、第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182可由同一层导电层所构成，例如第二金属层(metal 2，M2)，但不以此为限。另外，如图2所示，栅极G、第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172上另覆盖有一栅极绝缘层13，栅极绝缘层13上设置有一半导体层15、第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182上则覆盖有一保护层19，且保护层19具有一开口 19A，位于第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182之间。第二基板结构20与第一基板结构10面对设置。第二基板结构20包括一第二基板22、一图案化遮光层M位于第二基板22面对第一基板12的表面、一彩色滤光层沈位于第二基板22面对第一基板12的表面，以及一共通电极观位于图案化遮光层M与彩色滤光层26面对第一基板12的表面。显示介质40位于第一基板结构10与第二基板结构20 之间。在本实施例中，显示介质40可为一液晶层，但不以此为限。显示介质40可视显示面板的类型为各式显示介质例如有机电激发光层或电泳液层等。光致抗蚀剂间隙物30位于第一基板结构10与第二基板结构20之间。光致抗蚀剂间隙物30对应于次像素P1、次像素 P2、次像素P3与次像素P4的一共同角落，且光致抗蚀剂间隙物30至少与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的其中一者部分重叠。在本实施例中，光致抗蚀剂间隙物30包括主光致抗蚀剂间隙物30M，其中主光致抗蚀剂间隙物30M分别与第一基板结构10与第二基板结构20接触，且主光致抗蚀剂间隙物30M至少与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182的其中一者部分重叠。在本实施例中，主光致抗蚀剂间隙物30M与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182两者部分重叠，但并不以此为限。举例而言，主光致抗蚀剂间隙物30M也可仅与第一漏极延伸部181部分重叠，或是仅与第二漏极延伸部182部分重叠。此外，主光致抗蚀剂间隙物30M更跨越对应的栅极线GLl与栅极线GL2并与栅极线GLl与栅极线GL2部分重叠，并与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172两者重叠。再者，本实施例的主光致抗蚀剂间隙物30M 大体上具有一矩形水平截面，如图1所示，但不以此为限。由于主光致抗蚀剂间隙物30M分别与第一基板结构10与第二基板结构20接触，因此可维持第一基板结构10与第二基板结构20的间隙，且第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172之间具有凹陷处，使得覆盖于第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的保护层19具有起伏表面，可增加主光致抗蚀剂间隙物30M与保护层19的摩擦力，因此可避免主光致抗蚀剂间隙物30M产生位移。本发明的显示面板并不以上述实施例为限。下文将依序介绍本发明的其它较佳实
7施例的显示面板，且为了便于比较各实施例的相异处并简化说明，在下文的各实施例中使用相同的符号标注相同的元件，且主要针对各实施例的相异处进行说明，而不再对重复部分进行赘述。请参考图3。图3示出了本发明的第一较佳实施例的一第一变化型的显示面板的示意图。如图3所示，在本第一变化型中，显示面板1’的主光致抗蚀剂间隙物30M大体上具有一十字形水平截面。请参考图4。图4示出了本发明的第一较佳实施例的一第二变化型的显示面板的示意图。如图4所示，在本第二变化型中，显示面板1”的一个主光致抗蚀剂间隙物30M1与第一漏极延伸部181部分重叠，而另一个主光致抗蚀剂间隙物30M2与第二漏极延伸部182 部分重叠。在本实施例的另一变化型中，主光致抗蚀剂间隙物30M可仅包括与第一漏极延伸部181部分重叠的主光致抗蚀剂间隙物30M1，但未包括与第二漏极延伸部182部分重叠的主光致抗蚀剂间隙物30M2，或者是仅包括与第二漏极延伸部182部分重叠的主光致抗蚀剂间隙物30M2，而未包括与第一漏极延伸部181部分重叠的主光致抗蚀剂间隙物30M1。请参考图5与图6。图5示出了本发明的第二较佳实施例的显示面板的示意图，图 6为沿图5的剖线B-B’示出的剖面示意图。如图5与图6所示，不同于第一较佳实施例，在本实施例中，显示面板2的光致抗蚀剂间隙物30包括次光致抗蚀剂间隙物30S，次光致抗蚀剂间隙物30S跨越对应的栅极线GLl与栅极线GL2并与栅极线GLl与栅极线GL2部分重叠， 且次光致抗蚀剂间隙物30S至少与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的其中一者部分重叠，但未与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182重叠。