技术特征：
技术总结
本发明公开了一种可控周期和方向的干涉光刻系统，光源的光被第一反射镜反射后经扩束滤波准直模块成平行光束，光束经第二、第三反射镜两次反射后传播方向垂直向下，然后被分束镜分成两束等振幅的相干光束。反射光束经第四、第五、第六反射镜三次反射，透射光束经第七、第八反射镜两次反射，最终在基片上会聚并发生干涉。位于基片上方位置的掩模板紧贴着基片，基片放置在工件台上。通过横向移动第六、第八反射镜的位置并调节第六、第八反射镜的角度，使得在基片的z向高度不变的情况下，实现不同角度的干涉。计算机控制系统实现对第六、第八反射镜的水平移动和转动以及对工件台的精密控制。通过本发明可以制备不同周期的像素级阵列偏振光栅。
技术研发人员：彭伏平;严伟;杨帆;李凡星;田鹏;赵立新;胡松
受保护的技术使用者：中国科学院光电技术研究所
技术研发日：2018.08.29
技术公布日：2018.12.11