专利名称：双压电变形镜的制作方法
技术领域：
本实用新型属于光学镜头技术领域，具体涉及ー种双压电变形镜，用于光学系统中的波像差校正。
背景技术：
变形镜是ー种可用在光学系统中进行光束控制的新型光学器件，在军事和民用市场两方面都有良好的应用前景。通常用于激光束控制的变形镜有柱状陶瓷变形镜、微机电变形镜以及双压电变形镜。柱状陶瓷变形镜由于受到作动器几何尺寸的限制，波前校正系统的空间分辨率较小，对高空间频率的波面校正能力限制，且结构复杂，制作エ艺繁琐，价格昂贵。新兴微机电变形镜是利用半导体中相对成熟的一系列加工エ艺，在微小尺寸范围内来实现ー些传统机械执行器的功能，这种变形镜的空间密度很高，但是由于微机电变形镜尺寸微小，需要特定的加 エ设备，一般不易于实现。双压电变形镜调制动态范围大，结构简单，成本低，易于实现在光路调节中补偿像差。
发明内容本实用新型目的在于克服现有技术的不足，提供了ー种结构简单、成本低、エ艺简单且波前校正空间分辨率高的双压电变形镜。本实用新型的解决方案是ー种双压电变形镜，包括反射镜、压电晶片和变形镜支撑件，其特点是压电晶片由两片负极面相粘合的压电晶片ー和压电晶片ニ构成，压电晶片一正极面粘接在反射镜背面，压电晶片ニ正极面分布有分电极，压电晶片ー和压电晶片ニ的电极上连接电极弓I线，电极弓丨线另一端连接供给电源。本实用新型的工作原理是由于压电晶片一作为整体电极，压电晶片ニ正极面刻蚀有小电极，在极化方向上施加电压会引起材料沿垂直于极化方向伸展或收缩。通过对压电晶片上不同电极上施加不同的电压，将对反射镜背面不同位置施加不同的压力，引起反射镜的面型变化，从而达到对波前的调制，实现在光路调节中补偿像差。本实用新型的解决方案中压电晶片ニ的正极面至少刻蚀三圈电极，每圈电极至少排布三个电扱。通过设置多极、多个电极，对不同的电极施加不同的电压，可很精细的达到对波前的调制，实现在光路调节中补偿像差。压电晶片ニ的正极面可刻蚀三圈、四圈或五圈电极，姆圈电极排布三个、四个或五个电极。本实用新型的解决方案中变形镜支撑件粘接在压电晶片外的反射镜背面，其高度大于两片压电晶片的厚度，以保护压电晶片电极不受磨损，保护电极引线。本实用新型的优点由于压电晶片一作为整体电极，压电晶片ニ正极面刻蚀有小电极，可根据输入波前的激光束特性，在压电晶片ニ正极面刻蚀不同排布的电极，通过对不同电极施加电压，使镜面发生变形，实现波前校正。该变形镜可拟合不同类型的像差，波前校正空间分辨率高，结构简单，成本低、エ艺简単。
图I是本实用新型的结构示意图；图2是本实用新型压电晶片ー的电极刻蚀图；图3是本实用新型压电晶片ニ的三圈、三个电极刻蚀图；图4是本实用新型电晶片ニ的四圈、四个电极刻蚀图；图5是本实用新型电晶片ニ的五圈、五个电极刻蚀图。
具体实施方式
本实用新型实施例如图所示图I是本实用新型的双压电变形镜的结构示意图，双压电变形镜由反射镜I、压电晶片ー 2、压电晶片ニ 3、支撑件5组成。压电晶片ー 2和压电晶片ニ 3负极面相粘合，压电晶片ー 2正极面粘接在反射镜I背面，压电晶片ニ 3正极面分布有分电极。压电晶片ー 2和压电晶片ニ 3负极连接电极引线6接地，压电晶片ニ 3正极面的分电极连接电极引线4，压电晶片ー 2正极面连接电极引线5，电极引线4、5另一端连接供给电源。变形镜支撑件粘接在压电晶片外的反射镜背面，其高度大于两片压电晶片的厚度，以保护压电晶片电极不受磨损，保护电极引线。图2中压电晶片ー 2其正极面为一整体离焦电极8，用于修正波像差中的离焦像差，电极8通过电极引线5连接供给电源。图3中压电晶片ニ 3其正极面刻蚀三圈电极(9、10、11)，每圈中可排布三个电极，每个电极通过电极引线4连接供给电源。。根据输入像差特性，对不同电极施加电压，使镜面发生变形，用于修正波像差。图4中压电晶片ニ 3其正极面刻蚀三圈电极(12、13、14)，每圈中可排布四个电极，每个电极通过电极引线4连接供给电源。。根据输入像差特性，对不同电极施加电压，使镜面发生变形，用于修正波像差。图5中压电晶片ニ 3其正极面刻蚀三圈电极(15、16、17),姆圈中可排布五个电极，每个电极通过电极引线4连接供给电源。。根据输入像差特性，对不同电极施加电压，使镜面发生变形，用于修正波像差。
权利要求1.ー种双压电变形镜，包括反射镜(I)、压电晶片和变形镜支撑件(7)，其特征在于压电晶片由两片负极面相粘合的压电晶片ー(2)和压电晶片ニ(3)构成，压电晶片ー(2)正极面粘接在反射镜(I)背面，压电晶片ニ(3)正极面分布有分电极，压电晶片ー(2)和压电晶片ニ( 3 )的电极上连接电极引线(4，5，6 )，电极引线(4，5，6 )另一端连接供给电源。
2.根据权利要求I所述的双压电变形镜，其特征在于压电晶片ニ(3)的正极面至少刻蚀三圈电极，每圈电极至少排布三个电极。
3.根据权利要求I所述的双压电变形镜，其特征在于变形镜支撑件(7)粘接在压电晶片外的反射镜(I)背面，其高度大于两片压电晶片的厚度，以保护压电晶片和电极引线。
4.根据权利要求2所述的双压电变形镜，其特征在于压电晶片ニ(3)的正极面刻蚀三圈电极，每圈电极排布四个电极。
5.根据权利要求2所述的双压电变形镜，其特征在于压电晶片ニ(3)的正极面刻蚀三圈电极，姆圈电极排布五个电极。
专利摘要本实用新型涉及一种双压电变形镜，用于光学系统中的波像差校正，包括反射镜、压电晶片和变形镜支撑件，其压电晶片由两片负极面相粘合的压电晶片一和压电晶片二构成，压电晶片一正极面粘接在反射镜背面，压电晶片二正极面分布有分电极，压电晶片一和压电晶片二的电极上连接电极引线，电极引线另一端连接供给电源。本实用新型可根据输入波前的激光束特性，在压电晶片二正极面刻蚀不同排布的电极，通过对不同电极施加电压，使镜面发生变形，实现波前校正。该变形镜可拟合不同类型的像差，波前校正空间分辨率高，结构简单，成本低、工艺简单。
文档编号G02B26/06GK202661714SQ201220297458
公开日2013年1月9日 申请日期2012年6月25日 优先权日2012年6月25日
发明者徐宏来, 何忠武, 雒仲祥, 李国会, 向汝建 申请人:中国工程物理研究院应用电子学研究所