举例而言，在本实施例中，次光致抗蚀剂间隙物30S与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的两者均部分重叠，但不以此为限。次光致抗蚀剂间隙物30S也可仅与第一电容补偿电极171 部分重叠，或与第二电容补偿电极172部分重叠。此外，次光致抗蚀剂间隙物30S与第二基板结构20接触而未与第一基板结构10接触。次光致抗蚀剂间隙物30S对应于栅极线GLl 与栅极线GL2之间的保护层19的开口 19A，因此在按压测试时会被限制在保护层19的开口 19A内而不会产生位移，因此不会造成配向膜(图未示)的损伤，故不会产生漏光问题。另外在本实施例中，次光致抗蚀剂间隙物30S大体上具有一矩形水平截面，如图5所示，但不以此为限。图7示出了本发明的第二较佳实施例的一变化型的显示面板的示意图。如图7所示，在本变化型中，显示面板2’的次光致抗蚀剂间隙物30S大体上具有一十字形水平截面。 同样地，次光致抗蚀剂间隙物30S跨越对应的栅极线GLl与栅极线GL2并与栅极线GLl与栅极线GL2部分重叠，且次光致抗蚀剂间隙物30S至少与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的其中一者部分重叠，但未与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182 重叠。举例而言，在本变化型中，次光致抗蚀剂间隙物30S与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的两者均部分重叠，但不以此为限。次光致抗蚀剂间隙物30S也可仅与第一电容补偿电极171部分重叠，或与第二电容补偿电极172部分重叠。请参考图8。图8示出了本发明的第三较佳实施例的显示面板的示意图。如图8 所示，不同于第一较佳实施例与第二较佳实施例，在本实施例中，显示面板3的光致抗蚀剂间隙物30包括主光致抗蚀剂间隙物30M与次光致抗蚀剂间隙物30S。主光致抗蚀剂间隙物 30M分别与第一基板结构10与第二基板结构20接触，且主光致抗蚀剂间隙物30M与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182两者部分重叠。此外，主光致抗蚀剂间隙物30M更跨越对应的栅极线GLl与栅极线GL2并与栅极线GLl与栅极线GL2部分重叠，并与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172两者重叠。次光致抗蚀剂间隙物30S跨越对应的栅极线GLl与栅极线GL2并与栅极线GLl与栅极线GL2部分重叠，且次光致抗蚀剂间隙物30S 至少与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的其中一者部分重叠，但未与第一漏极延伸部181与第二漏极延伸部182重叠。举例而言，在本实施例中，次光致抗蚀剂间隙物30S与第一电容补偿电极171与第二电容补偿电极172的两者均部分重叠，但不以此为限。次光致抗蚀剂间隙物30S也可仅与第一电容补偿电极171部分重叠，或与第二电容补偿电极172部分重叠。此外，次光致抗蚀剂间隙物30S与第二基板结构20接触而未与第一基板结构10接触。次光致抗蚀剂间隙物30S对应于栅极线GLl与栅极线GL2之间的保护层19的开口 19A。也就是说，在本实施例中，显示面板3的光致抗蚀剂间隙物30同时包括主光致抗蚀剂间隙物30M与次光致抗蚀剂间隙物30S。主光致抗蚀剂间隙物30M的形状与配置可如第一较佳实施例或其变化型所公开的任一个，而次光致抗蚀剂间隙物30S的形状与配置可如第二较佳实施例或其变化型所公开的任一个。综上所述，本发明的显示面板的主光致抗蚀剂间隙物设置于补偿电容区内，而次光致抗蚀剂间隙物则设置于相邻的两电容补偿电极之间，因此可避免光致抗蚀剂间隙物在进行按压测试时产生位移，而可有效解决漏光问题。以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种显示面板，包括 一第一基板结构，包括一第一基板；多个次像素单元，位于该第一基板上，其中各该次像素单元包括一第一次像素、一第二次像素、一第三次像素与一第四次像素，该第一次像素与该第二次像素分别位于该次像素单元的两斜对角，且该第三次像素与该第四次像素分别位于该次像素单元的另两斜对角； 多条栅极线，大体上彼此平行设置于该第一基板上，所述多条栅极线包括 一第一栅极线，设置于该第一次像素与该第三次像素以及该第二次像素与该第四次像素之间并邻近该第一次像素与该第三次像素，用以驱动该第一次像素；一第二栅极线，设置于该第一次像素与该第三次像素以及该第二次像素与该第四次像素之间并邻近该第二次像素与该第四次像素，用以驱动该第二次像素；一第三栅极线，设置于该第一次像素与该第三次像素相对于该第一栅极线的另一侧， 