光学系统的制作方法

本发明涉及一种光学系统，特别涉及一种利用电磁驱动力(electromagneticforce)来移动光学系统内的两个镜头的光学系统。

背景技术：

随着科技的发展，现今许多电子装置(例如相机或智能手机)皆具有照相或录影的功能。通过设置于电子装置上的摄像模块，使用者可以操作电子装置来获取各式各样的照片，使得具有摄像模块的电子装置也逐渐受到大众的喜爱。

近年来，具有两个镜头的摄像模块已逐渐受到大众的喜爱。然而，在现有的双镜头摄像模块中，用来驱动镜头的两个镜头驱动模块(lensdrivingmodule)的位置通常设置的相当靠近，因此会造成设置在不同镜头驱动模块内的磁铁容易产生磁干扰(magneticinterference)的问题，进而使得镜头的对焦速度及准确度受到影响。

因此，如何设计一种可防止不同镜头驱动模块之间产生磁干扰的光学系统，便是现今值得探讨与解决的一个重要课题。

技术实现要素：

有鉴于前述的问题，本发明的一目的在于提供一种具有两个光学元件的光学系统，其可减少两个镜头驱动模块中的磁性元件所产生的磁干扰，由此改善光学系统中的镜头的对焦速度及定位精度。

本发明的实施例公开了一种光学系统，包含一底座、一第一镜头驱动模块以及一第二镜头驱动模块。该第一镜头驱动模块包含一第一镜头承载件、一第一磁铁以及一第一线圈。该第一镜头承载件是用以承载一第一光学元件。该第一线圈是对应于该第一磁铁，用以驱使该第一镜头承载件相对于该底座运动。第二镜头驱动模块包含一第二镜头承载件、一第二磁铁以及一第二线圈。该第二镜头承载件是用以承载一第二光学元件。该第二线圈是对应于该第二磁铁，用以驱使该第二承载件相对于该底座运动。其中，该第一磁铁设置于该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间，且在该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间除了该第一磁铁外并未设置有其他磁铁。

在部分实施例中，该第一磁铁呈长条且朝一第一方向延伸，该第二磁铁呈长条且朝一第二方向延伸，其中该第一方向垂直于该第二方向。

在部分实施例中，该第一镜头承载件与第二镜头承载件沿该第二方向排列。

在部分实施例中，该第一光学元件的直径大于该第二光学元件的直径。

在部分实施例中，该光学系统还包括两个第二磁铁以及两个第二线圈，其中多个所述第二磁铁于该第一方向上的距离或多个所述第二线圈于该第一方向上的距离小于该第一镜头承载件于该第一方向上的宽度。

在部分实施例中，该第一磁铁的位置偏离该第一、第二光学元件的中心连线的中点。

本发明的实施例另公开一光学系统，包含一底座、一第一镜头驱动模块以及一第二镜头驱动模块。该第一镜头驱动模块包含一第一镜头承载件、一第一磁铁以及一第一线圈。该第一镜头承载件是用以承载一第一光学元件。该第一线圈是对应于该第一磁铁，用以驱使该第一承载件相对于该底座运动。第二镜头驱动模块包含一第二镜头承载件以及一第二线圈。该第二镜头承载件是用以承载一第二光学元件。该第二线圈是对应于该第一磁铁，用以驱使该第二镜头承载件相对于该底座运动。其中，该第一磁铁设置于该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间，且在该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间除了该第一磁铁外并未设置有其他磁铁。

本发明的实施例另公开一光学系统，包含一底座、一第一镜头驱动模块以及一第二镜头驱动模块。该第一镜头驱动模块包含一第一镜头承载件、两个第一磁铁以及一第一线圈。该第一镜头承载件是用以承载一第一光学元件。该第一线圈是对应于多个所述第一磁铁，用以驱使该第一镜头承载件相对于该底座运动。第二镜头驱动模块包含一第二镜头承载件、一第二磁铁以及一第二线圈。该第二镜头承载件是用以承载一第二光学元件。该第二线圈是对应于该第二磁铁，用以驱使该第二镜头承载件相对于该底座运动。其中，多个所述第一磁铁设置于该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间，且在该第一镜头承载件与第二镜头承载件之间除了多个所述第一磁铁外并未设置有其他磁铁。

