曝光机光源照射强度调整机构的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种曝光机光源照射强度调整机构，其包含光传感器，感测曝光机的多个光源的照射强度；移动机构，该光传感器设置于该移动机构以相对于这些光源移动；以及照射强度调整单元，其具有处理单元及存储单元，该光传感器、该移动机构及该存储单元电连接该处理单元，该处理单元电连接这些光源，该存储单元储存这些光源的位置及照射强度值，该处理单元借由这些照射强度值调整这些光源的照射强度至均匀。借此，本实用新型的曝光机光源照射强度调整机构可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率。
【专利说明】曝光机光源照射强度调整机构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种曝光机光源照射强度调整机构，尤其涉及一种可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率的曝光机光源照射强度调整机构。
【背景技术】
[0002]现今电子设备的种类众多，而电路板是电子设备中重要的组件之一，曝光机为目前制作电路板的主要设备之一，其主要利用曝光的方式在电路板上制作电路。一般的曝光机多以多个光源进行曝光，然而，这些光源经过多次使用后，各个光源常会因自身使用寿命的关系而造成照射强度减弱，使得所有光源的照射强度分布不均，进而降低了电路板制作的合格率。因此，如何研发出一种曝光机光源照射强度调整机构，以使其可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率，将是本实用新型所欲积极揭露之处。
实用新型内容
[0003]有鉴于上述现有技术之缺憾，发明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，进而研发出一种曝光机光源照射强度调整机构，以期达到可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率的目的。
[0004]为达上述目的及其他目的，本实用新型提供一种曝光机光源照射强度调整机构，其包含光传感器，感测曝光机的多个光源的照射强度；移动机构，该光传感器设置于该移动机构以相对于这些光源移动；以及照射强度调整单元，其具有处理单元及存储单元，该光传感器、该移动机构及该存储单元电连接该处理单元，该处理单元电连接这些光源，该存储单元储存这些光源的位置及照射强度值，该处理单元借由这些照射强度值调整这些光源的照射强度至均匀。
[0005]上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构为曝光机的感光基板搬移机台。
[0006]上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构具有相互连接的第一维度移动机构及第二维度移动机构，该第一维度移动机构及该第二维度移动机构的移动方向相互垂直，该光传感器设置于该第一维度移动机构。
[0007]上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构具有第一维度移动机构及第二维度移动机构，该第一维度移动机构及该第二维度移动机构的移动方向相互垂直，该光传感器设置于该第一维度移动机构，该第二维度移动机构用以设置并移动这些光源。
[0008]借此，本实用新型的曝光机光源照射强度调整机构可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型具体实施例的示意图一。
[0010]图2为本实用新型具体实施例的示意图二。
[0011]图3为本实用新型具体实施例的示意图三。
[0012]主要部件附图标记:
[0013]1光传感器
[0014]2移动机构
[0015]23吸盘
[0016]2’移动机构
[0017]21’第一维度移动机构
[0018]211’连接件
[0019]22’第二维度移动机构
[0020]2”移动机构
[0021]21”第一维度移动机构
[0022]211”连接件
[0023]22”第二维度移动机构
[0024]3照射强度调整单元
[0025]31处理单元
[0026]32存储单元
[0027]9光源平台
[0028]91光源
【具体实施方式】
[0029]为充分了解本实用新型的目的、特征及技术效果，兹由下述具体实施例，并结合附图，对本实用新型做详细说明，说明如下:
[0030]请参照图2，如图所示，本实用新型提供一种曝光机光源照射强度调整机构，其包含光传感器1、移动机构2以及照射强度调整单元3。其中，该光传感器1用以感测曝光机的多个光源91的照射强度，这些光源91可以矩阵排列或交错排列方式设置于光源平台9上，这些光源91分别可具有至少一发光二极管010(16，120)；该光传感器1设置于该移动机构2以相对于这些光源91移动，使该光传感器1可感测各个光源91的照射强度，若这些光源91在^平面、XX平面或平面上时，该移动机构2可使该光传感器1在V平面、平面或平面上相对于这些光源91移动；该照射强度调整单元3可为处理电路或处理芯片且具有处理单元31及存储单元32，该处理单元31可为处理器，该存储单元32可为内存，该光传感器1、该移动机构2及该存储单元32电连接该处理单元31，该处理单元31用以电连接这些光源91，该存储单元32用以储存这些光源91的位置及照射强度值，该处理单元31可用以电连接市电，该处理单元31用以借由这些照射强度值调整这些光源91的照射强度至均匀。