本实用新型涉及将薄膜覆于ITO Film和金属软膜表面，通过曝光、显影和蚀刻制作软膜电路，广泛应用触摸屏Senser、精密FPC和软性电池等柔性电子产品应用技术领域，尤其是卷对卷制作双面柔性电子线路上的曝光结构。
背景技术：
近年来，随着材料等基础产业的技术进步，使电路的设计和生产技术获得了较大发展，各种新的设计理念得到了广泛的应用和推广，电子产品的市场趋势皆走向追求轻薄化，使用电路的基材由传统的玻璃、硅晶圆转向薄化玻璃、金属箔与塑胶基板等软性材料取代，亦即现在泛称的软性电子(或可挠式电子)。工艺设备由于应软性材料的不同，需要导入卷对卷 ( RTR ) 的传输设备，制作电子线路具有配线密度高、重量轻、厚度薄的特点。在双面电路板在生产时，需要采用覆膜机将干膜贴合在导电基材表面，然后经紫外光对MASK照射曝光后，见光的干膜分解，在碱性显液中溶解，导电基材表面留下与MASK一样的图案，然后用蚀刻液喷淋导电基材，没有干膜保护的导电层被蚀刻，再除去基材上的残留干膜，使导电电路裸露出来，这是制作电路过程。而现有的是单面导电基板进行单面覆膜机，采用覆膜、曝光、显影、蚀刻和除膜，完成A面导电电路工作，同样方法，用另一卷膜制作B面导电电路，用A、B面导电电路组合在一起形成双面电路，工序繁琐，工作效率低，不良率高。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种双面膜曝光结构，实现双面覆膜曝光，无需翻转重复单面工作，优化工艺，提升工作效率及工作质量。
为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
双面膜曝光结构，该结构具有：
一曝光工位，该曝光工位可实现上下两面曝光；
一上端球面镜和一下端球面镜分别设置在曝光工位的上下端，该上端球面镜将相应地紫外光投射到曝光工位的上表面，而下端球面镜将相应地紫外光投射到曝光工位的下表面。
上述方案进一步是：所述上端球面镜和下端球面镜投射同一光源发出的紫外光，上端球面镜和下端球面镜采用先后投射的工作模式。
上述方案进一步是：在光源和上端球面镜、下端球面镜之间有光学模组导光，光学模组至少包括：反光罩、第一冷镜、第二冷镜、复眼，反光罩收集光源发出的紫外光形成一束光，第一冷镜导引反光罩发出的集束紫外光，通过复眼和第二冷镜投射到上端球面镜，或者通过复眼投射到下端球面镜；第二冷镜设置在复眼与上端球面镜及下端球面镜之间，第二冷镜可以水平移动。
与现有技术对比，本实用新型提供了一种双面膜曝光结构，实现双面膜曝光，无需翻转重复单面曝光工作，优化工艺，提升工作效率及工作质量。结构简单，投资成本低，使用及维护简便，符合产业利用，极大提升机器设备的运行效，以及降低运行成本。
附图说明：
附图1为本实用新型较佳实施例结构示意图。
具体实施方式：
以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
参阅图1所示，系本实用新型的较佳实施例示意图，本实用新型有关一种双面膜曝光结构，该结构具有一曝光工位1，由双面膜曝光结构100上相应工位构造，该曝光工位1可实现上下面曝光，即相应基材上下面覆好感光膜后，水平进入曝光工位1，即可实现上下面曝光，无需翻转重复单面工作，优化工艺，提升工作效率及工作质量。一上端球面镜2和一下端球面镜3分别设置在曝光工位1的上下端，该上端球面镜2将相应地紫外光投射到曝光工位1的上面，而下端球面镜3相应地紫外光投射到曝光工位1的下面，实现双面膜曝光工作。
图1所示，本实施例中，所述上端球面镜2和下端侧球面镜3投射同一光源9发出的紫外光，上端球面镜2和下端球面镜3采用先后投射的工作模式。即曝光工位1的上下面分开曝光，充分利用同一光源9，结构简单，投资成本低。本实施例还进一步地，在光源9和上端球面镜2、下端球面镜3之间有光学模组导光，光学模组至少包括反光罩4、第一冷镜5、复眼7和第二冷镜6。第二冷镜6设置在复眼7与上端球面镜2及下端球面镜3之间，第二冷镜6可以水平移动。工作时，反光罩4收集光源9发出的此紫外光形成一束光，紫外光束经过第一冷镜5时，其中部分红外光透过冷镜5，剩下大部分纯净的紫外光改变方向，反射到复眼7前面的快门8上；当快门8打开，而第二冷镜6移到旁边，紫外光束经过复眼7发散多束光线，投射在下端球面镜3上，反射形成平行光照射在曝光工位1下面，对基材下面的感光干膜进行曝光操作。当第二冷镜6移到中央位置（第二冷镜6移动时快门8先关闭，等移动到位后快门8再打开），紫外光束经过复眼7发散多束光线，投射在第二冷镜6上，再反射上端球面镜2上，形成平行光照射在曝光工位1上面，对基材上面的感光干膜进行曝光操作。同时下端球面镜3停止工作，达到上端球面镜2和下端球面镜3之间切换工作，如此循环。
以上结合实施方式对本实用新型做了详细说明，只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限定本实用新型的保护范围，故凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。