彩膜基板及其制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种彩膜基板及其制造方法，所述彩膜基板包括基板、位于所述基板上的呈阵列排布的色阻，所述呈阵列排布的色阻包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻；所述成阵列排布的色阻还包括合成色阻，所述合成色阻由第一色阻部分和第二色阻部分叠加形成，所述第一色阻部分和第二色阻部分分别是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中任意两种色阻。在彩膜基板上应用原有的红、绿、蓝三种色阻和所述新的合成色阻后，可以扩大面板的NTSC的范围。
【专利说明】彩膜基板及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法。
【背景技术】
[0002]在平板显示面板领域中，一些显示面板以液晶显示面板为典型代表，之所以能够产生色彩的变化，主要是通过彩膜基板上(Co lour f i I ter，CF )的红(R)、绿(G )、蓝(B )三种颜色的光阻图案提供的。在此基础上再配合液晶，控制显示面板产生不同的灰阶，来呈现不同的图案。但是局限于红、绿、蓝三种光阻本身的颜色，结合相应的灰阶后，面板所能显示的NTSC (National Television Standard Committee,电视标准委员会)的色彩范围也是固定的。如图1所示，显示面板能够显示的所有色彩都落在三角形RGB区域内。
【发明内容】
[0003]本发明提供了一种含有合成色阻的彩膜基板及其制造方法，所述合成色阻是除了原有的红、绿、蓝三种色阻之外的第四种新的色阻。在彩膜基板上形成原有的红、绿、蓝三种色阻和所述新的合成色阻后，可以扩大面板的NTSC的范围。
[0004]为解决上述问题，本发明提供一种彩膜基板，包括:
基板；
位于所述基板上的呈阵列排布的色阻，所述呈阵列排布的色阻包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻；
所述成阵列排布的色阻还包括合成色阻，所述合成色阻由第一色阻部分和第二色阻部分叠加形成，所述第一色阻部分和第二色阻部分分别是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中任意两种色阻。
[0005]进一步地，所述彩膜基板还包括位于所述阵列排布的色阻之间的黑矩阵。
[0006]进一步地，所述合成色阻的厚度与所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻的厚度相同。
[0007]进一步地，所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻具有第一厚度，所述第一色阻部分具有第二厚度，所述第二色阻部分具有第三厚度。
[0008]进一步地，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
[0009]进一步地，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。
[0010]本发明还提供了 一种平板显示装置，包括如前所述的彩膜基板。
[0011 ] 进一步地，所述平板显示装置为液晶显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。
[0012]进一步地，所述平板显示装置为电子纸显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的电子墨水。
[0013]进一步地，所述平板显示装置为等离子显示器或者场发射显示器。
[0014]本发明还提供了一种彩膜基板的制造方法，包括: 提供基板；
在所述基板上涂覆第一色阻层；
通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第一色阻层，形成第一色阻和合成色阻的第一部分，所述第一色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第一部分具有第二厚度；
在所述第一色阻和合成色阻的第一部分上涂覆第二色阻层；
通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第二色阻层，形成第二色阻和合成色阻的第二部分，所述第二色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第二部分具有第三厚度；
所述第一色阻或者第二色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的任意一种色阻，所述第一色阻不同于所述第二色阻。
[0015]进一步地，所述制造方法还包括:
在所述第一色阻、第二色阻、合成色阻的第二部分上涂覆第三色阻层；
通过曝光、显影、刻蚀，图案化所述第三色阻层，形成具有第一厚度的第三色阻；
所述第三色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中除去第一色阻和第二色阻后的剩下的那种色阻。
[0016]进一步地，所述第二厚度与所述第三厚度之和等于所述第一厚度。
[0017]进一步地，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
[0018]进一步地，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。
[0019]进一步地，所述制造方法还包括通过光刻工艺形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻两两之间的黑矩阵。
[0020]相对于现有技术，本发明在彩膜基板上除了形成原有的红、绿、蓝三种色阻之外，还形成了一个新的合成色阻。合成色阻的出现可以扩大面板的NTSC的范围，也即提升了NTSC。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1为现有技术中面板的NTSC的现状；
图2是本发明实施例一的彩膜基板俯视示意图；
图3是本发明实施例一的彩膜基板剖面示意图；
图4是本发明实施例一变化例的彩膜基板俯视示意图；
图5是本发明实施例一变化例的彩膜基板剖面示意图；
图6是本发明实施例二的NTSC示意图；
图7至图10是本发明实施例四的工艺流程图；
