光刻机光源装置的制作方法

本实用新型涉及曝光机技术领域，尤其涉及一种光刻机光源装置。

背景技术：

光刻是制作半导体的关键制程，决定了线路的精密度。光刻(Iithography) 设备是一种投影系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成。在半导体制作过程中，光刻设备会投射光束，穿过印着图案的掩模及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上；通过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路；此制程被一再重复，就能将数以十亿计的MOSFET或其他晶体管，建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路。

半导体制程越先进，光刻设备便需要越精密复杂，包括高频率的激光光源、光掩模的对位精度、设备稳定度等等，集合了许多领域的最尖端技术。因此光刻机被誉为半导体产业皇冠上的明珠，具有高度的技术与资金门槛。

现有的光刻设备的光源装置发出的光的光斑分散且光斑之间相互覆盖，导致能量分散，影响光刻精度；且光束方向难以进行微调，影响光刻精度。

技术实现要素：

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种光刻机光源装置，以使提高光刻精度。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种光刻机光源装置，包括光源安装架，光源安装架上设有多块光源单元板，所述光源单元板包括基板及多个UV LED光源，基板上开设有多个螺孔，基板通过螺丝固定于光源安装架上；UV LED光源包括UV LED灯芯及对应的透镜，透镜穿设于光源安装架上且透镜与光源安装架之间垫设有橡胶圈，所述透镜的透光角度小于2.5度， UV LED灯芯设于基板正面上对应透镜的焦点处。

进一步地，所述多块光源单元板上的UV LED光源呈至少一组多行等距排列。

进一步地，所述每个光源单元板包括12个且组成4*3矩阵的UV LED光源。

进一步地，所述UV LED灯芯的光波长范围为250nm-450nm。

进一步地，所述基板为铝基板。

进一步地，还包括散热片，所述散热片贴设于基板的背面。

本实用新型实施例通过提出一种光刻机光源装置，包括光源安装架以及多块光源单元板，通过将整个UV LED光源分别设于多块光源单元板上进行安装同时采用多个螺丝调整光源单元板进而对光源单元板上各个透镜的角度进行微调，解决了光束方向难以微调以及光斑分散的问题，进而提高了光刻精度。

附图说明

图1是本实用新型实施例的光刻机光源装置的正面结构图。

图2是本实用新型实施例的光刻机光源装置的立体结构图。

图3是本实用新型实施例的光刻机光源装置的侧视图。

附图标号说明

光源安装架10

螺孔11

光源单元板20

基板21

UV LED灯芯22

透镜23

散热片30。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合，下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

本实用新型实施例中若有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……) 仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中若涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

请参照图1～图3，本实用新型实施例的光刻机光源装置主要包括光源安装架10、光源单元板20。

光源安装架10上设有多块光源单元板20。光源单元板20包括基板21及多个UV LED光源。基板21上开设有多个螺孔11，基板21通过螺丝固定于光源安装架10上。用户可通过松紧螺丝来调节基板21各个部位与光源安装架10的距离，从而进行透镜23的角度方向的微调，进而调整透镜23的出光方向(光束方向)以及光斑大小。

UV LED光源包括UV LED灯芯22及对应的透镜23。透镜23穿设于光源安装架10上且透镜23与光源安装架10之间垫设有橡胶圈。橡胶圈套与透镜23 外圈与光源安装架10进行接触，利用橡胶圈的弹性，固定透镜23的同时便于调整透镜23。

透镜23的透光角度小于2.5度，UV LED灯芯22设于基板21正面上对应透镜23的焦点处。小透光角度的透镜23使UV LED灯芯22发出的光束更加集中，光斑更小、能量更均匀，进而提高光刻精度。

作为一种实施方式，多块光源单元板20上的UV LED光源呈至少一组多行等距排列。优选地，透镜23的排列方式是先排成错位的透镜23矩阵，然后再依据曝光台面的大小排成面阵的阵列，通过本光刻机光源装置应用到的光刻设备，在光源的角度，曝光均匀性，以及曝光材料对光源特性的要求上都有极大的提高；即透镜23的直径为K为相邻两行同一列的UV LED光源的中心距离之差，所述透镜23排列构成透镜23矩阵，所述透镜23矩阵的行数为L，所述光刻机光源装置与待曝光件构成相对纵向移动。

作为一种实施方式，每个光源单元板20均包括12个且组成4*3矩阵的UV LED光源。每个光源单元板20越大，调节光束方向的速度越快，精度越低；反之，光源单元板20越小，调节光束方向的速度越慢，精度越高。本实用新型实施例的光源单元板20通过采用4*3的单元矩阵，兼顾调整效率的同时提高精度。

作为一种实施方式，UV LED灯芯22的光波长范围为250nm-450nm。

作为一种实施方式，基板21为铝基板21。铝基板21的散热性更好，能够迅速转移UV LED灯芯22所释放的热量。

作为一种实施方式，光刻机光源装置还包括散热片30，所述散热片30贴设于基板21的背面。散热片30用于散去基板21上的热量。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同范围限定。