包括具有漫射体元件的光波导的照射系统以及用于至少部分地或分区段地生产和/或构造漫射体基体的方法与流程

本发明涉及一种照射系统，特别是用于医疗和/或诊断系统的照射系统，并且涉及一种用于生产特别是用于照射系统的漫射体基体的方法，并且还涉及一种用于至少部分地或分区段地构造漫射体基体的方法，特别是用于调整侧向发射的强度分布的方法。
背景技术：
：这样的照射系统越来越多地用于医学领域。目前主要的应用领域可以归类为：·用于肿瘤治疗的光动力疗法(pdt)；·用于治疗静脉曲张的静脉激光治疗(evlt)；·激光诱导间质热疗法(litt)；和·其它应用，例如在牙科、眼科和皮肤病学领域。光动力疗法(pdt)是针对各种癌症的微创疗法选项。pdt是一种将光与可以被光激活的物质结合使用来治疗肿瘤和其它组织改变(例如血管生成)的程序。在治疗开始时，患者接受光敏物质(称为光敏剂)的静脉内注射，该光敏物质累积在癌细胞内或癌细胞上。这些天然光性物质(photosubstance)聚集在肿瘤细胞中，并且在那里对光产生强敏感性。为此，在pdt治疗期间使用多个针(通常高达8个)刺穿肿瘤组织，并且将具有漫射体元件的光波导引入其中的每一个中。漫射体元件需要在肿瘤组织上尽可能良好地在空间上分布。经由光波导将通常具有在可见光谱范围内的波长的激光(例如，532nm的绿色光或690nm波长的红色光)注入漫射体元件中，使得尽可能均匀地从内部辐照肿瘤组织，借此在这些细胞中产生侵蚀性的氧自由基，该氧自由基选择性破坏肿瘤细胞。与患病的细胞相比，健康的细胞不受此化学反应影响。确切的作用机制尤其在“癌症的光动力疗法”(《癌症医学》，2003年)中加以描述。在这里区分了典型有效长度为10到50mm的圆柱形漫射体、产生前向发光锥的斑漫射体与表现出径向光发射的点漫射体。在圆柱形漫射体的情况下，特别重要的是，漫射体元件的侧向发射在其操作状态下在长度上尽可能地均匀。在轴向上及径向上都应如此，即在轴向上，在均匀性要求的范围内，在沿着每条在纵向轴线方向上从近端到远端的线的所有点处的发射强度一致，而在径向上，在均匀性要求的范围内，在沿着每条沿纵向轴线的圆周线的所有点处的发射强度也一致，因此这些漫射体实质上用作朗伯辐射体(lambertianradiators)。同时，必须实现高散射效率，从而确保尽可能低的热量输入到组织中。侧向发射的典型均匀性要求指定与平均强度的最大偏差为±10％到20％，同时向前发射(特别是从远端发射)应避免大于注入光的10％、通常大于5％。用于pdt应用的激光输出功率通常是小于5w的连续功率，使得每厘米漫射体长度发射的最大功率在100mw与1000mw之间，通常在200mw与500mw之间。当前，这允许使用基于塑料的漫射体实施方案。现有的实例是由细的硅酮圆柱体制成的漫射体元件，其中嵌入有二氧化钛纳米粒子形式的散射粒子。文献de10129029a1描述了一种柔性装置，该柔性装置用于通过经由光波导的激光辐射来热清除生物组织，该光波导的远端由护套围绕，该护套对激光辐射透明并且突出超过纤维端并且在其位于纤维端前部的体积中填充有硅酮母体，在该位于纤维端前部的体积中嵌入有散射粒子，其中直径为几纳米的非散射粒子(优选地由二氧化硅制成)混入优选由硅酮制成的塑料母体中，浓度范围优选地为1％到10％，并且其中护套的远端由对激光辐射透明或不透明的端件密封。然而，具有足够发射均匀性的漫射体制造非常复杂且昂贵。散射粒子的团块经常形成强度显著高于平均值的发射斑。此类带有漫射体元件的光波导通常仅使用一次，并且在每次治疗之后被丢弃。因此，在制造成本上也存在一定的成本压力。因此，越来越多地考虑可重用的解决方案。此类解决方案由此必须允许按照相关的已知标准进行翻新，即它们必须是可消毒的和/或可灭菌的。此处应提及的制备过程包含尤其是利用强碱性溶液的清洁和消毒过程以及在高达135℃的温度和约3巴的典型蒸汽压力下通过高压灭菌法进行的灭菌。通常，接着采用数十到数百个此类处理循环。这意味着对耐热、耐化学性以及耐水解性有很高的要求。因此，由玻璃或熔融石英纤维制成的光波导和漫射体实施方案特别合适这种情况。在evlt中，主治医生经由细小的穿刺部位将导管插入相关静脉，该导管用作静脉激光的导轨。接着借助于漫射体通过有针对性地侧向发射激光能量来加热血管的内壁，从而使静脉塌陷并且被密封。以此方式防止了静脉血液的病理性回流。结果，静脉变硬、退行并且会被身体分解。当前，通常将已知为环形或双环形发动系统(firesystems)的发射元件用于此目的。激光以相对清晰定界的环形或双环形光形式径向发射到围绕静脉的组织，同时，为了进行均匀治疗，经常会将带有发射元件的光波导以稳定速率手动地拉动穿过要治疗的静脉区段，由于在不合规或停留时间过长的情况下这可能会在若干位置造成进一步的细胞损坏，因此使应用复杂化。在pdt应用中使用的此类圆柱形漫射体将在这里带来优势。然而，evlt治疗需要显著更高的激光输出功率。举例来说，在nir范围内，即约800nm与1480nm之间的波长处的激光功率通常在10到50w之间，其当前使用二极管激光器(例如，810nm、940nm或1480nm)或nd:yag激光器(1064nm)提供。同时，对于evlt治疗也已经确立了约2μm的更长波长。在此情况下，例如使用tm:yag激光器(1.9μm)和ho:yag激光器(2.1μm)。由于组织的吸收特性，在这些波长下通常需要<10w的较低激光输出功率。然而，这里已经强制使用由熔融石英制成的光波导，特别是用于供应激光。可以用于evlt的漫射体在侧向发射上的均匀性要求与pdt应用相比较低，并且与平均强度的最大偏差可以是±30％到±50％。litt是用于局部肿瘤破坏的微创手术。在可视化(例如，超声检查/mri)下穿刺肿瘤，将一根(或多根)激光纤维引入肿瘤灶中，并且通过热能在肿瘤灶中诱发硬化。在此情况下，尤其要使用nd:yag激光器(1064nm)和漫射体尖端施加器。激光输出功率大致为5到8w(尤其参见“laserinduzierteinterstitiellethermotherapie(litt)beimalignentumoren”和kbv01/2002)。从下文提到的文献中可知进一步的漫射体实施方案，并且可以将其分为四类：体积散射漫射体、具有施加的散射粒子的纤维、通过激光处理生产的漫射体、以及由侧发射纤维形成的漫射体。体积散射漫射体例如在文献ep3184885a1中公开，该文献描述了在由熔融石英制成的光波导的端部的漫射体，并且为了生产漫射体，将散射物质施加到光波导的纤维远端并且固化以形成漫射体。应用散射物质包括以下步骤：(a)提供含有无定形sio2粒子并且由至少90wt％的sio2组成的sio2晶粒；(b)提供由玻璃制成的中空体，该中空体具有围绕腔体的腔体壁，该腔体向外敞开；(c)在腔体中提供sio2晶粒的晶床，并且将纤维端引入到腔体中，使得至少一部分纤维端突出到晶床中；(d)热压缩该晶床以形成由至少90wt％的sio2组成的多孔烧结块，该多孔烧结块至少部分地被玻璃护套围绕。