一种投影式曝光设备及使用方法
【专利摘要】本发明公开了一种投影式曝光设备及使用方法，包括光源、空间光调制器和曝光板材；在此基础上，还包括吹气管，吹气管安装在曝光板材表面的前方，吹气管上开有多个出风口，所述的出风口的出风位置对应曝光板材表面易堆积赃物的区域。本发明通过在曝光板材表面的前方增加了吹气管，在光束二到达待曝光板材表面的同时，吹气管出风，经由出风口对曝光板材表面易堆积赃物区域进行吹扫，待赃物全清除后停止出风，从而避免了因赃物污染，导致光束无法直接照射到板材表面，从而赃物覆盖处无法发生化学感光聚合反应，出现图形的缺失而引起一系列的品质缺陷的情况的发生，降低了报废率的同时，提升了PCB良率，具有广泛的市场前景和使用价值。
【专利说明】一种投影式曝光设备及使用方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种利用气流清洁板材提升良率的方法，具体是一种投影式曝光设 备，其特及使用方法，属于印刷电路板中曝光【技术领域】。
【背景技术】
[0002] 目前印刷电路板（PCB)图像转移设备有两大类：传统的投影式曝光设备和激光直 接成像设备（LDI)。传统的投影式曝光设备将图形印制在菲林底片上，通过投影菲林底片将 图形转移到感光干膜上；另外一类是激光直写式曝光设备，激光束将曝光图形通过空间光 调制器直接扫描成像在感光干膜上。
[0003] 激光直写式曝光设备使用空间光调制器（SLM，Special Light Modulator)来代替 菲林底片图形，光束通过空间光调制器反射，经过光路到达待曝光基底表面，利用化学聚合 反应将图形转移到待曝光板材表面，所述的待曝光板材采用压有感光干膜的PCB板，空间 光调制器上的图形与待曝光基底之间做相对运动；曝光基底在随着平台运动过程中，由于 操作人员、环境等影响，板材上会发生赃物污染，如毛发、干膜碎屑、灰尘等覆盖，此时会使 光束无法直接照射到板材表面，从而赃物覆盖处无法发生化学感光聚合反应，导致图形的 缺失而引起一系列的品质缺陷（开路、缺口、短路、多铜)，据PCB生产统计：赃物的影响会导 致报废率上升1%以上。
【发明内容】
[0004] 针对上述现有技术存在的问题，本发明提供一种投影式曝光设备及使用方法及装 置，提升PCB良率，降低报废率。
[0005] 为了实现上述目的，本发明包括光源、空间光调制器和曝光板材；在此基础上，还 包括吹气管，吹气管安装在曝光板材表面的前方，吹气管上开有多个出风口，所述的出风口 的出风位置对应曝光板材表面易堆积赃物的区域。
[0006] 进一步，曝光板材为PCB板，表面压有一层感光干膜。
[0007] 根据本发明中投影式曝光设备的机构，其具体的使用方法如下： (1) 光源发出光束一，光束一经过光路到空间光调制器； (2) 空间光调制器将光束一反射形成光束二； (3) 吹气管出风，经由出风口对曝光板材表面易堆积赃物的区域进行吹扫，待赃物完全 清除后停止出风； (4) 与步骤三同步，光束二到达待曝光板材表面，利用化学感光聚合反应将图形转移到 待曝光基底的表面，空间光调制器上的图形与待曝光基底之间做相对运动，完成整体操作。
[0008] 作为另外一种使用方式，具体的使用方法如下： (1) 吹气管出风，经由出风口对曝光板材表面易堆积赃物的区域进行吹扫，待赃物（7) 完全清除后停止出风； (2) 光源发出光束一，光束一经过光路到空间光调制器； (3) 空间光调制器将光束一反射形成光束二； (4) 光束二到达待曝光板材表面，利用化学感光聚合反应将图形转移到待曝光基底的 表面，空间光调制器上的图形与待曝光基底之间做相对运动，完成整体操作。
[0009] 对比现有技术，同时结合本发明的结构和具体的是方法，本发明在曝光板材表面 的前方增加了吹气管，在光束二到达待曝光板材表面的同时，吹气管出风，经由出风口对曝 光板材表面易堆积赃物区域进行吹扫，待赃物全清除后停止出风，从而避免了因赃物污染， 导致光束无法直接照射到板材表面，从而赃物覆盖处无法发生化学感光聚合反应，出现图 形的缺失而引起一系列的品质缺陷(如开路、缺口、短路、多铜等）的情况的发生，降低了报 废率的同时，提升了 PCB良率，具有广泛的市场前景和使用价值。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 图1为现有投影式曝光设备的工作流程示意图； 图2为本发明的工作流程示意图。
