一种显示面板及其制作方法，以及显示装置与流程

本申请涉及但不限于显示技术领域，尤指一种显示面板及其制作方法，以及显示装置。

背景技术：

随着显示技术的飞速发展，用户对显示装置的视角要求不断提高，随之发展出的广视角显示装置较常规显示装置相比具有更大的观看视角。

常规的显示面板中，彩色滤光片(colorfilter，简称为：cf)中包括滤光单元和用于分隔相邻滤光单元的黑矩阵(blackmatrix，简称为：bm)，bm的设置可以防止像素边缘漏光和混色问题。目前的广视角显示面板，若用户观看的视角过大，例如观看视角远远偏离零度视角，仍然会出存在混色现象。另外，受限于cf中bm的对位精度，也会影响显示面板的观看效果，通常体现为存在漏光现象。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法，以及显示装置，以解决现有广视角显示面板中，由于观看视角过大而导致显示面板出现混色的问题，以及由于bm对位精度较低而导致显示面板漏光的问题。

本发明实施例提供一种显示面板，包括：对盒设置的第一基板和第二基板，以及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的像素阵列层和彩色滤光层；

所述彩色滤光层中包括阵列排布的滤光单元，以及设置于相邻滤光单元之间的黑矩阵，所述黑矩阵包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅和第二方向上平行设置的多条阻光线栅，所述第一方向与所述第二方向垂直。

可选地，如上所述的显示面板中，所述第二基板与所述彩色滤光层贴合设置，所述第二基板位于所述彩色滤光层的出光侧，且所述显示面板为液晶显示lcd面板，所述像素阵列层设置于所述第一基板接近所述第二基板的一侧。

可选地，如上所述的显示面板中，所述第一基板与所述彩色滤光层贴合设置，且所述第一基板位于所述彩色滤光层的出光侧，所述像素阵列层设置于所述彩色滤光层接近所述第二基板的一侧。

可选地，如上所述的显示面板中，所述像素阵列层中设置有与所述黑矩阵中的阻光光栅配合对位的对位标记。

可选地，如上所述的显示面板中，所述黑矩阵还包括：设置于所述第一方向上的阻光线栅与所述第二方向上的阻光线栅交界区域的阻光块。

本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，包括：

形成显示面板的彩色滤光层中阵列排布的滤光单元；

形成位于相邻滤光单元之间的黑矩阵，所述黑矩阵包括第一方向上平行设置的多条第一阻光线栅和第二方向上平行设置的多条第二阻光线栅，所述第一方向与所述第二方向垂直。

可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述彩色滤光层形成于所述显示面板的第二基板上，所述方法还包括：

在所述显示面板的第一基板上形成像素阵列层；

贴合所述第二基板与所述第一基板，并将所述黑矩阵中的阻光线栅作为贴合工艺中所述彩色滤光层与所述像素阵列层的对位标记。

可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述彩色滤光层形成于所述显示面板的第一基板上，所述方法还包括：

在所述彩色滤光层上形成像素阵列层，并将所述黑矩阵中的阻光线栅作为工艺过程中所述像素阵列层与所述彩色滤光层的对位标记。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括：如上述任一项所述的显示面板。

本发明实施例提供的显示面板及其制作方法，以及显示装置，其中显示面板包括对盒设置的第一基板和第二基板，以及设置于第一基板与第二基板之间的像素阵列层和cf层，cf层中包括阵列排布的滤光单元，以及设置于相邻滤光单元之间的黑矩阵，黑矩阵包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅和第二方向上平行设置的多条阻光线栅，其中第一方向与第二方向垂直，上述结构的显示面板中黑矩阵的阻光线栅，可以降低穿过阻光线栅所形成的衍射光线的光强度，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象。本发明提供的显示面板，通过对cf层中黑矩阵的结构进行合理的设计，解决了现有广视角显示面板中，由于观看视角过大，而导致显示面板出现的混色问题，并且降低衍射光线的光强度有利于减轻边缘漏光现象的可见性。另外，本发明实施例提供的显示面板中，cf层中具有的光栅结构的黑矩阵，由于其线栅通常较细且精度较高，实际应用中黑矩阵可以作为cf层140与其它工艺层进行对位的对位标记(mark)，有利于提高显示面板制作过程中的对位精度，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为图1所示实施例提供的显示面板中彩色滤光层的结构示意图；