此类方法的缺点在于，此类体积散射实施方案意味着强度的强指数下降。此外，就其可处理性而言，多孔材料在医学技术应用中并非优选的。第6,810,184b2号美国专利描述了一种方法，其中使用纳米多孔二氧化硅包覆的光学纤维来制造具有整体形成的漫射尖端和可以与其它纤维融合的漫射尖端的纤维。所公开的漫射体可以被制造为光沿其长度漫射的圆柱形的、光以球形图案向外辐射的球形的，或者定制形状以照亮不规则的表面或体积。渐变和阶跃折射属性也可以被实现。文献ep2062077a4、us2009/0204111a1和de102015119875a1公开了一种漫射体，该漫射体是通过使用激光将结构引入到纤维中或在纤维上施加结构而生产的。文献ep2062077a4和wo2008/024397a2公开了一种漫射体，该漫射体用于将高功率密度的光能输出到至少一根光学纤维的远端处的治疗部位，其中该漫射体包括至少一根光学纤维的远端的预定长度的区段和位于该光学纤维的远端处的预定长度的区段中的散射中心，该散射中心使一部分输入的光能径向地射出到治疗部位。可以预期的是，散射中心位于纤维纤芯的此预定长度中，或者位于此预定长度中的纤维纤芯与包层之间的界面中或附近。散射中心是纤维纤芯中的缺陷，例如纳米裂纹或纳米空隙在纤芯中或纤芯与包层之间的界面内或界面附近产生局部折射率差异。散射中心可以是包含在纤芯内或此纤芯的包层内的散射粒子。除了其复杂的引入难以控制之外(例如在上述纳米裂纹或纳米空隙的分布和/或大小方面)，纳米裂纹或纳米空隙还可能对部件的易破损性产生负面影响。此外，在所有方法中，由于在足够均匀的设计的情况下侧向发射的指数衰减或者由于分布不均匀，不得不预期所需的侧向发射均匀性不会实现。文献us2009/0204111a1描述了一种激光递送系统，该激光递送系统包括光学纤维，该光学纤维具有：(i)纤芯和覆盖至少部分纤芯的包层，其中该包层的折射率低于纤芯的折射率；以及(ii)非特征部分和特征部分，该特征部分具有迫使光从特征部分径向耦合出并且提供所需径向光输出图案的特征。可以预期的是，该特征选自由螺纹、径向切口、轴向切口及其组合组成的群组。de102015119875a1公开了一种光波导，该光波导包括：光波导纤芯；光波导中的区域，在该光波导的区域中布置微型修改部，其中该微型修改部以有序的方式布置。将微型修改部引入光波导中的方法包括以下步骤：(a)将光波导粘附在保持器中，该光波导和/或保持器是以可移动方式安装；(b)将高能辐射聚焦到焦点位置上，该焦点位置可定位在光波导的内部，该辐射由辐射源以脉冲操作产生，并且用于聚焦高能辐射的聚焦设备是以可移动方式安装；以及(c)移动焦点位置穿过光波导，其中焦点位置在光波导内部的移动是以取决于重复率的方式来选择。本申请人的文献de102012208810a1公开了一种侧向发射玻璃元件，该侧向发射玻璃元件包括由折射率为n1的玻璃制成的并且在它们的外圆周表面处彼此不可分离地连接的多个导光元件，并且至少一个散射元件不可分离地连接到至少一个导光元件的外圆周表面，使得当光在玻璃元件中被引导时，此光的一部分从玻璃元件侧向发射，其中个别导光元件未被折射率不同于n1的包覆玻璃个别地围封，并且其中在导光元件之间存在相边界。此文献还公开了一种用于生产此类侧向发射玻璃元件的方法，包括以下方法步骤：(i)提供由折射率为n1的玻璃制成的多个光纤棒；(ii)将由包括散射中心的玻璃制成的至少一个散射棒布置在该多个光纤棒之间或之内，使得光纤棒和至少一个散射棒的轴线至少基本平行于彼此延伸以获得预制件；(iii)加热该预制件；(iv)拉制该预制件以形成侧向发射玻璃元件，使得光纤棒的外圆周表面彼此不可分离地结合并且与至少一根散射棒不可分离地结合。其中描述的方法特别用于装饰照射目的，为此特别希望实现径向定向的发射效果。因此，本发明的目的是提供一种具成本效益的解决方案，用于制造和使用并且可重复使用漫射体，特别是对于圆柱状漫射体以及相关照射系统。此外，一方面，它们应满足上述基于侧向发射的平均强度的侧向发射均匀性要求，并且总体上应表现出朗伯发射行为(lambertianemissionbehavior)，特别是对于pdt应用，另一方面，它们应满足与高功率密度兼容的要求，特别是在evlt应用中。在de102012208810a1中描述的方法代表了基本技术，该基本技术在提供此类漫射体方面应有利地进行优化。技术实现要素：本发明的目的通过独立权利要求1和27实现，并且有利的实施例将从从属权利要求和说明书的进一步公开以及附图中显而易见。为此目的，公开了一种照射系统，特别是用于医疗和/或诊断系统的照射系统，该照射系统包括至少一个激光光源和可以在其近端连接到和/或关联于该至少一个激光光源的光波导，并且包括在该光波导的远端处的漫射体元件，该漫射体元件具有垂直于光波导的耦合表面延伸到漫射体元件中的纵向轴线；其中漫射体元件在其操作状态下在其有效长度上在纵向轴线的侧向上发光；其中漫射体元件包括至少一个漫射体基体，并且该漫射体基体包含至少一个散射元件，其中，优选地，该至少一个散射元件沿着漫射体基体的纵向轴线基本平行于纵向轴线对齐或布置成与漫射体基体的纵向轴线成一定角度；并且其中用于使沿着漫射体基体的纵向轴线的发射强度均匀化的构件设置在漫射体基体的远端处和/或至少部分地或在其若干区段上围绕光波导与漫射体基体之间的过渡区域和/或漫射体基体本身；其中照射系统在其操作状态下表现出与平均侧向发射强度的偏差不超过±50％、优选地不超过±30％，并且最优选地不超过±5％的侧向发射的强度分布。在本发明的上下文中，侧向发射是指具有从漫射体基体的纵向轴线发出并且在径向方向上延伸的方向分量的发射。侧向发射强度是指此发射的强度。此外，该目标可以有利地通过以下操作来实现：使至少一个散射元件沿漫射体基体的整个纵向轴线布置，该散射元件具有基本上平行于漫射体基体的均匀横截面形状，或者在漫射体基体渐缩的情况下与纵向轴线成一定角度。该至少一个散射元件也可以有利地是管状的，并且尤其可以与纵向轴线同轴地布置。多个散射元件可以以特定的可预定几何布置围绕漫射体基体的纵向轴线布置，优选地以规则图案布置，最优选地以围绕纵向轴线的圆形图案布置。因此，优选地，以一定角度布置的多个散射元件在漫射体基体外部的消失点处相交。用于使侧向发射沿纵向轴线均匀化的构件和/或措施优选地设置在漫射体基体的远端处和/或光波导与漫射体基体之间的过渡区域中，其至少部分地或分区段地和/或基本上完全地围封漫射体基体。举例来说，此类构件包含在漫射体的远端处的套筒、罩盖、帽盖和/或层，从而防止从远端向前发射，并从而将其反射回来并且因此使其可再次用于漫射体基体中的散射过程中，以及另一方面，从而避免在漫射体基体的远端处产生杂散光效果和/或光反射。