技术特征：
技术总结
本发明公开了一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法，在光源发出的特定光线的作用下，使得光感涂层在绝缘状态和导电状态之间发生转变，有利于对待曝光基板的固定和分离；同时，通过静电发生器向光感涂层释放静电荷，实现了通过静电吸附的方式固定待曝光基板，且不会出现凸起的分区挡墙；此外，通过将金属台面接地，使得静电荷可以从光感涂层经过金属台面而导出，实现待曝光基板与光感涂层的分离，便于待曝光基板的移开；总之，该曝光机机台既保证了静电的产生和对待曝光基板的吸附，又实现了对已存静电荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因气体负压吸附的方式带来的stage mura，保护了待曝光基板不受破坏，有效提高了待曝光基板的曝光质量。
技术研发人员：孙志义;庞华山;王立夫;武占英
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
技术研发日：2017.06.08
技术公布日：2017.09.29