曝光机的曝光平台的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开一种曝光机的曝光平台，包含曝光框、载台、多个升降单元及透光板；其中，载台可相对曝光框接近或远离，载台的上表面具有容置区，容置区用于放置基板并使曝光光源的入射光投射至基板；升降单元设置于曝光框上；透光板与升降单元的夹具结合，透光板由升降单元驱动而朝向或远离载台的容置区移动；本实用新型的曝光平台的透光板是通过夹具与升降单元固定至曝光框底面上，当在电路板制程的曝光步骤中进行抽真空时，透光板可由升降单元驱动并贴合于基板并随基板平整度产生变形，而增进了透光板与基板的贴合紧密度，进而提升了曝光分辨率。
【专利说明】曝光机的曝光平台
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种曝光机的曝光平台，尤其涉及一种用于电路板制程的曝光机中的曝光平台。
【背景技术】
[0002]现有用于电路板制程的曝光机中，是通过一曝光平台来使曝光光源、基板与光罩对位，以利于使曝光光源精确地曝光至基板上光罩未遮蔽的区域。其中，现有的曝光平台具有一载台与一曝光框，该载台用于承载该基板，该曝光框具有矩形的框体及设置于该框体中的透光板，该透光板用于设置光罩并压合于该基板表面，在电路板制程中，利用连接该载台的抽真空装置，对该载台与该曝光框之间进行抽真空，以使该曝光框及该透光板底面的光罩紧密地贴合在该基板表面后，再开启曝光光源进行曝光。
[0003]然而，在抽真空装置将该载台与该曝光框之间进行抽真空的过程中，抽真空的吸力逐渐提高，由于该基板表面并非完全平整，并且该透光板四周边缘被该框体所固定，该透光板无法随基板表面平整度产生变形，导致该曝光框及该曝光框上的光罩无法完全紧密贴合于该基板表面，进而使降低曝光分辨率。
实用新型内容
[0004]本实用新型的主要目的在于提供一种曝光机的曝光平台，用于使曝光光源、基板与光罩对位，该曝光平台可随基板表面平整度产生变形以使光罩紧密地贴合至基板表面，并具有提高曝光分辨率的功效。
[0005]为达上述目的及其它目的，本实用新型提供一种曝光机的曝光平台，用于承载一基板并对位于一曝光光源下方，包含一曝光框、一载台、多个升降单兀及一透光板；其中，该载台可相对该曝光框接近或远离，该载台的上表面具有一容置区，该容置区用于放置该基板并使该曝光光源的入射光投射至该基板；这些升降单元设置于该曝光框上；该透光板与这些升降单元结合，该透光板由这些升降单元驱动而朝向或远离该载台的容置区移动。
[0006]上述的曝光机的曝光平台，其中各该升降单元具有一基座、一活塞及一夹具，该基座固定于该曝光框上，该活塞可往复移动地容置于该基座的一容置槽内并具有一往复行程，该活塞的一端通过该容置槽的槽口并结合至该夹具，该夹具夹持该透光板。
[0007]上述的曝光机的曝光平台，其中该基座的容置槽的槽口具有一第一定位部，且该夹具具有对应该第一定位部的一第二定位部。
[0008]上述的曝光机的曝光平台，其中该往复行程为3.5±0.5mm。
[0009]上述的曝光机的曝光平台，其中该曝光平台具有一真空表，用于侦测该载台的上表面的气压。
[0010]上述的曝光机的曝光平台，其中该升降单元电性连接一主控计算机，用于当该真空表侦测到的气压达一预定值时，该主控计算机控制这些升降单元作动使该透光板朝向该载台的容置区移动且贴合该载台上表面的基板。
[0011]上述的曝光机的曝光平台，其中该活塞邻近一端处具有一密封圈，该基座上具有一放松进气孔及一夹持进气孔，该密封圈在该放松进气孔与该夹持进气孔之间往复移动且使该基座的容置槽内被隔离形成一放松进气室及一夹持进气室，该放松进气孔连通该放松进气室，该夹持进气孔连通该夹持进气室，该放松进气孔及该夹持进气孔用于分别连接至一进气装置，且该进气装置电性连接该主控计算机。
[0012]上述的曝光机的曝光平台，其中这些升降单元的数量至少四个以上。