这同样适用于光波导与漫射体基体之间的过渡区域。杂散光效果和/或光反射也可能出现在此处，这可以通过适当有效的元件(例如在此位置处的套筒和/或层)来抑制。光波导可以包括单个纤维，例如单模或多模光学纤维，该光学纤维包括具有纤芯直径和包层的纤芯，或者可以包括具有纤维束直径的纤维束。这使得有可能提供可再现的并且也是成本优化的漫射体元件，该漫射体元件在其操作状态下表现出均匀的发射以如在引言部分中提到的用于医疗。根据一种优选的实施变体，可以预期的是，该漫射体基体中的散射元件以围绕漫射体基体的纵向轴线的径向均匀分布的图案布置，而与纤芯区外部每单位面积的散射元件数量相比，围绕纵向轴线的纤芯区没有或显著减少了每单位面积的散射元件数量，使得散射元件主要布置在母体内的此纤芯区之外。这确保了通常以小的na(＜0.3，通常约为0.2)注入的注入光不会立即在散射元件上散射。另一方面，几乎没有散射元件的纤芯区允许足够的光传播到漫射体基体的远端而不会被散射。这一方面允许减小注入部位(漫射体基体的近端)附近的强度，另一方面允许增大漫射体基体的远端附近的强度。根据另一种优选的实施变体，可以预期的是，漫射体基体包括相对于其横截面区域具有不同折射率n1和n1'的母体，特别是在纤芯区与母体的嵌入有散射元件的外围区之间。这允许例如影响在具有母体折射率n1的纤芯区内的和在具有折射率n1'的母体的纤芯区外的数值孔径na。此外，光在漫射体基体中的传播以及由此散射中心的激发可以被调整到在漫射体的长度上所需的发射特性。此外，在制造期间可以实现具有折射率n1的纤芯区的任何所需横截面几何形状，即例如基本上圆形，但也可以为多边形或星形形状。如果嵌入有散射元件的漫射体基体的直径等于或大于光波导的纤芯直径或纤维束直径，则可以促进侧向发射强度的均匀化。已经发现特别有利的是，光波导的纤芯直径或纤维束直径与母体的直径之间的比率为≤1.0到0.7，最优选为≤1.0到0.8。仅略小于母体直径的纤芯直径或纤维束直径准许减小注入部位(从光波导到漫射体基体的过渡区域)处的强度峰值。相比之下，纤芯直径或纤维束直径显著小于漫射体基体的母体的直径(即比率<0.8)可能会导致注入部位处的强度降低，这也可能对于特定要求是有利的。此外已经发现的是，如果该比率在1到0.9之间，则可以例如通过粘接而在光波导与漫射体基体之间实现特别稳健的机械联接或结合。理想地，漫射体元件在漫射体基体的远端处具有反射体表面，即以定向反射表面(例如具有尤其包括al、ag、au的金属涂层的金属反射表面)或漫反射表面(例如包括将穿过漫射体基体的光反射回去的白色涂料层基体)的形式。这允许至少部分地补偿或校正沿着漫射体基体侧向发射的光的强度的通常为指数式的衰减。因此，在恒定的散射速率下可以提供的光量至少分区段地被改变或可调整，使得侧向发射可以被均匀化。长度大致为0.5到2mm且例如由铝或金制成的短抛光金属线区段(其与漫射体基体直接接触并且形成散热器)已经被证明是特别有效的反射体，尤其也避免热斑。热斑是局部增大的光强度，该局部增大的光强度例如在界面处被吸收的情况下会导致不希望的局部温度升高。此外，溅射沉积或气相沉积的介电反射层已经被发现在漫射体基体的远端上特别有利；它们可以由多层组成，并且可以在反射率方面与所用光的波长匹配，这意味着它们可以在与它们匹配的波长处具有最大值。一方面，这实现了在操作状态期间注入的光的理想背向反射，另一方面，避免了热斑。或者，也可以预期通过具有背面钝化的银层来实施反射体，该具有背面钝化的银层具有良好的宽带反射率。此类层特别稳健并且能够抑制可能导致局部过大强度以及热斑的干扰性反射。以此方式，尤其可以实施非常宽带的反射体，其在可见光谱范围(vis)和ir/mir范围(例如在1μm与2.5μm波长之间)内都具有非常好的反射特性。背面钝化防止银层氧化。如果反射体表面是凹形或凸形的，则这允许使几乎平行于纵向轴线传播的光线以相对于纵向轴线较陡的角度至少部分地反射回去，因此在散射元件处更频繁地散射，使得侧向发射的输出效率朝向漫射体元件的远端增大，这意味着发射强度的分布更均匀。反射体表面也可以是空心体或可以是在一端封闭并且具有面向腔体或透明体的反射表面的罩盖或帽盖的形式。这些可以是例如由塑料、玻璃或熔融石英制成的圆柱形帽盖，该圆柱形帽盖可以布置成与漫射体基体的远端邻接，并且可以被设计为至少在其至少一个表面的若干区段上定向反射和/或漫反射，例如通过具有镜面涂层或提供有白色涂料层。镜面涂层可以实施为反射膜或反射涂层，例如气相沉积涂层。同样有利的是金属帽盖，该金属帽盖由此围封与漫射体基体的远端邻接的腔体。以此类方式形成的腔体还可以填充有液体、固体或固化材料，这允许例如调整折射率和/或将帽盖结合到远端。还可以预期的是，帽盖在不限定腔体的情况下直接终止远端。尤其有利地，此类帽盖在径向上至少部分地或在漫射体基体的若干区段上在例如0.5到2mm的长度上围绕漫射体基体。此类元件一方面允许避免杂散反射，另一方面如果存在腔体则可以根据腔体或透明体的长度来调整反射回到漫射体基体中的辐射的数值孔径。因此，反射体表面是凹形或凸形的和/或以主体和/或罩盖的形式，该主体和/或罩盖与漫射体基体直接邻接或与其间隔开以便(以在一端封闭的中空体形式)在反射体表面与反射体的远端之间限定腔体。此外，金属帽盖提供了例如可以用作x射线标记的优点。这允许在介入期间或治疗期间通过基于x射线的成像来可视化漫射体元件在患者组织中的确切位置。取决于所应用的成像技术，适当设计的帽盖可至少具有类似的效果。在优选的实施例中，漫射体元件包括在漫射体基体的近端与光波导的远端之间的接合区，该接合区是通过胶合、粘接或按压以形成刚性配合(positivefit)和/或材料结合而产生，并且至少将漫射体基体的直径与光波导的纤芯直径或纤维束直径连接。为了匹配可能不同的热膨胀系数，有利的是在漫射体基体的近端与光波导的远端之间的接合区中另外提供中间介质。举例来说，这可以是过渡玻璃或焊料玻璃。另一方面，这也可以是透明的、具永久弹性的粘合剂。此外，光学元件可以布置在接合区中，或接合区可以被设计为限定光学元件，例如，用于通过几何调整或折射率匹配来修改光束的引导和/或光的导向。为了提高机械稳定性，特别是漫射体元件与光波导之间的接头的机械稳定性，有利的是接合区被例如套筒或管件等覆盖材料覆盖。套筒或管件可以由塑料、玻璃、陶瓷或例如镍银、钛或不锈钢等金属或合金制成，从而至少在其若干区段上至少部分地透明、半透明和/或不透明和/或反射。在一种情况下，这可以是特别地增强了机械稳定性的薄壁玻璃套筒。此外，金属套筒的优点在于，其还可以用作x射线标记，例如，该x射线标记允许在介入期间或治疗期间可视化漫射体元件在患者组织中的确切位置。根据一种变体，可以预期的是，套筒由刚性管段限定，例如由玻璃或熔融石英制成，和/或由柔性管件(例如硅酮管)限定。