用以驱动该第三次像素；以及一第四栅极线，设置于该第二次像素与该第四次像素相对于该第二栅极线的另一侧， 用以驱动该第四次像素；多条数据线，大体上互相平行设置于该第一基板上，且所述多条数据线与所述多条栅极线相交，所述多条数据线包括一第一数据线，设置于该第一次像素与该第四次像素相对于该第二次像素与该第三次像素的另一侧，用以驱动该第一次像素与该第四次像素；以及一第二数据线，设置于该第三次像素与该第二次像素相对于该第一次像素与该第四次像素的另一侧，用以驱动该第三次像素与该第二次像素；一第一电容补偿电极，与该第一栅极线连接并沿一第一方向延伸至该第一次像素与该第三次像素之间；一第二电容补偿电极，与该第二栅极线连接并沿一相反于该第一方向的第二方向延伸至该第二次像素与该第四次像素之间；一第一漏极延伸部，位于该第一次像素内并与该第一电容补偿电极部分重叠； 一第二漏极延伸部，位于该第二次像素内并与该第二电容补偿电极部分重叠； 一第二基板结构，与该第一基板结构面对设置；多个光致抗蚀剂间隙物，位于该第一基板结构与该第二基板结构之间，其中各该光致抗蚀剂间隙物至少与该第一电容补偿电极与该第二电容补偿电极的其中一个部分重叠；以及一显示介质，位于该第一基板结构与该第二基板结构之间。
2.如权利要求1所述的显示面板，其中各该光致抗蚀剂间隙物对应于该第一次像素、 该第二次像素、该第三次像素与该第四次像素的一共同角落。
3.如权利要求1所述的显示面板，另包括多个薄膜晶体管，分别位于该第一次像素、该第二次像素、该第三次像素与该第四次像素内，其中各该薄膜晶体管包括一栅极、一源极与一漏极，该第一漏极延伸部与该第一次像素内的该薄膜晶体管的该漏极连接，且该第二漏极延伸部与该第二次像素内的该薄膜晶体管的该漏极连接。
4.如权利要求3所述的显示面板，另包括多个像素电极，分别位于该第一次像素、该第二次像素、该第三次像素与该第四次像素内，其中各该像素电极分别与该第一次像素、该第二次像素、该第三次像素与该第四次像素内的该漏极电性连接。
5.如权利要求1所述的显示面板，其中各该光致抗蚀剂间隙物更跨越对应的该第一栅极线与该第二栅极线并与该第一栅极线与该第二栅极线部分重叠。
6.如权利要求1所述的显示面板，其中所述多个光致抗蚀剂间隙物包括多个主光致抗蚀剂间隙物，各该主光致抗蚀剂间隙物分别与该第一基板结构与该第二基板结构接触，且各该主光致抗蚀剂间隙物与该第一漏极延伸部与该第二漏极延伸部两者部分重叠。
7.如权利要求1所述的显示面板，其中所述多个光致抗蚀剂间隙物包括多个主光致抗蚀剂间隙物，各该主光致抗蚀剂间隙物分别与该第一基板结构与该第二基板结构接触，且各该主光致抗蚀剂间隙物至少与该第一漏极延伸部与该第二漏极延伸部的其中一个部分重叠。
8.如权利要求1所述的显示面板，其中所述多个光致抗蚀剂间隙物包括多个主光致抗蚀剂间隙物，各该主光致抗蚀剂间隙物分别与该第一基板结构以及该第二基板结构接触， 部分的所述多个主光致抗蚀剂间隙物与该第一漏极延伸部部分重叠，且部分的所述多个主光致抗蚀剂间隙物与该第二漏极延伸部部分重叠。
9.如权利要求1所述的显示面板，其中所述多个光致抗蚀剂间隙物包括多个次光致抗蚀剂间隙物，各该次光致抗蚀剂间隙物未与该第一漏极延伸部与该第二漏极延伸部重叠， 且各该次光致抗蚀剂间隙物与该第二基板结构接触而未与该第一基板结构接触。
10.如权利要求1所述的显示面板，其中所述多个光致抗蚀剂间隙物包括多个主光致抗蚀剂间隙物与多个次光致抗蚀剂间隙物，各该主光致抗蚀剂间隙物分别与该第一基板结构以及该第二基板结构接触，各该次光致抗蚀剂间隙物未与该第一漏极延伸部以及该第二漏极延伸部重叠，且各该次光致抗蚀剂间隙物与该第二基板结构接触而未与该第一基板结构接触。
11.如权利要求10所述的显示面板，其中各该主光致抗蚀剂间隙物与该第一漏极延伸部与该第二漏极延伸部两者部分重叠。
12.如权利要求10所述的显示面板，其中部分的所述多个主光致抗蚀剂间隙物与该第一漏极延伸部部分重叠，且部分的所述多个主光致抗蚀剂间隙物与该第二漏极延伸部部分重叠。
13.如权利要求1所述的显示面板，其中各该光致抗蚀剂间隙物大体上具有一矩形水平截面或一十字形水平截面。
全文摘要
一种显示面板，包括一第一基板结构、一第二基板结构与第一基板结构面对设置、多个光致抗蚀剂间隙物位于第一基板结构与第二基板结构之间，以及一显示介质位于第一基板结构与第二基板结构之间。第一基板结构包括一第一电容补偿电极与第二电容补偿电极，分别与对应的栅极线电性连接，以及一第一漏极延伸部与一第二漏极延伸部分别与第一电容补偿电极与第二电容补偿电极部分重叠。光致抗蚀剂间隙物至少与第一电容补偿电极与第二电容补偿电极的其中一者部分重叠。本发明可有效解决漏光问题。
文档编号G02F1/1368GK102393588SQ20111037303
公开日2012年3月28日 申请日期2011年11月10日 优先权日2011年9月22日
发明者林伟祺, 林建宏 申请人:友达光电股份有限公司