一种用于激光器的分光器的制作方法

文档序号:16768666发布日期:2019-01-29 18:09阅读:847来源:国知局
一种用于激光器的分光器的制作方法

本实用新型涉及光学设备技术领域,具体涉及一种用于激光器的分光器。



背景技术:

激光器是一种能发射激光的装置。按工作介质分,激光器可分为气体激光器、固体激光器、半导体激光器和染料激光器4大类。在激光加工领域中,因为激光器的造价昂贵及现场的空间有限,往往只有1-2台激光器同时使用,使用成本高,生产效率受到一定的限制;因此在使用激光器时大部分都会配合分光器使用,然而传统的分光器传出的光线不能改变方向,方向比较单一,使用起来不够灵活。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种用于激光器的分光器,用以解决现有分光器传播光线时方向比较单一的问题。

为实现上述目的,本实用新型的技术方案为一种用于激光器的分光器,包括壳体和PLC控制器,所述壳体一端设有入射狭缝,另一端设有出射狭缝;所述壳体内靠近所述入射狭缝出口处设有固定在所述壳体内壁的第一反光镜;

所述壳体底端内壁设有凹面镜;所述凹面镜上方设有与所述壳体内壁固定连接的光栅;

靠近所述出射狭缝入口处设有第二反光镜,所述第二反光镜连接有第一转动装置;所述出射狭缝连接有第二转动装置;所述壳体与所述出射狭缝连接处设有所述供出射狭缝活动的空间。

进一步的,所述活动空间正截面呈漏斗形结构。

进一步的,所述第一转动装置包括与所述壳体内壁固定连接的支座;所述支座底端设有与所述PLC控制器电连接的第一电动转轴;所述第一电动转轴通过连接件连接有固定架;所述固定架底端与所述第二反光镜固定连接。

进一步的,所述第二转动装置包括一端与所述出射狭缝一侧转动连接的第一转轴,另一端与所述活动空间内壁转动连接;所述出射狭缝另一侧连接有与所述PLC控制器电连接的第二电动转轴,所述第二电动转轴另一端与所述活动空间内壁连接。

本实用新型方法具有如下优点:本实用新型提供的一种用于激光器的分光器,在使用时既能够保证原有的能量分光,能够能够根据需要改变光线方向,提高了设备使用的灵活性,同时提高了工作效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例1提供的一种用于激光器的分光器的整体正视剖面结构示意图;

图2为本实用新型实施例2提供的一种用于激光器的分光器的第一转动装置结构示意图;

图3为本实用新型实施例3提供的一种用于激光器的分光器的整体俯视剖面结构示意图。

具体实施方式

以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

实施例1

本实用新型实施例1提供的一种用于激光器的分光器,请参阅图1所示,包括壳体1和PLC控制器,所述壳体1一端设有入射狭缝2,另一端设有出射狭缝6;所述壳体1内靠近所述入射狭缝2出口处设有固定在所述壳体1内壁的第一反光镜3;

所述壳体1底端内壁设有凹面镜8;所述凹面镜8上方设有与所述壳体1内壁固定连接的光栅7;

靠近所述出射狭缝6入口处设有第二反光镜5,所述第二反光镜5连接有第一转动装置4;所述出射狭缝6连接有第二转动装置;所述壳体1与所述出射狭缝6连接处设有所述供出射狭缝6活动的空间11。

使用时,激光器发出光线,光光线通过入射狭缝2射到第一反光镜3上,再由第一反光镜3将光线反射到凹面镜8上;凹面镜8接收光线后,将光反射到光栅7上;光栅17接收到光线后,将光线分光,分光后的光线再反射到凹面8上;最后凹面镜8再次将分光后的光线聚焦并反射到出射狭缝6附近的第二反光镜5上,由第二反光镜5反射并通过出射狭缝6输出;并且可以根据使用情况,通过PLC控制器控制第一转动装置4,从而控制第一反光镜3的光线反射角度,通过PLC控制器控制第二转动装置,从而控制出射狭缝6的角度,达到光线顺利射出的目的。

需要说明的是,为了达到让出射狭缝6更好的活动效果,所述活动空间11正截面呈漏斗形结构。

实施例2

本实用新型实施例2提供的一种用于激光器的分光器与实施例1基本相同,区别在于,请参阅图2所示,为了达到更好的控制第二反光镜5反光角度的目的,所述第一转动装置4包括与所述壳体1内壁固定连接的支座41;所述支座41底端设有与所述PLC控制器电连接的第一电动转轴42;所述第一电动转轴42通过连接件43连接有固定架44;所述固定架44底端与所述第二反光镜5固定连接。

实施例3

本实用新型实施例3提供的一种用于激光器的分光器与实施例2基本相同,区别在于,请参阅图3所示,为了达到使出射狭缝6更好的输出光线的目的,所述第二转动装置包括一端与所述出射狭缝6一侧转动连接的第一转轴9,另一端与所述活动空间11内壁转动连接;所述出射狭缝6另一侧连接有与所述PLC控制器电连接的第二电动转轴10,所述第二电动转轴10另一端与所述活动空间11内壁连接。

虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施例对本实用新型作了详尽的描述,但在本实用新型基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本实用新型精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本实用新型要求保护的范围。

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