如果管段和/或管件还包含散射中心，则这允许进一步改善发射特性的上述均匀化。漫射体元件的一个特别优选的实施变体提出，具有如上所述的在远端处的反射体表面或其变体并且具有如上所述的包括套筒或其变体的接合区的漫射体基体具备透明和/或半透明的、染色或无色的护套，该护套至少部分地或在若干区段上围封漫射体基体。一方面，机械保护可以此方式实现。另一方面，通过适当地选择材料，特别是如果它们含有散射中心，发射特性可以在侧向发射强度的均匀性方面进一步被优化。举例来说，这允许促进朗伯光发射。在优选的实施变体中，护套至少部分地由一个或多个薄壁热缩管制成。一方面，此类热缩管可引起额外的漫散射效果，从而促进朗伯发射。另一方面，机械保护可以此方式实现，并且可以防止在漫射体损坏的情况下的可能碎裂。举例来说，已经证明由壁厚度约5到15μm的白色染色pet制成的薄壁热缩管适用于此目的。为了抑制反射，可以另外部分地设置薄壁黑色或彩色热缩管。颜色可以选择为使得应用波长特别好地被吸收。此外，此类热缩管被实施为生物兼容的。为了补偿、最小化或防止在护套或漫射体基体的表面上出现例如污物、粒子、粗糙度等任何不规则性(这些不规则性可能会导致在操作状态下产生不希望的不均匀发射)，可以有利地在漫射体基体与护套之间施加或引入浸没液体。漫射体基体可以基本上由用透明塑料、玻璃、熔融石英或玻璃陶瓷制成的母体组成，并且嵌入其中的散射元件在母体由塑料制成的情况下可以例如由多孔或着色或例如白色染色塑料组成，在玻璃母体的情况下由孔、粒子、多孔或着色或例如白色染色或含不均匀性的玻璃或玻璃陶瓷元件以及其中所含的微晶体组成，在母体由熔融石英制成的情况下由孔、多孔熔融石英或陶瓷或多晶粒子组成，或在透明玻璃陶瓷母体的情况下由孔、粒子、多孔或着色或例如白色或含不均匀性的玻璃或玻璃陶瓷元件和其中所含的微晶体组成。而且，作为实例提及的散射元件的组合可以有利地包含在相应母体中。在玻璃或玻璃陶瓷母体实施方案的情况下，可限定散射元件的玻璃或玻璃陶瓷的不均匀性包括例如相分离、偏析和/或粒子合并、晶种、和/或微晶体。散射区域中的散射元件的浓度应为10ppm到1000ppm，并且优选为20ppm到100ppm。此处，以ppm为单位的浓度值是指散射粒子相对于其中嵌入有散射粒子的相应材料(特别是塑料、玻璃母体或熔融石英母体)的成分的质量分数的比例。由此限定的相应散射元件(即孔、粒子、多孔或着色或例如白色染色的或含不均匀性的玻璃或玻璃陶瓷元件，以及其中含有的微晶体)的直径优选为10nm到1000nm，最优选从100nm到800nm。举例来说，由pmma、pet或pc塑料棒制成的漫射体基体的基于塑料的实施方案已经可以在其制造或塑形期间在低处理温度下实施。然而，以此方式制成的漫射体基体表现出相当低的热阻，并且因此更适合于具有低激光功率的应用。此外，它们仅适合于可见光谱范围(vis)的应用，因为塑料通常在nir和ir范围内表现出高吸收率。基于玻璃的实施方案在这方面要稳健得多，并且最重要的是热稳定的，因此可以施加更大的激光输出功率。被考虑用于制造漫射体基体的合适组分尤其包含例如由n-bk7制成的玻璃棒、本申请人的光学硼冕玻璃、硼硅酸盐玻璃，或无铅或无重金属玻璃(如用于例如用于内窥镜或用于固化牙齿填充物的牙棒的高质量光学玻璃纤维)。后者可以满足未来的rohs要求。在本申请人的de102012100233a1和de102013208838b4中描述了此类玻璃。从无铅锡硅酸盐玻璃或碱金属硅酸锌玻璃的范围来看，用于光纤棒和漫射体基体母体的此类玻璃的实例含有以下成分(以氧化物计，以重量百分比表示)：从到b2o3024sio22362.1al2o3010li2o010na2o018.5k2o025.7bao057.8zno040la2o3025zro2010hfo2014.2sno2>02mgo08cao08sro024.4ta2o5022y2o3011.9rb2o015cs2o021geo207.5f02σr2o520σmgo,cao,sro,zno2042可以围绕光纤棒布置以随后形成包层和/或作为预制件的鞘套的包覆管优选地由下文的第1到4组之一制成，含有以下各成分(以氧化物计，以重量百分比表示)：第1组第2组第3组第4组sio270-7863-7575-8562-70al2o35-101-71-51-10b2o35-140-310-14>15li2o0-20–10–30-2na2o0-108-202-80-10k2o0-100-60-10-10mgo0-10-500-5cao0-21-900-5sro0-1000-5bao0-40-500-5f0-10-100-1cl0-10-100-1fe2o30-20-20-20-2原则上，也有可能将不透x射线的玻璃或相应的透明玻璃陶瓷用于漫射体基体或用于嵌入的散射元件和/或用于包覆管。这具有的优点是，漫射体基体整体上至少部分地或在若干区段上在x射线图像中可视化，从而可以确定漫射体在患者体内的位置。对于波长在0.8μm到约2.2μm的应用，例如在引言部分提到的evlt应用，也可以使用特殊的ir透明玻璃，例如以n-pk52a命名的玻璃，即磷酸盐冕玻璃或irg7，即本申请人的铅硅酸盐玻璃。如果熔融石英具有特别少的oh基，则基于熔融石英的方法特别可解决在高达约2.5μm波长的uv和/或ir范围内的应用。在此可以提及的另一个优点是熔融石英的极高耐热性和极低的固有吸收，特别是在应用中允许高达50w的更高激光输出功率。除了由多孔熔融石英制成的散射元件之外，还可使用由例如二氧化钛、氧化锆或氧化铝等陶瓷颜料制成或包括所述陶瓷颜料的散射元件。基于熔融石英的漫射体基体可以特别好地粘接到由熔融石英纤维制成的光波导，该熔融石英纤维由纤芯和包层组成，它们的折射率略有不同。包层也可以由有机材料制成，例如氟塑料、pmma或聚酰亚胺。然而，漫射体基体的制造过程需要比玻璃基方法显著更高的拉制温度。用于漫射体基体和/或散射元件的基于玻璃陶瓷的实施方案可以由例如用于壁炉板或烹饪台面的透明硅铝酸盐高石英固溶体玻璃陶瓷制成，其具有极强的抗热震性并且表现出低至约2.5μm的高光谱透射率。合适的散射元件包含例如热液石英玻璃陶瓷，该热液石英玻璃陶瓷可以通过合适的热处理工艺由高石英固溶体玻璃陶瓷制成。此外，堇青石玻璃陶瓷或硅酸镁铝玻璃陶瓷适合作为漫射体基体和/或散射元件。当漫射体基体由用硼硅酸盐玻璃棒、锡硅酸盐玻璃棒或碱金属硅酸锌玻璃棒制成的光纤棒制成并且散射元件由白色玻璃棒(其由用硼硅酸盐玻璃、锡硅酸盐玻璃或碱金属硅酸锌玻璃制成的包覆管围封以形成预制件)制成时，就其制造工艺而言，可得到特别优选的漫射体基体。在本发明的一种改进方案中，漫射体基体与包覆管两者可以由相同类型的玻璃制成。包覆管的折射率优选地不大于母体玻璃的折射率，并且最优选地，两个折射率相等。