借此，该光传感器1可借由该移动机构2感测各个光源91并将各个光源91的位置及照射强度值储存于该存储单元32，之后该处理单元31经过计算处理后找出这些光源91中最小的照射强度值及其位置，接着再减少其他光源91的输入功率以使其他光源91的照射强度值等于最小的照射强度值，进而使这些光源91具有均匀的照射强度的目的；另外，该光传感器1亦可再借由该移动机构2感测各个光源91以确认这些光源91具有均匀的照射强度；再者，若最小的照射强度值小于最小的曝光需求值时，该光源91便可进行汰换；再者，该处理单元31经过计算处理后亦可找出这些光源91中较小的照射强度值及其位置，接着再增加该光源91的输入功率以使该光源91的照射强度值等于其他的照射强度值，进而使这些光源91具有均匀的照射强度的目的；再者，该光传感器1亦可再借由该移动机构2感测各个光源91以确认这些光源91具有均匀的照射强度；再者，若该光源91增加输入功率后无法提高照射强度时，该光源91便可进行汰换。
[0031]如上所述，本实用新型的曝光机光源照射强度调整机构可随时检测并调整曝光机的多个光源的照射强度至均匀，以提升曝光机曝光成品的合格率。
[0032]请参照图1，如图所示，上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构2可为曝光机的感光基板搬移机台，该光传感器1可设置于该感光基板搬移机台内或其他位置，该感光基板搬移机台具有多个吸盘23以吸取感光基板至曝光位置。借此，该光传感器1可随该感光基板搬移机台相对于这些光源91移动。
[0033]请再参照图2，如图所示，上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构2’可具有相互连接的第一维度移动机构21’及第二维度移动机构22’，该第一维度移动机构21’及该第二维度移动机构22’的移动方向相互垂直，该光传感器1可借由连接件211’设置于该第一维度移动机构21’。该第一维度移动机构21’可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211’在X轴上移动，该第二维度移动机构22’可具有轨道以使该第一维度移动机构21’在7轴上移动；或，该第一维度移动机构21’可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211’在X轴上移动，该第二维度移动机构22’可具有轨道以使该第一维度移动机构21’在2轴上移动；或，该第一维度移动机构21’可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211’在7轴上移动，该第二维度移动机构22’可具有轨道以使该第一维度移动机构21’在2轴上移动。
[0034]请参照图3，如图所示，上述的曝光机光源照射强度调整机构中，该移动机构2”可具有第一维度移动机构21”及第二维度移动机构22”，该第一维度移动机构21”及该第二维度移动机构22”的移动方向相互垂直，该光传感器1可借由连接件211”设置于该第一维度移动机构21”，该第二维度移动机构22”可用以设置并移动这些光源91。该第一维度移动机构21”可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211”在X轴上移动，该第二维度移动机构22”可具有轨道以使这些光源91在7轴上移动；或，该第一维度移动机构21”可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211”在X轴上移动，该第二维度移动机构22”可具有轨道以使这些光源91在2轴上移动；或，该第一维度移动机构21”可具有轨道以使该光传感器1及该连接件211”在7轴上移动，该第二维度移动机构22”可具有轨道以使这些光源91在2轴上移动。
[0035]本实用新型在上文中已以较佳实施例揭露，然而本领域技术人员应理解的是，该实施例仅用于描绘本实用新型，而不应解读为限制本实用新型的范围。应注意的是，凡是与该实施例等效的变化与置换，均应设为涵盖于本实用新型的范畴内。因此，本实用新型的保护范围当以权利要求书所限定的内容为准。
【权利要求】
1.一种曝光机光源照射强度调整机构，其特征在于，包含； 光传感器，感测曝光机的多个光源的照射强度； 移动机构，该光传感器设置于该移动机构以相对于这些光源移动；以及 照射强度调整单元，其具有处理单元及存储单元，该光传感器、该移动机构及该存储单元电连接该处理单元，该处理单元电连接这些光源，该存储单元储存这些光源的位置及照射强度值，该处理单元借由这些照射强度值调整这些光源的照射强度至均匀。
2.如权利要求1所述的曝光机光源照射强度调整机构，其特征在于，该移动机构为曝光机的感光基板搬移机台。
3.如权利要求1所述的曝光机光源照射强度调整机构，其特征在于，该移动机构具有相互连接的第一维度移动机构及第二维度移动机构，该第一维度移动机构及该第二维度移动机构的移动方向相互垂直，该光传感器设置于该第一维度移动机构。
4.如权利要求1所述的曝光机光源照射强度调整机构，其特征在于，该移动机构具有第一维度移动机构及第二维度移动机构，该第一维度移动机构及该第二维度移动机构的移动方向相互垂直，该光传感器设置于该第一维度移动机构，该第二维度移动机构设置并移动这些光源。
【文档编号】G03F7/20GK204143154SQ201420586851
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年10月11日 优先权日:2014年10月11日
【发明者】周坤麟, 何立克 申请人:叙丰企业股份有限公司