图11至图12是本发明实施例五的工艺流程图。
【具体实施方式】
[0022]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的【具体实施方式】做详细的说明。
[0023]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
[0024]实施例一
本发明提供了一种彩膜基板，请参阅图2和图3，包括基板1、位于所述基板I上的呈阵列排布的色阻，所述呈阵列排布的色阻包括红色色阻11、绿色色阻12、蓝色色阻13。成阵列排布的色阻还包括合成色阻14，所述合成色阻14由第一色阻部分141和第二色阻部分142叠加形成，所述第一色阻部分141和第二色阻部分142分别是红色色阻11、绿色色阻12、蓝色色阻13中任意两种色阻，也即合成色阻14的第一色阻部分141和第二色阻部分142可以是红色色阻和绿色色阻，也可以是红色色阻和蓝色色阻，也可以是绿色色阻和蓝色色阻。
[0025]优选地，如图4和图5所示，彩膜基板还进一步包括位于基板I上的用于遮光的、且位于阵列排布的红色色阻11、绿色色阻12、蓝色色阻13以及合成色阻14之间的黑矩阵10。
[0026]实施例二
本实施例就合成色阻的厚度做进一步详细说明。
[0027]继续参考图3，红色色阻11或者绿色色阻12或者蓝色色阻13具有第一厚度dl，合成色阻14的第一色阻部分141具有第二厚度d2，合成色阻14的第二色阻部分142具
有第三厚度d3。
[0028]优选地，合成色阻14的厚度与红色色阻11或者绿色色阻12或者蓝色色阻13的厚度相同，也即dl=d2+d3，以使整个彩膜基板显得平整。当然，合成色阻14的厚度也可以在为满足一定设计要求时，做的与红色色阻11或者绿色色阻12或者蓝色色阻13的厚度dl不相同。为了更清楚地说明本发明技术方案，以下仅在dl=d2+d3的情况下进行进一步说明。
[0029]本领域技术人员能够理解，为了实现本发明的目的，也即生成一个不同于已有的红、绿、蓝色阻，合成色阻14的第一色阻部分141的厚度d2需大于零且小于第一厚度dl。同理，合成色阻14的第二色阻部分142的厚度d3也需大于零且小于第一厚度dl。且满足dl=d2+d3。
[0030]优选地，第二厚度d2与第三厚度d3可以做的相同。当然，也可以在需要时将第二厚度d2与第三厚度d3做成不同厚度的。
[0031]图6简要地显示了本发明的技术效果，以绿色色阻和蓝色色阻分别作为合成色阻的第一色阻部分和第二色阻部分，并优选地使d2=d3=l/2dl为例进行实验，得到图6。其中R点为红色色阻的位置，G点为绿色色阻的位置,B点为蓝色色阻的位置,而C点即为所得的合成色阻的位置。与图1相对比可知。面板的NTSC的色彩区域从原来的三角形RGB扩充到了现在的四边形RGCB，面板所能显示的色彩区域远远大于现有技术中所能显示的色彩范围，因此本发明较好地提升了面板的NTSC。
[0032]需要说明的是，以上仅以绿色色阻和蓝色色阻为例进行了效果说明。但本领域人员可知，用其他的红色色阻与绿色色阻进行合成，或者以红色色阻与蓝色色阻进行合成，也能各自相应得到另一种新的合成色阻。这些色阻也能有效提升面板的NTSC，在此不作赘述。
[0033]实施例三
本发明同时提供一种平板显示装置。所述平板显示装置包括了上述任意一种实施例所描述的彩膜基板。具体地， 平板显示装置可以是液晶显示器，包括上述任意一种实施例所述的彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。
[0034]当然，平板显示装置也可以是电子纸显示器，包括上述任意一种实施例所述的彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的电子墨水。
[0035]此外，平板显示装置还可以是等离子显示器或者场发射显示器。
[0036]以上三种显示器的结构除了应用了本发明所描述的彩膜基板外，都是现有技术，其结构已为本领域技术人员所知，在此就不再重复赘述。需要说明的是，本实施例中所述的平板显示装置不仅限于上述列举的四种，只要是结构中包含彩膜基板的平板显示装置，都可以将本发明所述的彩膜基板应用到其中，进行替换。因此，不应以上述四种显示装置为限。
[0037]实施例四
本发明还提供了一种彩膜基板的制造方法，包括:
提供基板2 ；
在基板2上涂覆第一色阻层21，如图7所示；
通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第一色阻层21，形成第一色阻210和合成色阻的第一部分231，所述第一色阻210具有第一厚度dl，所述合成色阻的第一部分231具有第二厚度d2，如图8所示；
在第一色阻210和合成色阻的第一部分231上涂覆第二色阻层22，如图9所示；通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第二色阻层22，形成第二色阻220和合成色阻的第二部分232，所述第二色阻220具有第一厚度dl，所述合成色阻的第二部分232具有第三厚度d3，如图10所示。
[0038]需要说明的是，该方法中，第一色阻210或者第二色阻220可以是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的任意一种色阻，且第一色阻210不同于第二色阻220。具体地，当第一色阻210为红色色阻时，第二色阻220可以为绿色色阻或者蓝色色阻中之一；当第一色阻210为绿色色阻时，第二色阻220可以为红色色阻或者蓝色色阻中之一；当第一色阻210为蓝色色阻时，第二色阻220可以为红色色阻或者绿色色阻中之一。
[0039]优选地，在本实施例中，第二厚度d2与第三厚度d3之和等于第一厚度d.I。这样就能使这个彩膜基板整体显得平整。
[0040]本领域技术人员能够理解，为了实现本发明的目的，也即生成一个不同于已有的红、绿、蓝色阻，合成色阻的第一色阻部分231的厚度d2需大于零且小于第一色阻210或者第二色阻220的第一厚度dl。同理，合成色阻的第二色阻部分232的厚度d3也需大于零且小于第一厚度dl。且优选地满足dl=d2+d3。
[0041 ] 优选地，第二厚度d2与第三厚度d3可以做的相同，也可以在需要时将第二厚度d2与第三厚度d3做成不同厚度。
[0042]实施例五
本实施例是在实施例四的基础上得到的。本实施例与实施例四的区别在于，本实施例中所述制造方法可以进一步包括:
在第一色阻210、第二色阻220、合成色阻的第二部分232上涂覆第三色阻层23，如图11所示；