[0011] 图中：1、光源；2、光束一 ；3、空间光调制器；4、光束二；5、曝光板材；6、曝光基底； 7、赃物；8、吹气管。
【具体实施方式】
[0012] 下面结合附图对本发明做进一步说明。
[0013] 如图2所示，一种投影式曝光设备，包括光源1、空间光调制器3和曝光板材5 ;还 包括吹气管8,所述的吹气管8安装在曝光板材5表面的前方，吹气管8上开有多个出风口， 所述的出风口的出风位置对应曝光板材5表面易堆积赃物7的区域。
[0014] 作为本发明优选的方式，所述的曝光板材5为PCB板，表面压有一层感光干膜。
[0015] 结合图2所示，投影式曝光设备的使用方法如下： (1) 光源1发出光束一 2,光束一经过光路到空间光调制器3 ; (2) 空间光调制器将光束一 2反射形成光束二4 ; (3) 吹气管8出风，经由出风口对曝光板材5表面易堆积赃物7的区域进行吹扫，待赃 物7完全清除后停止出风； (4) 与步骤三同步，光束二4到达待曝光板材表面5,利用化学感光聚合反应将图形转 移到待曝光基底6的表面，空间光调制器3上的图形与待曝光基底6之间做相对运动，完成 整体操作。
[0016] 作为另一种方式，其具体的使用方法如下： (1) 吹气管8出风，经由出风口对曝光板材5表面易堆积赃物7的区域进行吹扫，待赃 物7完全清除后停止出风； (2) 光源1发出光束一 2,光束一经过光路到空间光调制器3 ; (3) 空间光调制器将光束一 2反射形成光束二4 ; (4) 光束二4到达待曝光板材表面5,利用化学感光聚合反应将图形转移到待曝光基底 6的表面，空间光调制器3上的图形与待曝光基底6之间做相对运动，完成整体操作。
[0017] 对比图1的现有技术，结合本发明的结构和具体的是方法，本发明在曝光板材表 面的前方增加了吹气管8,在光束二4到达待曝光板材表面的同时，吹气管8出风，经由出风 口对曝光板材5表面易堆积赃物7区域进行吹扫，待赃物7全清除后停止出风，从而避免了 因赃物7污染，导致光束无法直接照射到板材表面，从而赃物覆盖处无法发生化学感光聚 合反应，出现图形的缺失而引起一系列的品质缺陷（如开路、缺口、短路、多铜等）的情况的 发生，降低了报废率的同时，提升了 PCB良率，具有广泛的市场前景和使用价值。
【权利要求】
1. 一种投影式曝光设备，包括光源（1)、空间光调制器（3)和曝光板材（5); 其特征在于，还包括吹气管（8)，所述的吹气管（8)安装在曝光板材（5)表面的前方，吹 气管（8)上开有多个出风口，所述的出风口的出风位置对应曝光板材（5)表面易堆积赃物 (7)的区域。
2. 根据权利要求1所述的一种投影式曝光设备，其特征在于，所述的曝光板材（5)为 PCB板，表面压有一层感光干膜。
3. 根据权利要求1所述的一种投影式曝光设备，其特征在于，具体的使用方法如下： (1) 光源（1)发出光束一（2)，光束一经过光路到空间光调制器（3); (2) 空间光调制器将光束一（2)反射形成光束二（4); (3) 吹气管（8)出风，经由出风口对曝光板材（5)表面易堆积赃物（7)的区域进行吹扫， 待赃物（7)完全清除后停止出风； (4) 与步骤三同步，光束二（4)到达待曝光板材表面（5)，利用化学感光聚合反应将图 形转移到待曝光基底（6)的表面，空间光调制器（3)上的图形与待曝光基底（6)之间做相对 运动，完成整体操作。
4. 根据权利要求1所述的一种投影式曝光设备，其特征在于，具体的使用方法如下： (1)吹气管（8)出风，经由出风口对曝光板材（5)表面易堆积赃物（7)的区域进行吹扫， 待赃物（7)完全清除后停止出风； (2 )光源（1)发出光束一（2 )，光束一经过光路到空间光调制器（3 ); (3) 空间光调制器将光束一（2)反射形成光束二（4); (4) 光束二（4)到达待曝光板材表面（5)，利用化学感光聚合反应将图形转移到待曝光 基底（6)的表面，空间光调制器（3)上的图形与待曝光基底（6)之间做相对运动，完成整体 操作。
【文档编号】G03F7/20GK104216240SQ201410472609
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2014年9月17日 优先权日:2014年9月17日
【发明者】王宇航, 曹旸 申请人:江苏影速光电技术有限公司