这促进了散射在漫射体中的光的发射。这允许制造漫射体的具成本效益的工艺，该漫射体可以几乎任何长度获得并具有均匀发射强度。此外，此类漫射体还可以在其它几何参数(例如直径)方面适于特定应用，并且可以用作半成品，随后可以将其切成一定长度并且针对特定应用情况进行任选的后处理。为了使在操作状态下在漫射体元件或漫射体基体的长度上侧向发射的辐射的强度分布或均匀性符合预定的公差带，可能必需的是使漫射体基体由在拉制过程中拉制成漫射体基体的直径的多个预制件部分制成，并且漫射体基体可以由多个部分组成，并且该部分可以由不同的预制件制成，该预制件包含不同数量和布置的散射元件。该漫射体部分可以通过使用折射率匹配的粘合剂通过粘接或胶合来组合，以形成漫射体基体，并且在一个实施例中散射效果有利地在注入光的第一漫射体部分中最低。接着，在漫射体基体中的光传播方向上的个别下游漫射体部分中，散射效果增强。以此方式，有可能使在操作状态下侧向发射的强度在公差带内保持一致。如果在拉制过程之后对漫射体基体的部分进行热处理，特别是梯度热处理，则可以进一步实现对于强度的通常为指数式的衰减的至少部分补偿。此类梯度热处理使得可在漫射体基体的散射效果方面沿着漫射体基体中的延伸长度对散射元件产生后续的影响。举例来说，通过此类梯度热处理可以改变用作散射元件的白色玻璃棒中的偏析过程。在基于玻璃陶瓷的散射元件的情况下，有可能影响晶体形成和晶体生长以及其沿着漫射体基体的纵向轴线的晶粒大小和分布。为了减少不需要的散射、杂散光效果和/或特别是在从光波导到漫射体基体的过渡区域中或在漫射体基体的远端处的光反射，可以进一步预期，根据进一步优选的实施变体，与沿漫射体基体的散射效果相比，散射元件在靠近漫射体基体的耦合表面的近端和/或在紧邻反射体表面的远端处表现出减小的散射效果。这可以通过例如在漫射体基体的近端与光波导的粘接期间额外地暴露于热来实现。举例来说，可以以此方式至少部分地修改(例如，减小或甚至反转)在用作散射元件的白色玻璃棒中存在的局部偏析(例如，相分离、失透)。后者(反转)将降低此区域中的散射效果。而且，漫射体基体的远端可以被加热，并且可以由此被重整为例如凸形和/或至少圆形。此外，引起散射的失透也可以至少部分地改变，并且例如甚至可以撤消。在此情况下，也可以通过此额外热处理过程来实现在此区域中表现为热斑的不希望有的散射的减少。如果在拉制过程期间通过改变拉制速率、拉制温度和/或拉制力而至少部分地或分区段地将漫射体基体拉制成圆锥形(例如使得在切割过程之后获得漫射体基体，该漫射体基体至少部分地或在若干区段上渐缩)，则可以实现另外至少部分补偿在操作状态下侧向发射的光的强度下降。举例来说，获得锥形渐缩漫射体基体，其由于锥度而导致光束的角度扩展，使得光传播更大的距离，并且因此在漫射体基体的纵向方向上引起更强的散射。在生产预制件时原本平行于纵向轴线而布置的散射元件在锥度范围内不再平行于漫射体基体的纵向轴线而延伸，而是与之成一定角度，从而理想地在共同消失点处相交。此外，可以有利地进行进一步的后续过程，在其中可以校正或调整漫射体基体和/或漫射体元件的侧向发射的强度分布。这些特别地包含如下过程，该过程一方面允许至少局部地修改体积内和/或其表面上的材料的特性，例如折射率和/或其组成(例如以胶体偏析和/或成核和/或结晶的形式)，和/或另一方面，允许以几乎任何几何形状和布置去除材料或修改材料沉积。这些包含例如激光处理技术，该技术允许例如通过使用短脉冲或co2激光器来引入折射率的修改或在例如腔体和/或表面上的体积中产生结构。此外，印刷工艺可以用来施加或产生结构，例如在漫射体基体和/或漫射体元件的表面上施加或产生网格图案，例如使用包含适当颜料的可印刷有机或陶瓷油墨，或者使用玻璃助熔剂基油墨，任选地进行相应的后续热处理。光刻技术和处理步骤也是可行的，诸如那些例如尤其用于光敏或可光结构化的玻璃和玻璃陶瓷的体积或表面结构化的光刻技术和处理步骤。此外，也可以对漫射体基体和/或漫射体元件在其表面上进行湿式或干式化学蚀刻，必要时任选地进行，并且在此情况下也可以使用光刻处理步骤。机械的和/或磨蚀有效的工艺(例如磨削、研磨或喷砂)也可以用于结构化，特别是用于使漫射体基体和/或漫射体元件的表面粗糙化。所提出的示例性技术或过程也可以组合使用。因此，可以以此类方式生产的漫射体元件和/或漫射体基体在其体积和/或在其表面上至少部分地或分区段地具有结构。根据另一有利的实施变体，可以预期的是，漫射体基体具有涂层，该涂层至少部分地和/或分区段地包含散射粒子，和/或漫射体基体至少部分地和/或分区段地具有由染色玻璃或染色塑料制成的额外护套。氮化硼(bn)涂层是此类涂层的实例，该涂层另外促进朗伯发射特性并且特别是在光注入的方向上减少向前的发射。此类型的其它涂层可以由例如氧化钛、碳酸钙或氧化锆制成。额外护套可以例如实施为白色玻璃管，其在其玻璃母体中包含散射元件。举例来说，着色玻璃管可以作为额外护套在漫射体基体与光波导之间的接头附近或中间介质附近设置在接合区中，并且其着色和强度可以选择，使得特别是所使用的光波长被抑制或甚至被阻挡。这可以用来抑制不想要的反射，从而抑制不希望的侧面发射。举例来说，由塑料制成的合适护套包含染色的硅酮或ptfe管件。在另一种变体中，可以预期的是，特别是为了抑制在漫射体的远端的前向发射，将染色的玻璃棒粘接到漫射体基体或其包覆管(其吸收光的波长)上。也可以有利地使用由硅酮或合适的塑料制成的类似浸渍涂层。显著挑战在于根据本发明的漫射体基体的制造，该漫射体基体具有适于预期用途的照射分布，特别是在操作状态下侧向发射强度的均匀性。因此，根据本发明的用于生产漫射体基体的方法也是本发明的有利的另一方面。一种用于生产特别是用于如上所述的照射系统的漫射体基体的方法被指定，该漫射体基体包括至少一个散射元件，其中该至少一个散射元件优选地沿着漫射体基体的纵向轴线基本平行于该纵向轴线对齐或布置成与漫射体基体的纵向轴线成一定角度，该方法包括以下方法步骤：-提供由折射率为n1和/或n1'的玻璃制成的多个光纤棒；-布置具有折射率n1和/或n1′的多个光纤棒和由玻璃或玻璃陶瓷制成并且包括散射中心的至少一个散射棒，使得该光纤棒与该至少一个散射棒的纵向轴线至少彼此基本平行地延伸以获得预制件；-加热该预制件；-拉制预制件以形成漫射体基体，使得该光纤棒的外圆周表面彼此不可分离地结合并且与至少一个散射棒不可分离地结合以形成形状配合，特别是彼此熔接，以便形成漫射体基体的母体，该漫射体基体包含由嵌入其中和/或与其邻接的至少一个拉制散射棒形成的至少一个散射元件。因此，提供了由折射率为n1或n1'的玻璃制成的多个光纤棒。取决于要实现的照射分布，以所需数量提供至少一个或多个散射棒，该至少一个或多个散射棒由玻璃或玻璃陶瓷制成并且包含上述散射中心，并且邻近于光纤棒或在光纤棒之间布置，从而形成光纤棒和散射棒的布置，其中光纤棒与散射棒的纵向轴线有利地基本上彼此平行地布置。