图3为现有技术的显示面板中一种彩色滤光层的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显示面板中一种彩色滤光层的结构示意图；

图5为一种衍射光栅的结构示意图；

图6为衍射光线的光强度分布的曲线示意图；

图7为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；

图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图；

图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

本发明提供以下几个具体的实施例可以相互结合，对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图2为图1所示实施例提供的显示面板中彩色滤光层的结构示意图。本实施例提供的显示面板100可以包括：对盒设置的第一基板110和第二基板120，以及设置于第一基板110与第二基板120之间的像素阵列层130和彩色滤光层(cf层140)。

其中，cf层140中包括阵列排布的滤光单元141，以及设置于相邻滤光单元141之间的黑矩阵142，黑矩阵142包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅142a和第二方向上平行设置的多条阻光线栅142b，上述第一方向与第二方向垂直(如图2所示)。

本发明实施例的黑矩阵142中的阻光线栅142a和142b，用于降低穿过阻光线栅所形成的衍射光线的光强度。

图1示意出显示面板100在图2所示第一方向上的截面图，图2中示意出cf140中滤光单元141和黑矩阵142的位置关系，以及黑矩阵142的结构。本发明实施例提供的显示面板100可以应用于具有广视角显示要求的显示装置中，例如视角范围在150°到180°之间时，可以认为是广视角，上述角度指视线与显示面板100中垂线的夹角，本发明实施例的显示面板100为自发光型的透明显示面板，例如可以为液晶显示(liquidcrystaldisplay，简称为：lcd)面板、有机电致发光显示(organicelectroluminancedisplay，简称为：oled)面板、微型发光二极管(microlightemittingdiode，简称为：microled)面板，或者其它设置有cf层的显示面板。

需要说明的是，图1可以为图2在第一方向上的截面图，图2中仅示意出滤光单元141和黑矩阵142，以及第一方向上阻光线栅142a和第二方向上阻光线栅142b的位置关系，并不代表上述各结构的比例关系。

图3为现有技术的显示面板中一种彩色滤光层的结构示意图，图4为本发明实施例提供的显示面板中一种彩色滤光层的结构示意图，图3和图4中仅示意出一个滤光单元141和该滤光单元141周边的黑矩阵142。现有技术中，常规显示面板的cf层140中，黑矩阵虽然可以较为有效的防止相邻滤光单元141边缘发生漏光和混色现象；然而，对于广视角的显示面板，由于观看视角的增大，在大视角观看时，由于角度因素到达人眼的光线通过如图3所示黑矩阵142会产生衍射现象，从而形成混色色偏，影响大视角下的观看效果。另外，基于现有技术中黑矩阵对位精度的影响，大视角观看下会存在边缘漏光现象，并且衍射效应加大边缘漏光的可见性。

相比之下，本发明实施例的显示面板100，cf层中黑矩阵142的阻光线栅可以视为衍射光栅，如图5所示，为一种衍射光栅的结构示意图，图5所示衍射光栅200包括多个平行设置的线栅210，相邻线栅210之间的间距为d，衍射光栅的原理为：可以将理想的衍射光栅视为由一组等间距的无限长无限窄狭缝组成，该狭缝即图5中的线栅210，狭缝之间的间距为d，称为光栅常数。当波长为λ的平面波垂直入射于衍射光栅200时，每条狭缝上的点都扮演了次波源的角色；从这些次波源发出的光线沿所有方向传播(即球面波)。由于狭缝为无限长，可以只考虑与狭缝垂直的平面上的情况，即把狭缝简化为该平面上的一排点。则在该平面上沿某一特定方向的光场是由从每条狭缝出射的光相干叠加而成的。在发生干涉时，由于从每条狭缝出射的光的在干涉点的相位都不同，它们之间会部分或全部抵消。

对于衍射光栅200来说，其形成的衍射光线的强度分布是衍射因子和干涉因子的乘积：

p＝d(θ)i(θ)；(1)