在部分实施例中，多个所述第一磁铁沿一第一方向排列，该第一镜头承载件与第二镜头承载件沿一第二方向排列，且该第一方向垂直于该第二方向。

本发明提供一种光学系统，包含第一镜头驱动模块以及第二镜头驱动模块，其中第一镜头驱动模块中的第一镜头承载件与第二镜头驱动模块中的第二镜头承载件之间仅在x轴方向上的单一位置设置有磁铁，因此可以避免位在第一镜头驱动模块与第二镜头驱动模块之间的不同磁铁产生磁干扰。

于某些实施例中，第一磁铁、第一线圈、第二磁铁以及第二线圈是沿着第二方向排列，并且第一镜头承载件与第二镜头承载件于第一方向上没有设置任何磁铁或线圈，因此可以减少底座的宽度，以达到微型化的目的。

于某些实施例中，第一磁铁是呈长条且朝第一方向延伸，而第二磁铁是呈长条且朝第二方向延伸。因此，此种结构设计可以减少底座的长度，以达到微型化的目的。

另外，于某些实施例中，第一线圈是环绕设置于第一镜头承载件的外围，此种结构设计可以增加生产时的便利性。

本发明中的额外的功能及优点将会在后面说明中揭示，且部分可由后述说明书中清楚了解，或是可由所揭示的原则经由练习而学得。本发明的功能及优点可由后述权利要求中所特别指出的仪器或装置的组合而实现及获得。本发明的这些及其他特点会由后述的说明书及权利要求而变得更清楚、或是可由本发明所公开的原则经由练习而学得。

附图说明

图1为一实施例的光学系统的立体示意图。

图2为显示图1的光学系统的爆炸图。

图3显示沿图1中a-a’线段的剖视图。

图4显示图1的光学系统中的线圈与磁铁的结构配置示意图。

图5显示另一实施例的两镜头驱动模块中的线圈与磁铁的结构配置示意图。

图6显示另一实施例的两镜头驱动模块中的线圈与磁铁的结构配置示意图。

图7显示另一实施例的两镜头驱动模块中的线圈与磁铁的结构配置示意图。

【符号说明】

100光学系统

100a第一镜头驱动模块

100b第二镜头驱动模块

102顶壳

1021顶壳开孔

1022顶壳开孔

104框架

1041第一开口

1042第二开口

1043凹槽

1044凹槽

1045凹槽

106上簧片

106a第一弹性部

106b第二弹性部

108第一镜头承载件

1081第一贯穿孔

110第二镜头承载件

1101第二贯穿孔

112下簧片

112a第三弹性部

112b第四弹性部

114底座

1141底座开孔

1142底座开孔

1143凸柱

c中心线

cl11第一线圈

cl12第一线圈

cl13第一线圈

cl21第二线圈

cl22第二线圈

d1距离

d1直径

d2直径

m11第一磁铁

m12第一磁铁

m13第一磁铁

m21第二磁铁

m22第二磁铁

o1光轴

o2光轴

w宽度

具体实施方式

为了让本公开的目的、特征、及优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图示做详细说明。其中，实施例中的各元件的配置为说明之用，并非用以限制本公开。且实施例中附图附图标记的部分重复，为了简化说明，并非意指不同实施例之间的关联性。以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本公开。

此外，实施例中可能使用相对性的用语，例如“较低”或“底部”及“较高”或“顶部”，以描述图示的一个元件对于另一元件的相对关系。能理解的是，如果将图示的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“较低”侧的元件将会成为在“较高”侧的元件。

在此，“约”、“大约”的用语通常表示在一给定值或范围的20％之内，较佳是10％之内，且更佳是5％之内。在此给定的数量为大约的数量，意即在没有特定说明的情况下，仍可隐含“约”、“大约”的含义。

请参考图1至图3，图1为一实施例的一光学系统100之立体示意图，图2为显示图1的光学系统100的爆炸图，且图3显示沿图1中a-a’线段的剖视图。光学系统100可为具有两个镜头驱动模块(第一镜头驱动模块100a以及第二镜头驱动模块100b)的摄像系统，用以承载两个光学元件(图中未表示)，且光学系统100是可安装于各种电子装置或可携式电子装置，供使用者执行影像获取的功能。于此实施例中，所述两个镜头驱动模块可为具有相同规格并具备自动对焦(af)功能的音圈马达(vcm)，但本发明不以此为限。在一些实施例中，光学系统100的两个镜头驱动模块亦可具有不同规格，并可具备自动对焦(af)及光学防手震(ois)功能。