散射棒可以根据取决于所需照射分布的图案而分布在所述布置内。此布置通过适当构件固定，并且因此形成预制件。在随后的方法步骤中，将预制件加热并且拉制以形成侧向发射的玻璃元件，从而使光纤棒和至少一个散射棒在其外圆周表面处彼此不可分离地结合。拉制期间的温度控制使得在光波导元件之间维持相边界。这尤其可以通过将拉制温度保持在光纤棒的玻璃的熔融温度以下，从而使它们烧结在一起(特别是在烧结温度下)来实现。根据本发明，避免了光纤棒的完全融合。光纤棒与(如果需要)散射元件的优选形状配合也可以通过温度控制来实现。以此方式获得的玻璃元件可以直接限定漫射体基体。然而，尤其也可以通过切割成一定大小，例如切割成所生产的玻璃元件的长度来获得漫射体基体和/或其部分。漫射体基体的母体由以刚性配合方式接合在一起的经拉制光纤棒限定，并且将包含散射中心的至少一个散射元件嵌入其中，至少一个散射元件已基本上根据其在预制件内的布置而也通过形状配合从经拉制散射棒形成。在有利的实施例中，如上所述，光纤棒并未完全熔接在一起，散射棒也未完全熔合到光纤棒中的至少一个。因此，在散射棒与光纤棒之间也可能存在相边界，因此将保持在如此形成的母体和漫射体基体的散射元件中。当光纤棒的玻璃的软化温度等于或低于散射棒的软化温度时，可以实现此实施例。同样有利的实施例预期，光纤棒并未完全熔接在一起，并且在它们之间存在相边界，但至少一个散射元件熔接到至少一个光纤棒。这可以通过将散射棒的玻璃的软化温度选择为低于光纤棒的玻璃的软化温度来实现。已经证明，散射棒的玻璃的软化温度降低至多50k，特别是降低至多30k，是有利的。当被拉制时，光纤棒成为母体，而散射棒成为玻璃元件的散射元件。因此，光纤棒由折射率为n1的玻璃组成，并且未被折射率为n2的包覆玻璃个别地围封。用于固定包含光纤棒和散射棒的预制件布置的构件可以是例如夹具，其随后被去除。然而，优选地，使用由折射率为n2的玻璃组成包覆管。在此实施例中，光纤棒和散射棒的布置在包覆管内部组合。包覆管最优选在一端封闭。包覆管至少沿着预制件的外圆周围封上述预制件。在加热和拉制期间，包覆管软化并且接合在光纤棒和散射棒的布置上，从而在玻璃元件周围形成包层。通过加热和拉制获得的产品也可以被切割和/或进一步处理以获得漫射体基体。通过在预制件的拉制过程期间改变速率、温度和/或力参数，可获得圆锥形的漫射体基体，该漫射体基体至少部分地或在其若干区段上渐缩，任选地在切成一定大小之后。至少在锥形的范围内，散射元件不再平行于漫射体基体的纵向轴线延伸，而是与其成一定角度地延伸。此外，有利地，提出了一种用于至少部分地或分区段地构造包括至少一个散射元件的漫射体基体的方法，特别是用于调整其侧向发射的强度分布的方法，其中该至少一个散射元件优选地沿着漫射体基体的纵向轴线基本平行于纵向轴线对齐，或布置成与漫射体基体和/或漫射体元件的纵向轴线成一角度；其中具有反射体表面和接合区的漫射体基体至少部分地或在其若干区段上被透明或半透明的护套围封，以形成漫射体元件；其中护套优选地由刚性管段和/或由柔性管件限定，其中管段和/或管件优选地包含散射中心，散射中心至少局部地修改其体积和/或表面处的特性和/或组成，和/或通过材料去除或材料沉积技术在其中和/或其上形成几乎任何所需几何形状和布置的结构，该技术包括-激光处理技术，特别是使用短脉冲或co2激光的激光处理技术，其优选地引入折射率和/或组成的修改或在所述体积内和/或所述表面处形成结构；-用于使用含有适当颜料的可印刷有机或陶瓷油墨或使用基于玻璃助熔剂的油墨来涂覆或产生特别是网格结构的印刷技术；-湿式化学或干式化学蚀刻技术；-光刻工艺；-研磨机械处理技术；或者这些技术的组合。如上所述的照射系统在其各种实施变体中的优选应用是其在光动力疗法(pdt)中的用途，例如用于肿瘤治疗、用于静脉内激光治疗(evlt)(例如用于静脉曲张治疗)、用于激光诱导间质热疗法(litt)，或用于牙科、眼科和皮肤病学领域，如引言部分所述。在牙科领域，此处特别需要提及伤口或牙周治疗的应用。此外，在脑研究中存在一些应用，其中可以通过光刺激大脑的个别区域以治疗疾病症状。如上所述的照射系统在其各种实施变体中的另一应用是其在用于肿瘤治疗的光动力疗法(pdt)中的用途，其中具有漫射体元件的至少一个光波导捕获从其它漫射体元件发射的光，以经由光波导将光转发到检测器进行光谱分析。在此情况下，除了多种发光漫射体-光波导之外，还将光捕获漫射体-光波导应用于患者，并且可以基于注入光与捕获光之间的光谱差异来评估对pdt治疗的响应(参见finlay等人，proc.spieint.soc.opt.eng.2014,june14；5315：第132到142页)。此外，在工业领域中的应用也是有利的，例如用于检查难以到达的地方，例如在机器上或机器中，其中均匀照射尤为重要，或在光谱应用中，或在生物化学中，其中光促使了生化体外反应。附图说明现在将通过在附图中说明的示例性实施例来更详细地解释本发明，其中：图1示意性地示出了在pdt应用中的包括光波导和漫射体元件的照射系统；图2是漫射体元件的示意性横截面图；图3a至3d示出了散射元件在漫射体基体中的布置的不同示例性实施例；图4a和4b示出了在漫射体基体的母体中的散射元件的不同示例性实施例；图5a到5c示意性地示出了漫射体基体的反射体表面的不同示例性实施方案；图6a到6c示意性地示出了使强度分布均匀化的不同方法；图7示出了不同的示意性强度分布的分布图；和图8是示出测得的强度分布的另一分布图；图9是根据图3a的漫射体基体的抛光表面的横截面显微照片；图10是根据图3d的仅通过刻划和折断来准备的漫射体基体的表面的横截面显微照片；图11示出了穿过具有母体43.4的漫射体基体43的横截面，该母体具有不同的折射率n1和n1'；图12示出了图2的漫射体元件的示意性横截面图的细节。具体实施方式在实施例的以下详细描述中，附图中的相同附图标记表示相同或等效的部件。为了更好地理解，提供了以下定义。为了本公开的目的，术语“照射系统”包含发光装置，且特别是适用于医学技术目的的发光装置，并且可以至少在其若干区段中(特别是在其既定与活体组织接触时)被消毒和/或灭菌。措词“用于医疗和/或诊断系统”还涵盖当前公开的照射系统本身作为医疗和/或诊断系统。图1示意性地示出了根据本发明的优选实施例的照射系统1的配置。此处，作为实例说明医学pdt应用。在所说明的实例中，照射系统1包括激光光源10，该激光光源10在其操作状态下发射特定光谱范围内的光。对于如在引言部分所述的pdt应用，所使用的激光发射的波长与先前施用的生物化学改质的染料(光敏剂)匹配，通常在可见光范围内，例如在532nm的绿色光谱范围内，或在例如690nm的红色光谱范围内。光波导30在其近端经由连接器20连接到激光光源10。在此，近端是指光波导30的注入光的端部。