一种连续曝光装置的制作方法

本实用新型涉及电子印刷技术领域，更具体地说，它涉及一种连续曝光装置。

背景技术：

需曝光的材料是在特定的基材上印上一层油墨，基材一般为纸材或塑料片材，印刷的油墨是感光油墨，在特点波长的光源照射下会发生固化化学反应，油墨可以牢固的固定印刷基材上。光线穿过菲林遮光底片在感光油墨上形成所需的图形，完成曝光。

传统的曝光装置都是间歇曝光，工作件与菲林相对位置紧贴，针对片张表面的油墨进行曝光，每次曝光前需要做以下动作：1、曝光基材传送到曝光位置，套准位置，停住保持在位置上；2、抽真空，让曝光基材和菲林遮光底片紧密贴合，两者之间没有空气；3、快门打开一次，让UV灯灯光穿过菲林在需曝光基材上形成特定图案的照射；4、真空解除，传送走曝光基材，传送下一个基材并重复整个环节。

传统的曝光装置是固定的，基材无法连续传送，极大影响曝光速度，降低生产效率。

技术实现要素：

针对现有的技术问题，本实用新型提供一种连续曝光装置，通过采用不停转动的菲林遮光底片和连续传送的基材，以解决上述问题，其具有曝光速度快、生产效率高的优点。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种连续曝光装置，包括机架，透光的滚筒，设置在滚筒中心的同心轴，以及固定在同心轴上的发光装置，所述同心轴的两端穿过滚筒并固定在机架上；

所述滚筒的外表面设置有曝光图案，所述滚筒的一端设置有驱动其做高速转动的驱动装置。

通过采用上述技术方案，需要曝光的基材与滚筒外表面通过张力贴紧，基材的通过传输装置使其随着滚筒转动一起运动，基材与滚筒贴合无间隙，用张力代替传统的抽真空，省去了抽真空的步骤，提高曝光效率；同心轴上的发光装置对基材连续曝光，无需反复开关快门，达到不停机连续曝光基材的效果，曝光速度快，生产效率高。

进一步的，所述曝光图案为柔性的菲林遮光底片。

通过采用上述技术方案，曝光图案采用柔性的菲林遮光底片，其可以弯曲覆盖在滚筒外表面。

进一步的，所述滚筒外表面设置有固定框，所述菲林遮光底片通过固定框固定在滚筒外表面。

通过采用上述技术方案，通过固定框，达到将菲林遮光底片固定在滚筒外表面的效果，菲林遮光底片上预先完成曝光图案，提高后续基材曝光速度。

进一步的，所述驱动装置包括滚动轴承、齿轮和驱动电机，所述齿轮固定在滚筒的一端，所述驱动电机的转轴和齿轮啮合，所述滚动轴承固定在齿轮的中心，所述同心轴穿过滚动轴承内圈并与滚动轴承的内圈固定连接。

通过采用上述技术方案，同心轴通过滚动轴承固定在机架上，驱动电机带动滚筒高速转动，同心轴固定，相应的，同心轴上的发光装置固定，其不随滚筒转动而转动或发生晃动，结构稳定。

进一步的，所述发光装置的外侧设置有用于减少无用光源干扰的保护罩。

通过采用上述技术方案，保护罩设置在发光装置外侧，其可减少散射光源的干扰，使光源直射穿过滚筒表面并对基材进行曝光。

进一步的，所述发光装置包括LED灯和凸透镜，所述LED灯固定设置在同心轴上，所述凸透镜设置在LED灯和滚筒之间，所述LED灯发出的光透过凸透镜垂直穿过滚筒表面。

通过采用上述技术方案，LED灯为点光源，配合凸透镜，凸透镜将LED散发出来的光这射成所需的线性光源，免去使用UV等以及反射罩等辅助光学器材产生的光源污染，结构简单，成本较低。

进一步的，所述发光装置包括可发射线型光源的卤素灯。

通过采用上述技术方案，采用卤素灯，其直接发射线性光源，在保护罩的作用下，控制光线的照射方向，免去使用UV等以及反射罩等辅助光学器材产生的光源污染，结构简单，成本较低。

