1.一种激光解析离子源激光光路，包括倾斜设置在离子源腔体（1）左上方的激光光纤头调节器（2），所述激光光纤头调节器（2）下方设置有透镜组支架，其特征在于：所述透镜组支架上依次设置有与激光光纤头调节器（2）主光轴同轴的准直用平凸透镜（3）、聚焦用双凸透镜（4）、聚焦用负弯月透镜（5）和聚焦用正弯月透镜（6），使入射光纤（7）直径为0.2mm，入射发散角为24.5度时，聚焦焦点（8）直径达到50～120um，当入射光为1W时，所述聚焦焦点（8）处平均功率密度能够达到160～252W/mm2。
2.根据权利要求1所述的激光解析离子源激光光路，其特征在于：所述准直用平凸透镜（3）的直径为15～35mm，焦距为40～100mm；所述聚焦用双凸透镜（4）的外径为15～35mm，焦距为20～100mm；所述聚焦用负弯月透镜（5）的外径为8～20mm，焦距为-30～-100mm；所述聚焦用正弯月透镜（6）的外径为8～20mm，焦距为20～100mm；聚焦用负弯月透镜（5）和聚焦用正弯月透镜（6）的镜面相贴合，所述入射光纤（7）头部与准直用平凸透镜（3）的间距H1在25～35mm之间，聚焦用正弯月透镜（6）与聚焦焦点（8）的间距H2在25～35mm之间，准直用平凸透镜（3）与聚焦用双凸透镜（4）的间距H3在75～85mm之间，聚焦用双凸透镜（4）与聚焦用正弯月透镜（6）的间距H4在15～25mm之间。
3.根据权利要求1或2所述的激光解析离子源激光光路，其特征在于：位于所述聚焦用双凸透镜（4）和聚焦用负弯月透镜（5）之间、所述聚焦用负弯月透镜（5）和聚焦用正弯月透镜（6）之间的所述离子源腔体（1）壁面上均开设有排气孔（9）。