一种测量套刻误差的装置和方法与流程

文档序号:12905526阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提出了一种测量套刻误差的装置和方法,在装置中增加能够将测量光调整为关于显微物镜光轴中心对称的测量光调整组件,使得测量光经过该套装置后经过套刻测量标记形成正负级次衍射光,并最终在探测器上显示正负级次衍射光的衍射光谱,并且衍射光谱上正级次衍射光和负级次衍射光的光谱互相错开,由控制系统根据该衍射光谱计算套刻误差,这样在光源选择时就可以使用宽波段光源,因此,这种装置和方法测量光波长范围更宽广且可使用任何光斑形状光源,这样获取的测量信号更加丰富,提高了测量精度,光能的利用率较高,对于小尺寸的套刻测量标记也能接收到测量光,因此也适应小尺寸的被测对象,使其更适应于精细化的半导体产品。

技术研发人员:彭博方;陆海亮;王帆
受保护的技术使用者:上海微电子装备(集团)股份有限公司
技术研发日:2016.02.29
技术公布日:2017.11.10
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