如图1至图3所示，在本实施例中，光学系统100主要包括有一顶壳102、一框架104、一上簧片106、一第一镜头承载件108、一第一磁铁m11、一第一磁铁m12、一第一线圈cl11、一第一线圈cl12、一第二镜头承载件110、一第二磁铁m21、一第二线圈cl21、一第二线圈cl22、一下簧片112以及一底座114。其中，所述第一镜头承载件108、第一磁铁m11、第一磁铁m12、第一线圈cl11以及第一线圈cl12可组成前述第一镜头驱动模块100a，并且前述第二镜头承载件110、第二磁铁m21、第二线圈cl21以及第二线圈cl22可组成前述第二镜头驱动模块100b。其中，第一镜头承载件108与第二镜头承载件110是分别用以承载一第一光学元件以及一第二光学元件(图中未表示)。再者，第一线圈cl11是对应于第一磁铁m11，第一线圈cl12是对应于第一磁铁m12，第二线圈cl22是对应于第一磁铁m12，且第二线圈cl21是对应于第二磁铁m21。

前述顶壳102具有一中空结构，且其与底座114可相互结合。顶壳102上形成有一顶壳开孔1021以及一顶壳开孔1022，底座114上形成有一底座开孔1141及一底座开孔1142，顶壳开孔1021的中心对应于第一镜头承载件108所承载的前述第一光学元件(图未示)的光轴o1，底座开孔1141则对应于一设置在底座114下方的第一影像感测元件(图未示)；顶壳开孔1022的中心对应于第二镜头承载件110所承载的前述第二光学元件(图未示)的光轴o2，底座开孔1142则对应于一设置在底座114下方的第二影像感测元件(图未示)；据此，第一镜头驱动模块100a以及第二镜头驱动模块100b可分别驱动前述第一光学元件与第二光学元件在光轴o1方向以及光轴o2方向移动以进行对焦。

框架104具有一第一开口1041、一第二开口1042以及多个凹槽，于此实施例中，框架104具有凹槽1043、凹槽1044以及凹槽1045，但凹槽的数量不限于此。第一磁铁m11可对应地设置于凹槽1043，第一磁铁m12可对应地设置于凹槽1044，且第二磁铁m21可对应地设置于凹槽1045。于一些实施例中，第一磁铁m11、第一磁铁m12以及第二磁铁m21的形状可为长条形。

第一镜头承载件108以及第二镜头承载件110分别具有一中空环状结构，并且分别具有一第一贯穿孔1081以及一第二贯穿孔1101，其中第一贯穿孔1081与前述第一光学元件之间配置有对应锁合的螺牙结构(图未示)，可令所述第一光学元件锁固于第一贯穿孔1081内，而第二贯穿孔1101与前述第二光学元件之间配置有对应锁合的螺牙结构(图未示)，可令所述第二光学元件锁固于第二贯穿孔1101内。第一线圈cl11、第一线圈cl12是设置于第一镜头承载件108上，且第二线圈cl21以及第二线圈cl22是设置于第二镜头承载件110上。

在本实施例中，第一镜头承载件108与前述第一光学元件是设置于第一开口1041内并可相对于框架104移动，而第二镜头承载件110与前述第二光学元件是设置于第二开口1042内并可相对于框架104移动。更具体而言，上簧片106具有一第一弹性部106a以及一第二弹性部106b，下簧片112具有一第三弹性部112a以及一第四弹性部112b，第一镜头承载件108可通过第一弹性部106a与第三弹性部112a连接框架104而悬吊于第一开口1041内，而第二镜头承载件110可通过第二弹性部106b以及第四弹性部112b连接框架104而悬吊于第二开口1042内。当一电流被施加至前述第一线圈cl11、第一线圈cl12时，第一线圈cl11及第一线圈cl12可分别与第一磁铁m11、第一磁铁m12的磁场作用而产生一电磁驱动力(electromagneticforce)，由此驱使第一镜头承载件108相对于框架104沿z轴方向移动。同样地，当一电流被施加至前述第二线圈cl21与第二线圈cl22时，第二线圈cl21以及第二线圈cl22可分别与第二磁铁m21以及第一磁铁m12的磁场作用而产生一电磁驱动力(electromagneticforce)，由此驱使第二镜头承载件110相对于框架104沿z轴方向移动。举例而言，前述第一磁铁m11、第一磁铁m12以及第二磁铁m21中可包含至少一个多极磁铁(multipolemagnet)，用以和相对应的线圈进行感应并驱使第一镜头承载件108和第二镜头承载件110分别沿光轴o1方向以及光轴o2方向移动以进行对焦。