其中，d是衍射因子：

上述(2)式和(3)式中，π为圆周率，θ为光线的入射角，d为相邻线栅的间距，λ为光线的波长，a为产生干涉相干光的光栅间距，n为衍射光栅中线栅的数量。

n个线栅的正弦光栅衍射是单缝衍射与多缝干涉的综合效果。

当平面波入射时，发生单缝衍射的光强能量为：

通过(4)式可以得到：

当n很大时，上式可以变为：

上述(5)式和(6)式中，

上述(4)式到(6)式中，为单缝衍射的光强能量，i为虚数格式，π为圆周率，k为玻尔兹曼常数，x1为单位距离的衍射强度，b为单位衍射强度，i0为入射角为0时的干涉因子，i为干涉因子。

根据上述计算结果，得到的衍射光线的强度分布曲线(即为上述n个线栅的正弦光栅衍射的强度分布曲线)如图6所示，为衍射光线的光强度分布的曲线示意图，该光强度分布曲线为单缝衍射与多缝干涉的叠加光强度，衍射光栅中一个光栅周期内(如图5所示的c为一个光栅周期，c为线栅宽度a与间距宽度d之和)，衍射光线在0级和±1级三个谱线的区域达到最强和次强，在其它区域强度非常弱，d的大小可以根据环境光线的拟合波长和产品应用来确定。

针对现有技术中大视角观看显示面板时，由于角度因素光线通过黑矩阵产生衍射现象，从而形成混色现象的问题。基于上述衍射光栅200形成衍射光线的原理，可以根据环境光线的拟合波长和实际产品调整本发明实施例中黑矩阵142中阻光线栅的宽度和相邻线栅之间的间距(d)，使得衍射光线的光强度在图6所示光强度分布曲线图中非0级和非±1级的区域内，而在光强度非常弱的其它区域内，即使得通过光栅结构的黑矩阵142形成的衍射光线的强度降到最低，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象；另外，由于现有技术中黑矩阵对位精度的影响，大视角观看下会存在边缘漏光现象，并且现有黑矩阵产生的衍射效应会加大边缘漏光的可见性，本发明实施例中光栅结构的黑矩阵142降低衍射光线的光强度也就是减弱了衍射效应，从而在一定程度上减弱边缘漏光现象。

本发明实施例提供的显示面板100，包括对盒设置的第一基板110和第二基板120，以及设置于第一基板110与第二基板120之间的像素阵列层130和cf层140，cf层140中包括阵列排布的滤光单元141，以及设置于相邻滤光单元141之间的黑矩阵142，黑矩阵142包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅142a和第二方向上平行设置的多条阻光线栅142b，其中第一方向与第二方向垂直，上述结构的显示面板100中黑矩阵142的阻光线栅142a和142b，可以降低穿过阻光线栅所形成的衍射光线的光强度，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象。本发明提供的显示面板100，通过对cf层140中黑矩阵142的结构进行合理的设计，解决了现有广视角显示面板中，由于观看视角过大，而导致显示面板出现的混色问题。另外，降低衍射光线的光强度有利于减轻边缘漏光现象的可见性。

进一步地，本发明实施例提供的显示面板100中，cf层140中具有的光栅结构的黑矩阵142，由于其线栅通常较细且精度较高，实际应用中黑矩阵142可以作为cf层140与其它工艺层进行对位的对位标记(mark)，有利于提高显示面板100制作过程中的对位精度，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

上述实施例中已经说明，本发明实施例提供的显示面板100可以为具有cf层140的不同类型的显示面板100，例如为lcd面板、oled面板或其他类型的面板。不同类型显示面板的制作步骤和工艺不同，制作cf层140的先后顺序，以及光栅结构的黑矩阵142作为对位标记的使用方式则不同。

在本发明实施例的一种可能的实现方式中，第二基板120与cf层140为贴合设置的，此时，第二基板120位于cf层140的出光侧，且像素阵列层130设置于第一基板110接近第二基板120的一侧，例如为lcd面板，或顶发射型的oled面板。

可选地，在本发明实施例中，当显示面板100为lcd面板时，黑矩阵142中的阻光线栅142a，用于在贴合第二基板120与第一基板110时，作为cf层140与像素阵列层130的对位标记。