光波导30在其远端具有漫射体元件40，该漫射体元件40经由插管(此处未示出)引入到在健康组织50内部形成的肿瘤组织60中。在此，远端是指光波导30的另一端，该另一端通常位于远离光波导30的近端的位置，并且特别地光从该另一端射出。激光辐射在漫射体元件40处通过光注入41进入漫射体元件40，并且在漫射体的长度上侧向发射(光输出42)。在此重要的是在漫射体元件40的长度上的发射尽可能均匀。特别应避免强度峰值。光诱导的生化反应如引言部分所述理想地在治疗后诱发肿瘤组织60的坏死。通常，熔融石英纤维被用作光波导30，并且连接器20通常是以被称为sma连接器的同轴连接器的形式，在其中将纤维胶合到连接器20中。关于热阻，具有镍银套筒的连接器20也可以是有利的，其中由于塑性变形，光波导30以形状配合方式容纳、压接于镍银套筒中。此外，为获得更高的激光输出功率，也可以使用连接器20，在其中光波导30的纤维端由锥体棱镜保护，这在调整不正确的情况下可是有利的。图2示意性地示出了根据本发明的优选实施例的漫射体元件40的配置。漫射体元件40由漫射体基体43组成，该漫射体基体43通过接合区44固定在光波导30上。在上述应用中，光波导30主要由熔融石英制成，包括具有折射率n1和通常在200与600μm之间的纤芯直径31.1的纤芯31以及具有折射率n2(其中n1>n2)的包层32。通常，以此方式可以实现大致0.22的数值孔径na。光注入41经由漫射体基体43的耦合表面46实现。在优选实施例中，具有直径43.1的漫射体基体43包括包覆管43.3和由母体元件43.5及嵌入其中的散射元件43.6制成的母体43.4，或者由包覆管43.3和由母体元件43.5制成的母体43.4组成，散射元件43.6嵌入该母体元件中(此处未示出，参见图3a到3d以及图4a和4b)。为了在操作状态下能够满足关于侧向发射强度的均匀性要求，在一个实施例中，漫射体基体43包括至少10个并且优选地至少20个嵌入式散射元件43.6，并且优选地包括不超过100个，因为否则预制件的组装会过于复杂。嵌入的散射元件43.6与漫射体基体43的横截面积的所得的比率为≤0.015，优选地≤0.005，最优选地≤0.002。散射元件43.6在漫射体基体43的整个长度上基本平行于纵向轴线43.2对齐。在有利的实施例中，漫射体基体43的直径的大小确定为大于光波导30的纤芯直径31.1或纤维束直径31.1，使得一方面不会将不受控制的杂散光注入例如包覆管43.3中。另一方面，可以简化光波导30和漫射体基体43的组装和调整，和/或可以以此方式补偿组装公差。因此，光波导30的纤芯直径31.1或纤维束直径31.1与具有嵌入的散射元件43.6的漫射体基体的直径43.1的比率有利地≤1.0，优选在1.0与0.8之间。取决于所需发射特性，也可以提供≤0.8的比率。在漫射体基体43的近端与光波导30的远端之间的接合区44中可以布置光学元件，该光学元件可以具有锥形形状，例如呈光束形成元件、光导元件或光纤光锥的形式。这允许几何调整，例如调整直径差异。此处，漫射体基体43的近端是指漫射体基体43的注入光的端部。为了避免来自接合区44的杂散光，而且还为了接合区44的机械稳定，设置了由塑料、玻璃、金属或陶瓷材料制成的套筒48，该套筒48允许来自光波导30的光在光波导30的纵向轴线的方向上并且在特定的侧向角度下通过，但阻挡了可能通过侧表面进入漫射体主体的近端的光。为了优化发射特性，在漫射体基体43的与近端相对的远端处设置有反射体表面47，该反射体表面可以是金属板或薄反射膜(例如，具有气相沉积的反射层或反射率大于95％的涂层的载体膜)形式的定向反射反射部件。例如通过印刷优选的白色涂料而施加的漫反射层已经被证明是有利的。根据另一实施变体，可以预期的是，反射体表面47由铝或金制成的短抛光线部分限定，其与漫射体基体43直接接触。此外，这提供了小的散热器，从而有助于避免热斑。此外，由多层组成并且在反射率上与所用光的波长匹配的溅射沉积或气相沉积的介电反射层在漫射体基体43的远端上已被发现是特别有利的。在本公开的上下文中，措辞“在反射率方面与所用光的波长匹配”指示通过此匹配在此波长处实现了尽可能高的反射率，或者甚至反射率在所匹配波长处最大。此类反射层的一个实例是由交替施加的tio2与sio2层组成的多层系统，在应用波长范围内，例如对于(690±10)纳米的红色光，其反射率>99％。此类分层系统可以适合于相应的应用波长，即如上匹配的波长。以此方式，一方面可以实现理想的背向反射，另一方面可以避免热斑。作为替代或补充，在背面上具有钝化的银层可以提供作为反射体表面47。为了实现进一步的机械保护和/或为了使发射特性均匀化，可以提供由透明和/或半透明的染色或无色材料(硅酮、玻璃或熔融石英)制成的护套49，该护套49至少部分地或在其若干区段上围绕漫射体基体。额外的均匀化尤其可以通过半透明材料和/或含有散射中心的材料来实现。举例来说，由硅酮、聚四氟乙烯(teflon)或聚醚嵌段酰胺嵌段共聚物(商业上称为)制成的相应主体或管是合适的。已经发现，至少在若干区段上施加并且可以包括一个或多个层的由例如pet制成的薄壁热缩管形式的护套49是合适的。以此类方式，进一步促进或实现了根据朗伯辐射器的光发射42。接着，漫射体元件40的有效长度40.2形成为套筒48与反射体表面47之间的距离，并且例如可以在漫射体元件40的整个长度上或在漫射体元件40的有效长度40.2上延伸。在漫射体基体43与由玻璃或塑料制成的护套49之间，例如，可以在护套49与漫射体基体43之间提供浸没层，以抑制在漫射体基体43上可能不利地影响发射性能的任何表面不规则性，例如污物、粗糙度等。考虑到良好的适用性，应注意使折射率适于玻璃系统、具有高透明度并且具有足够高的粘度。举例来说，甘油或硅酮(油或粘合剂)已被证明适合用作浸没层。为了避免干扰反射，可以额外预期的是反射体表面47在其圆周表面上在短长度上由围绕漫射体基体43的罩盖或帽盖47.2覆盖或限定。在此情况下，有效长度40.2对应于套筒48与此保护性帽盖之间的距离。如果套筒48或帽盖47.2由金属制成，则可以实现放射性标记功能，因为有效长度40.2或漫射体元件40的位置将在x射线图像中可视化。对于pdt应用，漫射体元件40的总直径40.1通常在0.8与1.2mm之间。略小于1mm的直径40.1是常见的。此处，决定性因素是借以将漫射体元件40施加到患者身上的插管的直径。漫射体基体43与光波导30在接合区44中接合，例如通过使用高度透明的、折射率匹配的粘合剂的粘接过程或胶合过程。在粘接期间，使用电晕放电和/或激光(通常是co2激光)使光波导30和漫射体基体43软化或熔融，并且将它们带到一起。取决于用于漫射体基体43和用于光波导30的材料，可能必需的是使用中间介质45以匹配其热膨胀系数。