应了解的是，于此实施例中，第一弹性部106a与第二弹性部106b为一体成形，且第三弹性部112a与第四弹性部112b为一体成形，但不限于此，例如第一弹性部106a与第二弹性部106b可为分离的两个簧片，而第三弹性部112a与第四弹性部112b可为分离的两个簧片。

如图2所示，底座114形成有六个凸柱1143，用以使框架104结合于底座114，并且上簧片106的外周部分是固定于多个所述凸柱1143上且位于底座114与框架104之间(图3)。再者，第一弹性部106a以及第三弹性部112a的内周部分是分别连接于第一镜头承载件108的上下两侧，使得第一镜头承载件108能以悬吊的方式设置于框架104的第一开口1041内。第二弹性部106b与第四弹性部112b的内周部分是分别连接于第二镜头承载件110的上下两侧，使得第二镜头承载件110能以悬吊的方式设置于框架104的第二开口1042内。

请继续参照图3，在光学系统100中，由于第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b的位置系相当靠近，故若于第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b的相邻侧同时设置第一磁铁以及第二磁铁时，则相邻的第一磁铁与第二磁铁之间容易产生磁干扰(magneticinterference)，进而可能使光学元件的对焦速度及定位精度受到影响。因此，于本实施例中，仅在一第一镜头承载件108与第二镜头承载件110之间设置一个第一磁铁m12，以同时对应第一线圈cl12以及第二线圈cl21，便可避免前述磁干扰的问题。

图4显示图1实施例的光学系统100中的线圈与磁铁的结构配置示意图(为了简明，以下各实施例仅绘示出第一镜头驱动模块100a、第二镜头驱动模块100b以及底座114，以表达其彼此间的相对位置关系)。如图4所示，在光学系统100中，第一、第二光学元件的中心连线的中点可定义有一中心线c，中心线c是平行于y轴方向(第一方向)且位于第一镜头承载件108以及第二镜头承载件110之间。值得注意的是，第一镜头承载件108以及第二镜头承载件110之间仅设置有第一磁铁m12而没有设置其他磁铁，且第一磁铁m12是沿着中心线c设置。

另外，第一镜头承载件108与第二镜头承载件110是沿着x轴方向(第二方向)排列，并且第一方向是垂直于第二方向。如图4所示，第一线圈cl12与第二线圈cl22是设置于第一磁铁m12的相反两侧。第一磁铁m11与第二磁铁m21是位于底座114的相反两侧边，并且相对应的第一线圈cl11以及第二线圈cl21也同样位于底座114的相反的两侧边。意即第一镜头驱动模块100a的磁铁与线圈(第一磁铁m11、m12与第一线圈cl11、cl12)以及第二镜头驱动模块100b的磁铁与线圈(第二线圈cl22、cl21与第二磁铁m21)仅沿着x方向(第二方向)排列。

基于以上结构设计，如图4所示，可以避免第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b之间的磁干扰的问题，从而可确保光学元件的对焦速度以及定位精度。另外，由于第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b的磁铁与线圈仅沿着x方向排列，意即底座114的长侧边上并没有设置任何磁铁或线圈，因此可以缩小底座114于y轴方向上的宽度，以达到光学系统100微型化的目的。

另外，值得注意的是，于另一实施例中，也可仅设置第一线圈cl12、第一磁铁m12以及第二线圈cl22，当第一线圈cl12通电时会与第一磁铁m12感应而产生电磁驱动力来驱动第一镜头承载件108相对于底座114沿z轴方向移动，由此进行自动对焦的功能。当第二线圈cl22通电时也会与第一磁铁m12感应而产生电磁驱动力来驱动第二镜头承载件110相对于底座114沿z轴方向移动，由此进行双镜头的自动对焦功能。