[0013]据此，本实用新型的曝光平台应用在电路板制程的曝光步骤中，该曝光平台的透光板通过这些夹具与这些升降单元固定至该曝光框底面上，故在该载台与该曝光框相对接近后且进行抽真空时，该透光板可通过这些升降单元驱动并贴合于该基板表面，且该透光板在抽真空过程中可随着该基板平整度产生变形，进而增进了透光板与基板的贴合紧密度，而能改善现有技术中曝光框的透光板在抽真空时无法随基板平整度产生变形的缺点，故本实用新型的曝光平台可增进该透光板与该基板在抽真空时紧密地贴合，进而提升了曝光分辨率。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型实施例的曝光平台的示意图。
[0015]图 2为本实用新型实施例的曝光平台中曝光框的结构示意图。
[0016]图3A及3B为本实用新型实施例的曝光平台中升降单元的结构示意图。
[0017]【主要组件符号说明】
[0018]I曝光平台
[0019]10曝光框
[0020]20 载台
[0021]21上表面
[0022]30升降单元
[0023]31 基座
[0024]3IA上盖体
[0025]3IB下盖体
[0026]314第一定位部
[0027]311容置槽
[0028]31IA放松进气室
[0029]31IB夹持进气室
[0030]312放松进气孔
[0031]313夹持进气孔
[0032]314第一定位部
[0033]32 活塞
[0034]321密封圈
[0035]33 夹具
[0036]331第二定位部
[0037]40透光板
[0038]50真空表
[0039]100 基板
[0040]200曝光光源
[0041]201入射光
【具体实施方式】
[0042]为充分了解本实用新型的目的、特征及功效，现通过下述具体的实施例，并配合附图，对本实用新型做一详细说明，说明如后:
[0043]本实用新型实施例的曝光平台I应用于制造电路板的曝光机中，该曝光机具有内部空间且其中配置有一曝光光源200，首先请参阅图1，本实用新型实施例的曝光平台I用于承载一基板100并对位于该曝光光源200下方,该曝光平台I包含一曝光框10、一载台20、多个升降单元30及一透光板40 ;配合图2所示，该曝光框10为一矩形框体；该载台20可相对该曝光框10接近或远离，该载台20的上表面21具有一容置区，该容置区用于放置该基板100并使该曝光光源200的入射光201投射至该基板100 ;这些升降单元30设置于该曝光框20上；该透光板40与这些升降单元30结合，该透光板40由这些升降单元30驱动而朝向或远离该载台20的容置区移动。
[0044]本实用新型实施例的曝光平台I连接有一抽真空装置(图未示)，其用于使该曝光框10与该载台20之间形成真空，以使在该透光板40底部的光罩(图未示)与在该载台20上表面的基板200可紧密地贴合。其中，该载台20可邻近在该容置区的周围设置有密封胶条(图未示)，而使该载台20与该透光板40相靠合后形成一气密空间，以避免外界气体进入而导致真空度不足。
[0045]据此，当承载有待曝光的基板100的载台20与设置有光罩的透光板40相对接近并靠合后，该抽真空装置进行抽真空，该升降单元30驱动该透光板40朝向该载台20的容置区移动，并使该透光板40贴合至该载台20上表面的基板200，因此，不同于现有技术中透光板的四周边缘固定于曝光框上，本实用新型实施例的曝光平台I中该透光板40通过这些夹具33与这些升降单元30固定至该曝光框10，故在抽真空时，该透光板40可随基板平整度产生变形，进而增进了透光板40与基板100的贴合紧密度。
[0046]请参照图3A及3B，其为本实用新型实施例中升降单元30的结构图，在本实施例中，各该升降单元30具有一基座31、一活塞32及一夹具33，该基座31固定于该曝光框10上，该活塞32可往复移动地容置于该基座31的一容置槽311内并具有一往复行程，该活塞32的一端通过该容置槽311的槽口并结合至该夹具33，该夹具33夹持该透光板40，如图所示，每一升降单元30的夹具33夹持住该透光板40的边缘。其中，该往复行程可为
3.5±0.5mm,即该活塞32由图3A的位置移动至图3B的位置时，是带动该透光板40下降3.5 + 0.5mmο
