专利名称：一种憎水防雾镜片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光学镜片，特别涉及一种光学憎水防雾镜片。
背景技术：
玻璃、反射镜及透明塑料使用时，相互隔开的两侧常因温差，使空气中的水汽在高温一侧表面凝聚成雾。起雾会显著降低透明材料的透光率、反射率，影响视线，带来诸多不便。对于光电仪器而言，起雾直接造成仪器观测性能的大幅下降，甚至完全失效，使光电仪器彻底失去了使用功能。水汽在物体表面的凝聚成雾，会加快腐蚀的进程，降低材料的使用寿命。在材料表面附着一层憎水防雾膜是抑制起雾的最主要的方法。光学镜片憎水防雾膜一般是通过化学镀膜实现。专利CN 1435392A公开了一种憎水液及憎水玻璃的制造方法，憎水液是由下列物质混合而成，其组成成分和重量比分别是 (a)十三氟辛烷基三乙基硅烷0.8 5%，(b)正硅酸乙酯0.2 2%，(c)无水乙醇93% 99%，然后再在此溶液中加入总重量1 4%的去离子水和0. 1 0.5%浓度为37%的盐酸，混合后搅拌5 20小时而成；憎水玻璃的制造方法分为四个阶段，分别是(1)玻璃进行清洁处理(2)制备憎水溶液；(3)涂布憎水膜；(4)固化，也即将玻璃放在25 350°C的环境下，10分钟至72小时，憎水液与玻璃表面反应形成一层牢固的憎水膜。化学镀膜法制备憎水防雾镜片技术成熟，但存在憎水防雾性能不好、附着力不佳，工艺稳定性差、生产过程中因大量使用化工材料，对环境有污染，安全性差的弊端。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种憎水防雾效果好，附着力强的憎水防雾镜片。本实用新型是这样来实现的它依次包括基片、减反增透膜、高分子憎水防雾膜。 减反增透膜及高分子憎水防雾膜都采用真空镀膜的方式镀制。减反增透膜为单层膜或多层膜，厚度为10 500nm。高分子憎水防雾膜为含氟的高分子有机物、含硅的高分子有机化物或同时含有氟及硅的高分子有机物中的一种或几种的组合物，其厚度为20 60nm。采用本实用新型，可提高镜片防雾性能及附着力，因为镜片憎水防雾膜为低表面张力含氟或含硅的高分子有机物，接触角可达110°，污渍不易在其表面附着，使镜片具有一定的自清洁功能，延长了镜片的使用寿命。
防雾镜片结构示意图具体实施方式
根据附图，基片(1)真空镀膜前先通过超声波清洗除去污渍并烘干，放进真空镀膜机真空舱内，在3X10_3I^真空度下用离子枪轰击基片⑴表面，然后在3X10’a真空度下采用离子束轰击技术镀制IOOnm厚单层氟化镁减反增透膜0)，最后在3X10_3I^真空度采用离子束轰击技术将含氟的高分子有机物镀于氟化镁减反增透膜上形成高分子憎水防雾膜层(3)，膜层厚度为40nm。
权利要求1、一种憎水防雾镜片，依次包括基片、减反增透膜和高分子憎水防雾膜。
2、根据权利要求1所述的防雾镜片，其特征是减反增透膜及高分子憎水防雾膜都采用真空镀膜的方式制备。
3、根据权利要求1所述的防雾镜片，其特征是减反增透膜的厚度为l(T500nm。
4、根据权利要求1所述的防雾镜片，其特征是减反增透膜为单层膜或多层膜。
5、根据权利要求1所述的防雾镜片，其特征是高分子憎水防雾膜的厚度为2(T60nm。
专利摘要本实用新型公开了一种憎水防雾镜片，它依次包括基片、减反增透膜、高分子憎水防雾膜，减反增透膜及高分子防雾膜都采用真空镀膜的方式镀制。减反增透膜为单层膜或多层膜，厚度为10～500nm。高分子憎水防雾膜为含氟的高分子有机物、含硅的高分子有机化物或同时含有氟及硅的高分子有机物中的一种或几种的组合物，其厚度为20～60nm。采用本实用新型，可提高镜片防雾性能及附着力，并使镜片具有一定的自清洁功能，延长镜片的使用寿命。
文档编号G02B1/04GK202008536SQ201120077509
公开日2011年10月12日 申请日期2011年3月23日 优先权日2011年3月23日
发明者张保福, 荀涛, 訾云旭, 訾云海 申请人:云南汇恒光电技术有限公司