图5显示另一实施例的第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b中的线圈与磁铁的结构配置示意图(图中左侧及右侧的镜头驱动模块分别为第一镜头驱动模块100a及第二镜头驱动模块100b)。如图5所示，第一镜头承载件108与第二镜头承载件110是沿着x轴方向(第二方向)排列。另外，在本实施例中，图5所示的第一镜头承载件108与第二镜头承载件110之间仅具有两个间隔设置的第一磁铁m13而并没有设置其他磁铁，多个所述第一磁铁m13是沿着y轴方向(第一方向)排列。于此实施例中，多个所述第一磁铁m13是沿着中心线c排列，并且每一个第一磁铁m13的长度是短于前述第一磁铁m12或是第二磁铁m21。

基于以上结构设计，如图5所示，由于第一镜头承载件108与第二镜头承载件110之间仅设置有两个沿y轴方向排列的第一磁铁m13，因此可避免磁干扰的问题产生，并且第一线圈cl12与第二线圈cl22是分别与多个所述第一磁铁m13感应而产生电磁驱动力，以分别驱动第一镜头承载件108与第二镜头承载件110沿z轴方向移动。值得注意的是，底座114可更形成有另一凸柱1143，位于第一镜头承载件108与第二镜头承载件110之间，且位于多个所述第一磁铁m13之间，以利于定位多个所述第一磁铁m13。举例来说，多个所述第一磁铁m13可通过粘胶稳定地固定于此凸柱1143，或者是以卡合的方式稳定地固定于此凸柱1143。因此，当光学系统100受到外部物理上的冲击时，此种设计可以承受此冲击并可避免多个所述第一磁铁m13偏离其原有位置。

请参考图6，图6显示另一实施例的第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b中的线圈与磁铁的结构配置示意图(图中左侧及右侧的镜头驱动模块分别为第一镜头驱动模块100a及第二镜头驱动模块100b)。如图6所示，第一镜头驱动模块100a具有第一镜头承载件108、第一磁铁m11、第一线圈cl11、第一线圈cl12以及第一磁铁m12，而第二镜头驱动模块100b具有第二镜头承载件110、第二磁铁m21、第二线圈cl21、第二磁铁m22以及第二线圈cl22。第一磁铁m11与第一磁铁m12呈长条形且朝y轴方向(第一方向)延伸，而第二磁铁m21与第二磁铁m22则是呈长条形且朝x轴方向(第二方向)延伸。

值得注意的是，第一镜头承载件108与第二镜头承载件110是沿着x轴方向(第二方向)排列，并且在第一镜头承载件108与第二镜头承载件110之间仅具有第一磁铁m12而并未设置其他磁铁。第一磁铁m12的设置位置是偏离中心线c，举例来说，于此实施例中，第一、第二光学元件的中心连线的中点定义中心线c，其中第一磁铁m12是偏离中心线c且位于中心线c的右侧。另外，第一磁铁m11与第一磁铁m12是设置于第一镜头承载件108的相反侧，且第一线圈cl11与第一线圈cl12也是设置于第一镜头承载件108的相反侧。当第一线圈cl11与第一线圈cl12通电时，第一线圈cl11以及第一线圈cl12可分别与相对应的第一磁铁m11以及第一磁铁m12感应而产生电磁驱动力，以驱动第一镜头承载件108带动前述第一光学元件相对于底座114移动。

另外，如图6所示，第二磁铁m21与第二磁铁m22是设置于第二镜头承载件110的相反侧，且第二线圈cl21与第二线圈cl22也是设置于第二镜头承载件110的相反侧。需说明的是，本实施例中的第二镜头承载件110a的第二贯穿孔1101的直径d2是小于第一镜头承载件108的第一贯穿孔1081的直径d1，意即前述第一光学元件的直径大于前述第二光学元件的直径。再者，第二线圈cl21与第二线圈cl22于y轴方向(第二方向)上的距离d1是小于第一镜头承载件108于y轴方向(第二方向)上的宽度w。再者，第二磁铁m21与第二磁铁m22于y轴方向上的距离也可小于宽度w。举例来说，第二线圈cl21与第二线圈cl22从x轴方向(第一方向)观察时是与第一镜头承载件108重叠，而第二磁铁m21与第二磁铁m22从x轴方向(第一方向)观察时是与第一镜头承载件108部分重叠。当第二线圈cl21与第二线圈cl22通电时，第二线圈cl21以及第二线圈cl22可分别与相对应的第二磁铁m21以及第二磁铁m22感应而产生电磁驱动力，以驱动第二镜头承载件110以及第二光学元件相对于底座114移动。