通过曝光、显影、刻蚀，图案化所述第三色阻层23，形成具有第一厚度dl的第三色阻230，如图12所示；
第三色阻230是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中除去第一色阻210和第二色阻220后的剩下的那种色阻。也即当第一色阻和第二色阻是红色色阻和绿色色阻时，第三色阻是蓝色色阻；当第一色阻和第二色阻是红色色阻和蓝色色阻时，第三色阻是绿色色阻；当第一色阻和第二色阻是绿色色阻和蓝色色阻时，第三色阻是红色色阻。
[0043]实施例六
本实施例是在实施例四的基础上得到的。本实施例与实施例四的区别在于，本实施例中所述制造方法可以进一步包括:
通过光刻工艺形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻两两之间的黑矩阵。具体地，在第一色阻、第二色阻以及合成色阻上涂覆黑矩阵层，然后通过曝光、显影、刻蚀，图案化所述黑矩阵层，形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻两两之间的黑矩阵。所述黑矩阵能起到遮光的作用。
[0044]本实施例所述制造方法能够制造出一种提升面板NTSC色彩范围的彩膜基板。需要说明的是，实施例四、五、六可以结合使用，不应以上述任一实施例中为清楚地说明而例举的特定情况对本发明制造方法进行限制。
[0045]综上，本发明提供了一种彩膜基板及其制造方法，除了原有的红、绿、蓝三种色阻之外的第四种新的色阻。在彩膜基板上还包括由原有的红、绿、蓝三种色阻叠加后形成的合成色阻，扩大了面板NTSC的色彩范围。
[0046]需要说明的是，以上实施例可以互相借鉴、综合使用。本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。
【权利要求】
1.一种彩膜基板,包括: 基板； 位于所述基板上的呈阵列排布的色阻，所述呈阵列排布的色阻包括红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻； 其特征在于，所述成阵列排布的色阻还包括合成色阻，所述合成色阻由第一色阻部分和第二色阻部分叠加形成，所述第一色阻部分和第二色阻部分分别是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中任意两种色阻。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括位于所述阵列排布的色阻之间的黑矩阵。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述合成色阻的厚度与所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻的厚度相同。
4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述红色色阻或者绿色色阻或者蓝色色阻具有第一厚度，所述第一色阻部分具有第二厚度，所述第二色阻部分具有第三厚度。
5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
6.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。
7.一种平板显示装置，其特征在于，包括如权利要求1所述的彩膜基板。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为液晶显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。`
9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为电子纸显示器，包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的电子墨水。
10.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述平板显示装置为等离子显示器或者场发射显示器。
11.一种彩膜基板的制造方法，包括: 提供基板； 在所述基板上涂覆第一色阻层； 通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第一色阻层，形成第一色阻和合成色阻的第一部分，所述第一色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第一部分具有第二厚度； 在所述第一色阻和合成色阻的第一部分上涂覆第二色阻层； 通过采用半透膜掩模板曝光、显影、刻蚀，图案化所述第二色阻层，形成第二色阻和合成色阻的第二部分，所述第二色阻具有第一厚度，所述合成色阻的第二部分具有第三厚度； 所述第一色阻或者第二色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的任意一种色阻，所述第一色阻不同于所述第二色阻。
12.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，还包括:在所述第一色阻、第二色阻、合成色阻的第二部分上涂覆第三色阻层； 通过曝光、显影、刻蚀，图案化所述第三色阻层，形成具有第一厚度的第三色阻； 所述第三色阻是红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中除去第一色阻和第二色阻后的剩下的那种色阻。
13.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度之和等于所述第一厚度。
14.如权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
15.如权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述第二厚度与所述第三厚度相同或者不同。
16.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，还包括通过光刻工艺形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻`两两之间的黑矩阵。
【文档编号】G02F1/1335GK103869531SQ201210367961
【公开日】2014年6月18日 申请日期:2012年12月10日 优先权日:2012年12月10日
【发明者】温福正 申请人:上海天马微电子有限公司