对于lcd面板，cf层140中涂布有与像素阵列层130的显示区域一致的色阻膜层，例如为红色、绿色和蓝色(red、green、blue，简称为：rgb)色阻，分别用于形成红色、绿色和蓝色的单色光，这些r、g、b色阻即为滤光单元141，相邻滤光单元141被黑矩阵142分隔开。另外，lcd面板的制作步骤为，在第一基板110上制作像素阵列层130，像素阵列层中具有开口区域，即为可以透射光线的显示区域，在第二基板120上制作cf层140，制作液晶层等常规工艺在此不再赘述，最后可以在贴合第二基板110和第一基板120时，可以通过cf层140中的对位标记(即光栅结构的黑矩阵142)进行准确的对位。由于现有显示面板中cf层的对位标记通常在该层的四个角或边缘区域，对位标记的数量、面积和分布的均匀性都具有较大的局限性，对位时仅能采用数量较少、面积较小、位置特定(分布均匀性较差)的对位标记进行对位，影响了对位精度的准确性；而本发明实施例中cf层140的对位标记为该层中的光栅结构的黑矩阵142，且该光栅结构的黑矩阵142均匀分布于整个cf层140，对位标记的数量、面积和分布的均匀性相比现有cf层中的对位标记都有非常大的提升。因此，较现有显示面板中通过cf层边缘或四个角的对位标记进行对位的方式，本发明实施例中以均匀分布于cf层140中的黑矩阵142作为对位标记，极大的提高了对位精度，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

需要说明的是，对于oled类型的显示面板100，由于各膜层按照从底层到顶层的顺序依次沉积，并通过光刻、刻蚀等工艺制作而成。顶发射型的oled面板曝光时通过膜层间对位标记(mark)进行对位，不需要上下基板(即第一基板110和第二基板120)间的对位，形成黑矩阵142后不需要再与其它膜层进行对位。

在本发明实施例的另一种可能的实现方式中，第一基板110与cf层140为贴合设置的，此时，第一基板110位于cf层140的出光侧，且像素阵列层130设置于cf层140接近第二基板120的一侧，该类型的显示面板例如为底发射型的oled面板；该显示面板100中，黑矩阵142中的阻光线栅142a，用于在形成像素阵列层130时，作为像素阵列层130与cf层140的对位标记。

对于底发射型的oled面板，各膜层按照从底层到顶层的顺序依次沉积，并通过光刻、刻蚀等工艺制作而成，由于cf层140形成与第一基板110之上，即在形成cf层140后制作像素阵列层130，因此，在制作像素阵列层130时，可以将cf层140中光栅结构的黑矩阵142作为像素阵列层130与cf层140的对位标记，从而使得穿过像素阵列层130的开口区域的光线可以准确的照射到对应的滤光单元141上。

可选地，在发明实施例中，像素阵列层130中设置有与黑矩阵142中的阻光光栅进行对位的对位标记。

在实际制作工艺中，进行对位的两个工艺层，例如像素阵列层130和cf层140中均设置有对位标记，从而实现两个工艺层的对位，本发明实施例的像素阵列层130的对位标记，可以采用与光栅结构的黑矩阵142配合使用的结构，即可以根据光栅结构的黑矩阵142专门设计像素阵列层130中的对位标记，也可以采用现有像素阵列层130中的对位标记，都可以实现两个工艺层的对位。

需要说明的是，如图2和图4所示，黑矩阵142中第一方向上的阻光线栅142a与第二方向上的阻光线栅142b具有交界区域143c，由于阻光线栅142a与阻光线栅142b的线栅方向不同、且为垂直方向，若该交界区域143c中仍为阻光线栅142a和/或阻光线栅142b结构的话，则不具有衍射光栅对光线的作用效果，并且会影响其他区域(即黑矩阵142的非交界区域143c)中阻光线栅142a与阻光线栅142b对衍射光线具有降低光强度的作用效果。另外，该交界区域143c在滤光单元141的四个角的边缘位置，在广视角观看下对观看效果的影响较小，因此，该交界区域143c可以设置为阻光块的形状，仅用于阻挡透光相邻滤光单元141之间的光线。