要说明的是，第一镜头驱动模块100a的磁铁与线圈(第一磁铁m11、m12与第一线圈cl11、cl12)仅沿着x方向排列，并且第二镜头驱动模块100b的磁铁与线圈(第二磁铁m21、m22与第二线圈cl21、cl22)仅沿着y轴方向排列。因此，第一磁铁m11、m12的中心连线会与第二磁铁m21、m22的中心连线不平行。于此实施例中，第一磁铁m11、m12的中心连线的延伸线是与第二磁铁m21、m22的中心连线相互交叉且垂直。

由于第一镜头驱动模块100a的磁铁与线圈仅沿着x方向排列，并且第二镜头驱动模块100b的磁铁与线圈仅沿着y轴方向排列，因此可以避免第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b之间磁干扰的问题，并且可缩小底座114在x轴方向上的长度以及在y轴方向上的宽度，以达到光学系统100微型化的目的。

请参考图7，图7显示另一实施例的第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b中的线圈与磁铁的结构配置示意图(图中左侧及右侧的镜头驱动模块分别为第一镜头驱动模块100a及第二镜头驱动模块100b)。此实施例与图6的实施例的差异在于：本实施例的第一镜头驱动模块100a包含一第一线圈cl13，其中第一线圈cl13是环绕设置于第一镜头承载件108外围并对应于第一磁铁m11以及第一磁铁m12。通过将第一线圈cl13环绕设置于第一镜头承载件108外围可增加生产的便利性。

相似地，第一镜头驱动模块100a的磁铁与线圈(第一磁铁m11、m12与第一线圈cl13)仅沿着x方向排列，并且第二镜头驱动模块100b的磁铁与线圈(第二磁铁m21、m22与第二线圈cl21、cl22)仅沿着y轴方向排列。因此，第一磁铁m11、m12的中心连线会与第二磁铁m21、m22的中心连线不平行。于此实施例中，第一磁铁m11、m12的中心连线的延伸线是与第二磁铁m21、m22的中心连线相互交叉且垂直。

由于第二磁铁m21与第二磁铁m22并未靠近第一磁铁m12，因此同样可避免多个所述磁铁之间磁干扰的问题，并且此实施例的设计亦可减少底座114于x轴方向上的长度，由此达到机构微型化的目的。

综上所述，本发明提供一种光学系统100，包含第一镜头驱动模块100a以及第二镜头驱动模块100b，其中第一镜头驱动模块100a中的第一镜头承载件108与第二镜头驱动模块100b中的第二镜头承载件110之间仅在x轴方向上的单一位置设置有磁铁，因此可以避免位在第一镜头驱动模块100a与第二镜头驱动模块100b之间的不同磁铁产生磁干扰。

于某些实施例中，第一磁铁、第一线圈、第二磁铁以及第二线圈是沿着x轴方向排列，并且第一镜头承载件108与第二镜头承载件110于y轴方向上没有设置任何磁铁或线圈，因此可以减少底座114的宽度，以达到微型化的目的。

于某些实施例中，第一磁铁是呈长条且朝y轴方向(第一方向)延伸，而第二磁铁是呈长条且朝x轴方向(第二方向)延伸。因此，此种结构设计可以减少底座114的长度，以达到微型化的目的。

另外，于某些实施例中，第一线圈是环绕设置于第一镜头承载件108的外围，此种结构设计可以增加生产时的便利性。

虽然本公开的实施例及其优点已公开如上，但应该了解的是，任何所属技术领域中技术人员，在不脱离本公开的精神和范围内，当可作更动、替代与润饰。此外，本公开的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何所属技术领域中技术人员可从本公开揭示内容中理解现行或未来所发展出的工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本公开使用。因此，本公开的保护范围包括上述工艺、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成个别的实施例，且本公开的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。