[0047]具体而言，本实施例的升降单元30中，如图3A及图3B所示，该活塞32邻近一端处具有一密封圈321，该基座31上具有一放松进气孔312及一夹持进气孔313，其中，该基座31可具有上盖体3IA及下盖体31B，该上盖体3IA与该下盖体3IB盖合组装后形成有该容置槽311，而该放松进气孔312设于该上盖体31A上且邻近该上盖体31A的顶部，该夹持进气孔313设于该上盖体31B上且邻近该上盖体31A与该下盖体31B的接合处。
[0048]该活塞32的密封圈321在该放松进气孔312与该夹持进气孔313之间往复移动且使该基座31的容置槽311内被隔离形成一放松进气室31IA及一夹持进气室311B，该放松进气孔312连通该放松进气室311A，该夹持进气孔313连通该夹持进气室311B，该放松进气孔312及该夹持进气孔313用于分别连接至一进气装置(图未示)，且该进气装置可电性连接曝光机的主控计算机(图未示)。当进气装置将气体由该夹持进气孔313送入时，该活塞32如图3A所示地被推至邻近该放松进气孔312的位置，而为该往复行程的上死点，此时，该夹持进气室311B的体积大于该放松进气室311A ;当进气装置将气体由该放松进气孔312送入时，该活塞32如图3B所示地被推至邻近该夹持进气孔313的位置，而为该往复行程的下死点，此时，该放松进气室31IA的体积大于该夹持进气室311B。
[0049]在本实施例中，该基座31的容置槽311的槽口具有一第一定位部314，且该夹具33具有对应该第一定位部314的一第二定位部331。如图3A及图3B所示，该第一定位部314为该容置槽311槽口的斜锥面，其是由该容置槽311内向外渐扩，该第二定位部331为该夹具上33具有对应该第一定位部314的斜锥面的凸块，在该活塞32由图3B至图3A的状态时，使夹具33在随着活塞32上升并接近该基座31时，该第二定位部331顺应地靠合于该第一定位部314上，此时，该夹具33与该基座31相对定位，该活塞32回到往复行程的上死点的位置。
[0050]在本实施例中，该曝光平台I可具有一真空表50，用于侦测该曝光平台I在该载台20与该曝光框10相对靠近且该透光板40贴合该基板100后的真空度(又称真空压力)，以监控该载台20与该曝光框10间的气密空间的真空度。
[0051]在本实施例中，该曝光平台I连接至该曝光机的主控计算机，该主控计算机根据该真空表50侦测的气压值来控制该升降单元30，该真空表50所侦测的气压达一预定值时，在本实施例中，该预定值示例为200mmHg,该主控计算机控制这些升降单元30作动使该透光板40朝向该载台20的容置区移动且贴合该载台20上表面21的基板100。此外，该曝光机可具有一用户接口，其电性连接该主控计算机并用于设定制程参数(例如曝光时间、曝光强度、真空度等)，使用者可通过该用户接口输入及设定该预定值，依据曝光目标的种类、尺寸来设定该预定值。
[0052]据此，本实用新型实施例应用于制造电路板的自动化程序中，在开始前，该曝光平台I的透光板40的初始位置为这些升降单元30内的活塞32位于往复行程的上死点位置(如图3A)，即该透光板40位于整个往复行程中最靠近该曝光框10的位置；当基板100已对位放置于该载台20上表面21的容置区后，该载台20与该曝光框10相对接近(可通过传动机构的配置使该载台20上升以接近该曝光框10，或使该曝光框10下降接近该载台20，或使同时使该曝光框10下降及该载台20上升)后，该抽真空装置开始进行抽真空，且该真空表50侦测该载台20上表面的气压，当所侦测到的气压达200mmHg的预定值时，该主控计算机控制连接这些升降单元30的进气装置，以使气体由每一升降单元30的放松进气孔312送入，该活塞32由图3A至图3B所示地被推至邻近该夹持进气孔313的位置，而达往复行程的下死点，在此同时，该透光板40朝向该载台20接近而贴合于该载台20上表面的基板100上。因此，在该抽真空装置持续抽真空的过程中，该透光板40逐渐紧贴于该基板100表面，直到该透光板40与该基板100之间达到真空状态且完全贴合后，才开启该曝光光源200对该基板100进行曝光步骤。
[0053]在曝光步骤完成后，该曝光机内部空间逐渐回复至常压状态，该主控计算机控制连接这些升降单元30的进气装置，以使气体由每一升降单元30的夹持进气孔313送入，该活塞32如图3B至图3A所示地被推至邻近该放松进气孔312的位置，而为该往复行程的上死点，在此同时，该透光板40相对该载台20与其上表面的基板100远离，最后，该载台20与该曝光框10相对远离。