上述实施例中已经说明经过衍射光栅200的光线会发生衍射现象和干涉现象，并且上述实施例已经详细说明如何降低衍射光线的光强度。对于衍射光栅200的多缝干涉来说，具有干涉抵消和干涉加强的两种情况，当从两条相邻线栅210出射的光线到达干涉点的光程差是光线波长的整数倍时，两束光线相位相同，就会发生干涉加强现象，可以通过设置相邻线栅210的间距d，使得干涉光线可以尽可能的抵消掉，从而降低干涉光线的光强度。

本发明实施例提供的显示面板100，采用设计为光栅结构的黑矩阵142，并且通过设置黑矩阵142中相邻阻光线栅之间的间距，来实现降低穿过阻光线栅所形成的衍射光线的光强度的作用效果，同样可以实现降低干涉光线的光强度的作用效果，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象。另外，现有技术中提高两个工艺层之间对位精度的方式的常规措施为：设计和优化已有的对位标记，该对位标记具体指膜层周边或四个角上专门设计的对位标记；本发明实施例还可以将cf层140中光栅结构的黑矩阵142作为对位标记，该黑矩阵142的整个区域都处于可对位状态，不但可以有效的提高对位精度，还减少了设计和优化专用对位标记所需的人力资源，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

基于本发明上述各实施例提供的显示面板100，本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法用于制作本发明上述任一实施例提供的显示面板100。

如图7所示，为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。本发明实施例提供的方法，可以包括如下步骤：

s310，形成显示面板的cf层中阵列排布的滤光单元；

s320，形成位于相邻滤光单元之间的黑矩阵，该黑矩阵包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅和第二方向上平行设置的多条阻光线栅，其中第一方向与第二方向垂直。

在本发明实施例中，可以参照图1和图2，以及图4和图5所示任一实施例提供的显示面板中cf层，以及该cf层中黑矩阵的结构，即该黑矩阵中具有第一方向上平行设置的多条阻光线栅和第二方向上平行设置的多条阻光线栅，且采用本发明实施例提供的制作方法所制作的显示面板为具有该cf层的面板，例如可以为lcd面板、oled面板、microled面板，或者其它设置有cf层的显示面板。

在本发明实施例中，不同类型显示面板的cf层的设置位置可能不同，例如，lcd面板的cf层通常位于上基板接近液晶层的一侧，顶发射型oled面板的cf层位于上基板朝向下基板的一侧，底发射型oled面板的cf层位于下基板朝向上基板的一侧；因此，在显示面板的制作过程中，形成cf层的先后顺序也不同。在cf层的制作过程中，可以采用掩膜板进行图形化处理，例如经过涂胶、曝光、显影和刻蚀工艺，形成cf层中阵列排布的滤光单元，rgb滤光单元采用不同的色阻材料，通常是分别形成的；另外，在形成滤光单元后，相邻滤光单元之间的区域为黑矩阵的填充区域，同样可以采用预先设置的掩膜板进行图形化处理，以形成具有光栅结构的黑矩阵。

参考图4所示本发明所示显示面板的cf层中黑矩阵与图3所示现有显示面板中黑矩阵的结构差异。现有技术中，常规显示面板的cf层中，黑矩阵虽然可以较为有效的防止相邻滤光单元边缘发生漏光和混色现象；然而，对于广视角的显示面板，由于观看视角的增大，在大视角观看时，由于角度因素到达人眼的光线通过如图3所示黑矩阵会产生衍射现象，从而形成混色色偏，影响大视角下的观看效果。采用本发明实施例提供的制作方法形成的显示面板，其中cf层中具有光栅结构的黑矩阵，对经过其形成的衍射光线具有降低光强度的作用效果，上述实施例中已经详细说明衍射光栅对光强度的影响因素，故在此不再赘述，可以通过预先设计相邻阻光线栅之间间距，使得光栅结构的黑矩阵可以实现降低衍射光线的光强度的效果，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象。

本发明实施例提供的显示面板的制作方法，通过形成显示面板的cf层的滤光单元，以及相邻滤光单元之间的黑矩阵，该黑矩阵包括第一方向上平行设置的多条阻光线栅和第二方向上平行设置的多条阻光线栅，其中第一方向与第二方向垂直，并且该黑矩阵中的阻光线栅可以降低穿过阻光线栅所形成的衍射光线的光强度，从而实现了改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色现象。采用本发明提供的制作方法制作出的显示面板，其cf层中黑矩阵为采用预先设计的掩膜板形成的光栅结构，解决了现有广视角显示面板中，由于观看视角过大，而导致显示面板出现的混色问题。另外，降低衍射光线的光强度有利于减轻边缘漏光现象的可见性。

