一种能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层的制作方法

本实用新型涉及光栅复制技术领域，具体地说是一种能够提高一级衍射效率且衍射效率稳定性的膜层。

背景技术：

光栅作为精密测量的一种工具，可用于位移测量、转角测量、光学三违测量、温度测量等，由于它本身具有的优点，已在精密仪器、坐标测量、精确定位等多个领域得到了广泛的应用。

衍射光栅，通常简称为“光栅”，一种由密集、等间距平行刻线构成的非常重要的光学器件。光栅在光学系统中起分光作用的关键元件，通常被称作科学分析仪器的心脏，其精度要求极高，性能稳定、分辨率高、角色散高、而且随波长的变化极小所以在各种科学分析仪器中得到广泛的应用。它利用多缝衍射和干涉作用，将射到光栅上的光束按波长的不同进行色散，再经成像镜聚焦而形成光谱。衍射光栅通过把衍射光的能量集中到某一个设定的级次和波长上，使得在这个级次和波长上的衍射效率最大，它的杂散光和鬼线强度都很低，这对提高科学分析仪器的灵敏度和检出限起到十分重要的作用。

衍射光栅的精度要求极高，很难制造，因此需要在原刻光栅（光栅母板）的基础上复制光栅。复制属精密技术，工艺原理是利用真空镀膜法在原刻光栅（光栅母板）上镀一薄层硅油和一层铝膜，用胶粘剂将它牢固地粘接在复制基板的基板玻璃上，再用分离工具将两片玻璃分开，基板玻璃上便得到了和原刻光栅有相同条纹数的光栅膜层，即为复制光栅。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种能够提高一级衍射效率且衍射效率稳定的膜层。

本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：

一种能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层，包括夹在光栅母板和复制基板之间的硅油膜和铝膜，其特征在于：所述的硅油膜上覆盖有三氧化二铝厚膜，所述的三氧化二铝厚膜上覆盖有氟化镁膜，所述的氟化镁膜上覆盖有铝膜，所述的铝膜上覆盖三氧化二铝薄膜。

所述硅油膜的厚度为6nm～9nm，所述三氧化二铝厚膜的厚度为12nm～14nm，所述氟化镁膜的厚度为15nm～20nm，所述铝膜的厚度为80nm～100nm，所述三氧化二铝薄膜的厚度为5nm～7nm。

所述的膜层能够使得复制平面光栅在闪耀波长250nm处的一级衍射效率＞70%。

本实用新型相比现有技术有如下优点：

本实用新型通过在光栅母板和复制基板之间设置五个膜层，且调整不同膜层的厚度，使得复制出来的平面衍射光栅在闪耀波长250nm处一级衍射效率＞70%，且一年内250nm处一级衍射效率无明显下降，衍射效率稳定性大大提高。

附图说明

附图1是本实用新型的膜层夹在光栅母板和复制基板之间的结构示意图。

其中：1—光栅母板；2—硅油膜；3—三氧化二铝厚膜；4—氟化镁膜；5—铝膜；6—三氧化二铝薄膜；7—复制基板。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示：一种能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层，包括夹在光栅母板1和复制基板7之间的硅油膜2和铝膜5，在厚度为6nm～9nm的硅油膜2上覆盖有厚度为12nm～14nm的三氧化二铝厚膜3，在三氧化二铝厚膜3上覆盖有厚度为15nm～20nm的氟化镁膜4，在氟化镁膜4上覆盖有厚度为80nm～100nm的铝膜5，在铝膜5上覆盖厚度为5nm～7nm的三氧化二铝薄膜6。上述膜层中，硅油膜2的作用是使光栅母板1与镀有其它膜层的复制基板7顺利分离，其它各膜层相互配合能够使得复制平面光栅在闪耀波长250nm处的一级衍射效率＞70%，且一年内250nm处一级衍射效率无明显下降。

本实用新型通过在在光栅母板和复制基板之间设置五个膜层，且调整不同膜层的厚度，使得复制出来的平面衍射光栅在闪耀波长250nm处一级衍射效率＞70%，且一年内250nm处一级衍射效率无明显下降，衍射效率稳定性大大提高。

以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内；本实用新型未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。