进一步的，所述滚筒设置为两个。

通过采用上述技术方案，将滚筒设置为两个，基材呈“S”形缠绕在两个滚筒之间并进行绷紧，可对基材的两面进行同步曝光，曝光效率较高，提高生产效率。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）通过设置转动的滚筒，需要曝光的基材通过张力紧贴在滚筒表面并随着滚筒转动而运动，无需抽放真空装置对其进行抽放真空，节约成本，提高曝光速度；

（2）通过设置LED灯和与其适配的凸透镜，达到对基材进行连续曝光的效果，无需曝光快门，并且基材传送速度恒定，无需停住，曝光速度快，提高了生产效率。

（3）本实用新型使得光线与工作面垂直，可控制曝光的时间，以及减少散射造成的图形误差。

附图说明

图1为本实用新型中曝光装置的整体示意图；

图2为实施例一中滚筒的剖视图；

图3为图2中A部放大图；

图4为实施例二中滚筒的剖视图；

图5为图4中B部放大图。

附图标记：1、机架；2、滚筒；3、同心轴；4、曝光图案；5、固定框；6、滚动轴承；7、齿轮；8、驱动电机；9、保护罩；10、LED灯；11、凸透镜；12、卤素灯。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底面”和“顶面”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

实施例一：

如图1和图2所示，一种连续曝光装置，包括机架1，一个透光的滚筒2，设置在滚筒2中心的同心轴3（如图3所示），以及固定在同心轴3上的发光装置，同心轴3的两端穿过滚筒2并固定在机架1上；滚筒2的一端设置有驱动其做高速转动的驱动装置，其包括滚动轴承6、齿轮7和驱动电机8，齿轮7固定在滚筒2的一端，驱动电机8的转轴和齿轮7啮合，滚动轴承6固定在齿轮7的中心，同心轴3穿过滚动轴承6内圈并与滚动轴承6的内圈固定连接。需曝光的基材由传送装置传送（图中未示出）并通过张力紧贴在滚筒2表现，基材传送速度和滚筒2表面的线速度相同，滚筒2内部的发光装置可对基材进行连续曝光，曝光速度较快，生产效率较高。

滚筒2的外表面设置有曝光图案4，曝光图案4为柔性的菲林遮光底片，菲林遮光底片弯曲覆盖在滚筒2的外表面。滚筒2外表面设置有固定框5，菲林遮光底片通过固定框5固定在滚筒2外表面。菲林遮光底片通过固定框5固定在滚筒2表面，方便不同菲林遮光底片的更换，结构简单，操作方便。

如图2和图3所示，发光装置的外侧设置有用于减少无用光源干扰的保护罩9。发光装置包括LED灯10和凸透镜11，LED灯10固定设置在同心轴3上，凸透镜11设置在LED灯10和滚筒2之间，LED灯10发出的光透过凸透镜11垂直穿过滚筒2表面并对滚筒2表面的基材进行曝光。

实施例一的工作过程和有益效果如下：

连续曝光装置的构造简单，无需曝光快门和抽放真空装置，提高曝光的速度；并且需要曝光的基材传送速度恒定，曝光后无需停住，可实现连续曝光，极大地提高了曝光速度以及生产效率。

实施例二：

如图4和图5所示，一种连续曝光装置，与实施例一的不同之处在于，发光装置包括可发射线型光源的卤素灯12，卤素灯12固定设置在同心轴3上，其发射的光直射穿过滚筒2表面并对滚筒2表面的基材进行曝光。

实施例二的工作过程和有益效果如下：

通过设置卤素灯12，其替代传统的UV灯和反射罩，可避免产生光源污染，提高曝光基材的合格率。

实施例三：

如图1所示，一种连续曝光装置，与实施例一和实施例二的不同之处在于，滚筒2设置为两个，两个滚筒2并列设置在机架1上，需曝光的基材依次通过两个滚筒2并利用张力紧贴滚筒2。

实施例三的工作过程和有益效果如下：

通过设置两个滚筒2，需曝光的基材依次通过滚筒2，滚筒2分别设置在基材的两面，两个滚筒2可对基材的两面进行同步曝光，提高曝光速度和生产效率。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。