进一步地，本发明实施例提供的显示面板的制作方法中，形成的cf层中具有的光栅结构的黑矩阵142，由于其线栅通常较细且精度较高，实际应用中黑矩阵可以作为cf层与其它工艺层进行对位的对位标记，有利于提高显示面板制作过程中的对位精度，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

上述实施例中已经说明，采用本发明实施例提供的制作方法制作的显示面板可以为具有cf层的不同类型的显示面板，例如为lcd面板、oled面板或其他类型的面板。不同类型显示面板的制作步骤和工艺不同，制作cf层的先后顺序，以及光栅结构的黑矩阵作为对位标记的使用方式则不同。

可选地，图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。本发明实施例提供的方法中，cf层形成于显示面板的第二基板上，在图7所示流程的基础上，本发明实施例在s310之前还可以包括：

s300，在显示面板的第一基板上形成像素阵列层；

本发明实施例在s320之前还可以包括：

s330，贴合第二基板与第一基板，并将黑矩阵中的阻光线栅作为贴合工艺中cf层与像素阵列层的对位标记。

本发明实施例中制作的显示面板例如为lcd面板，该类型面板的像素阵列层形成与第一基板(即显示面板的下基板)上，像素阵列层中具有开口区域，即为可以透射光线的显示区域，cf层形成于第二基板(即显示面板的上基板)上，像素阵列层的出光侧还可以形成有液晶层以及保护层等，在制作完成第二基板上形成的cf层后，可以将第二基板与第一基板进行贴合完成显示面板的制作，贴合工艺过程中，由于第二基板与第一基板通常没有对位标记，采用第二基板上cf层的对位标记(即光栅结构的黑矩阵)与第一基板上像素阵列层的对位标记进行对位，基于黑矩阵的结构可以实现高精度的对位，从而改善了现有显示面板中黑矩阵的边缘漏光问题。

可选地，图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。本发明实施例提供的方法中，cf层形成于显示面板的第一基板上，在图7所示流程的基础上，本发明实施例在s320之后还可以包括：

s340，在cf层上形成像素阵列层，并将黑矩阵中的阻光线栅作为工艺过程中像素阵列层与cf层的对位标记。

本发明实施例中制作的显示面板例如为底发射型的oled面板，各膜层按照从底层到顶层的顺序依次沉积，该类型面板的cf层形成与第一基板(即显示面板的下基板)上，即在形成cf层后制作像素阵列层，因此，在制作像素阵列层时，可以将cf层中光栅结构的黑矩阵作为像素阵列层与cf层的对位标记，从而使得穿过像素阵列层的开口区域的光线可以准确的照射到cf对应的滤光单元上。

可选地，在发明实施例中，像素阵列层中设置有与黑矩阵中的阻光光栅进行对位的对位标记。

在实际制作工艺中，进行对位的两个工艺层，例如像素阵列层和cf层0中均设置有对位标记，从而实现两个工艺层的对位，本发明实施例的像素阵列层的对位标记，可以采用与光栅结构的黑矩阵配合使用的结构，即可以根据光栅结构的黑矩阵专门设计像素阵列层中的对位标记，也可以采用现有像素阵列层中的对位标记，都可以实现两个工艺层的对位。

需要说明的是，采用本发明实施例提供的制作方法制作出的显示面板中，cf层的黑矩阵的具体结构与上述各实施例相同，例如黑矩阵中第一方向上的阻光线栅与第二方向上的阻光线栅具有交界区域，且该交界区域为阻光块的形状，其原因和作用效果在上述实施例中已经详细描述，故在此不再赘述。

基于本发明上述各实施例提供的显示面板100，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括本发明上述任一实施例提供的显示面板100。该显示装置同样可以为lcd显示装置、oled显示装置或具有cf层的其它类型的显示装置。基于上述实施例提供的显示面板100的技术效果，本发明实施例提供的显示装置同样可以改善现有广视角显示面板中黑矩阵的混色和边缘漏光现象。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。