[0054]在本实施例中，这些升降单元30的数量为八个，其在矩形的曝光框10的每一边上各配置二个，然而这些升降单元30的数量不限于本实施例及附图，其可按照该曝光框10的尺寸进行配置，例如适用于小板面基板的曝光机中，这些升降单元30的数量可为四个，SP在矩形的曝光框10的每一边上配置一个，才可提供予透光板40足够的支撑力与驱动力。
[0055]综上所述，本实用新型实施例的曝光平台I应用在电路板制程的曝光步骤中，该曝光平台I的透光板40通过这些夹具33与这些升降单元30固定至该曝光框10底面上，故在该载台20与该曝光框10相对接近后且进行抽真空时，该透光板40可通过这些升降单元30驱动并贴合于该基板100，且该透光板40在抽真空过程中可随基板表面的平整度产生变形，进而增进了透光板40与基板100的贴合紧密度，而能改善现有技术中曝光框的透光板在抽真空时无法随基板100平整度产生变形而无法紧密贴合的缺点，故本实用新型实施例的曝光平台I可增进该透光板40与该基板100在抽真空时紧密地贴合，进而提升了曝光分辨率。
[0056]本实用新型在上文中已以较佳实施例公开，然而本领域的技术人员应理解的是，该实施例仅用于描绘本实用新型，而不应解读为限制本实用新型的范围。应注意的是，举凡与该实施例等效的变化与置换，均应设为涵盖于本实用新型的范畴内。因此，本实用新型的保护范围当以权利要求所界定者为准。
【权利要求】
1.一种曝光机的曝光平台，用于承载一基板并对位于一曝光光源下方，其特征在于，包含: 一曝光框； 一载台，可相对该曝光框接近或远离，该载台的上表面具有一容置区，该容置区用于放置该基板并使该曝光光源的入射光投射至该基板； 多个升降单元，设置于该曝光框上；以及 一透光板，与这些升降单元结合，该透光板由这些升降单元驱动而朝向或远离该载台的容置区移动。
2.如权利要求1所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，各该升降单元具有一基座、一活塞及一夹具，该基座固定于该曝光框上，该活塞可往复移动地容置于该基座的一容置槽内并具有一往复行程，该活塞的一端通过该容置槽的槽口并结合至该夹具，该夹具夹持该透光板。
3.如权利要求2所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，该基座的容置槽的槽口具有一第一定位部，且该夹具具有对应该第一定位部的一第二定位部。
4.如权利要求2或3所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，该往复行程为3.5 + 0.Smnin
5.如权利要求2或3所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，该曝光平台具有一真空表，用于侦测真空度。
6.如权利要求5所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，该升降单元电性连接一主控计算机，用于当该真空表侦测到的气压达一预定值时，该主控计算机控制这些升降单元作动使该透光板朝向该载台的容置区移动且贴合该载台上表面的基板。
7.如权利要求6所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，该活塞邻近一端处具有一密封圈，该基座上具有一放松进气孔及一夹持进气孔，该密封圈在该放松进气孔与该夹持进气孔之间往复移动且使该基座的容置槽内被隔离形成一放松进气室及一夹持进气室，该放松进气孔连通该放松进气室，该夹持进气孔连通该夹持进气室，该放松进气孔及该夹持进气孔用于分别连接至一进气装置，且该进气装置电性连接该主控计算机。
8.如权利要求1所述的曝光机的曝光平台，其特征在于，这些升降单元的数量为至少四个以上。
【文档编号】G03F7/20GK203858451SQ201420235224
【公开日】2014年10月1日 申请日期:2014年5月8日 优先权日:2014年5月8日
【发明者】张鸿明 申请人:川宝科技股份有限公司