举例来说，在玻璃-熔融石英熔接的情况下，中间介质45可以是焊料或过渡玻璃，或可以是光学粘合剂或腻子(putty)。呈套筒形式的机械按压也是可以考虑的并且其有利于实施，在此情况下，仅过渡部由光学腻子填充以避免反射损失。光学元件也可以集成或连接成设置在漫射体基体43的近端与光波导30的远端之间的接合区44中。图3a至3d示出了至少一个散射元件43.6在漫射体基体43中的布置的不同示例性实施例。在每种情况下，漫射体基体43包括包覆管43.3和母体43.4，散射元件43.6以在漫射体基体43的整个长度上平行于纵向轴线43.2的优选布置(见图2)嵌入在母体43.4中。个别散射元件的轴向范围可以小于漫射体基体43的总长度。图3a示出一种布置，在其中多个散射元件43.6随机地布置，或多或少均匀地分布在漫射体基体43的直径43.1上，也就是说，多个散射元件43.6设置成围绕纵向轴线布置。散射元件优选地围绕纵向轴线以规则的图案布置。图3b示出了一种布置，在其中各个散射元件43.6尤其形成环形阵列，也就是说，提供了多个散射元件，其优选地围绕纵向轴线布置成圆形。作为图3b的替代，图3c示出了一种布置，在其中只有一个以管段形式的散射元件43.6嵌入到母体43.4中，也就是说，至少一个散射元件43.6管状地围绕并且特别地同轴于纵向轴线而布置。此类布置的优点是，漫射体基体43的预制件的制造特别具成本效益并且可重复，因为在此情况下可以大大简化制造过程。原则上，对于至少一个散射元件43.6和/或多个散射元件43.6的布置，其它几何形状也可设想并且可有利地实施，例如六边形、正方形、三角形的几何形状。图3d示出了一种布置，在其中散射中心43.6或多或少均匀地分布在母体43.4中，但不在围绕漫射体基体43的纵向轴线43.2的纤芯区43.7中分布，这意味着漫射体基体43的横截面积的每单位面积的散射元件43.6的数量沿着纵向轴线在纤芯区43.7的外部比在纤芯区43.7内大。此布置的优点在于，通常仅具有小的数值孔径(na，典型地＜0.3)的激光当被注入到漫射体基体43中时最初将几乎不被在围绕纤芯区43.7的外围区中的散射元件43.6散射，并且当个别光线在外围区中到达散射元件43.6时，将仅在距耦合表面46(参见图2)一定距离处逐渐散射。这允许实现直接在耦合表面46的下游侧向发射的光的强度的减小，并且因此使得强度分布沿着漫射体均匀化。在散射元件的密集度沿着漫射体基体的纵向轴线恒定的情况下，强度分布通常表现出指数衰减，其中i(l)＝i0*e-l/k。已经发现k的有利值是k大致对应于漫射体基体的长度(在特定实例中为40mm)。这导致在操作状态下沿漫射体基体侧向发射的发射强度大致1/e衰减，这可以通过其它措施进行校正，使得可以满足上述均匀性要求，特别是对于pdt应用。在优选的示例性实施例中，在每个直径为0.3mm的21个散射元件作为预制件的起始材料以及母体直径约为600μm(直径为34mm的预制件初始几何形状)的情况下，k值确定为42mm。图4a和4b在垂直于漫射体基体43的纵向轴线的横截面中示意性地示出了漫射体基体43中的母体43.4的结构的两个示例性实施例。图4a示出了散射元件43.6的实例，该散射元件43.6母体以各个棒的形式作为细棒在母体元件43.5之间嵌入在预制件中。在所说明的实例中，散射元件43.6填充作为母体元件43.5的三个个别的棒的空隙(指节)。在所说明的实例中，直径为2mm的各个玻璃棒用作用于产生预制件的母体元件43.5。散射元件由厚度为0.3mm的白色玻璃棒制成。在热拉制过程之后，即在已经被拉制到漫射体基体43的直径43.1之后，散射元件43.6将已经通过熔接而结合并且具有三角形横截面，特别是双曲线三角形横截面。以白色玻璃棒或白色玻璃管形式的散射元件43.6的一个实施例预期，通过在散射区域中的散射粒子浓度为10ppm到1000ppm并且优选地为20ppm到100ppm的散射粒子来在其中限定散射中心。从散射区域，即从散射棒或白色玻璃管的白色玻璃的体积发射的发射效率不仅取决于作为固有参数的散射粒子的散射特性，而且取决于散射区域本身中的散射粒子的浓度。以ppm为单位的浓度值是指散射粒子相对于其中嵌入有散射粒子的白色玻璃组分的质量分数的比例。如果将白色玻璃的不均匀区域用作散射中心，则存在一个替代实施例，在其中不均匀区域优选地由它们所嵌入的玻璃的玻璃成分的相分离和/或偏析来限定。由不均匀区域限定的散射中心的直径优选为10nm到1000nm，最优选为100nm到800nm。这些散射中心最优选是球形的。对于非球形散射中心，直径是指其最大尺寸。此处称为白色玻璃的玻璃(不均匀的区域作为散射中心嵌入其中)可优选地由含有as和pb的硅酸盐玻璃组成。在此情况下，散射中心优选地具有比周围玻璃母体更高的pb和/或as含量。或者，其中嵌入不均匀区域作为散射中心的玻璃或白色玻璃可以由含氟的ca-zn硅酸盐玻璃组成。在此情况下，与周围的玻璃母体相比，散射中心优选地具有增大的氟含量。图4b示出了一种替代布置，在其中散射元件43.6母体的直径具有与以各个棒的形式的母体元件43.5的直径相同或较小的尺寸。此处，在拉制过程之前，在对应的已组装预制件中，对于例如呈白色玻璃棒形式的散射元件43.6和母体元件43.5，一般直径在0.5mm到1mm的范围内。在热拉制过程之后，也就是说在拉制到漫射体基体43的直径43.1之后，散射元件43.6将已经通过熔接而结合并且具有六边形横截面，例如特别是双曲线六边形横截面。散射棒在预制件的空隙中的布置允许获得更多数量的散射体，因此对于给定的光纤棒尺寸和给定的横截面部分可以获得更好的均匀性。在拉制过程之后，呈漫射体基体43形式的母体元件43.5和散射元件43.6可以具有圆形、六边形、正方形或三角形的横截面，特别是在其双曲线变体中。如图5a和5b中所示，为了使强度分布均匀，可以预期将反射表面47形成为凹形(图5a)或凸形(图5b)。以此类方式可以实现的是，几乎平行于纵向轴线43.2传播的射线将相对于纵向轴线43.2以更陡峭的角度反射回来，并且因此在散射元件43.6处被更频繁地散射，以使得发射效率在漫射体元件40的远端处增大。漫射体基体43的远端处的反射体表面47也可以是中空和/或透明体47.1的形式，其具有反射到腔体和/或透明体中的罩盖47.2，如图5c中示意性地示出。罩盖47.2可以优选地以具有定向反射或漫反射性的涂层和/或帽盖的形式，该涂层和/或帽盖也可以直接邻接漫射体基体43而非腔体，并且在两种情况下都可以在远端处在短距离上至少部分地或在其圆周上的若干区段上径向地将其围封。因此，反射体表面47以凹形或凸形反射体表面47和/或直接邻接漫射体基体43或在反射体表面47与漫射体基体43的远端之间限定腔体(作为主体47.1)的反射体表面47和/或呈在一端上封闭的中空体形式的罩盖47.2的形式。为了考虑到沿着漫射体的尽可能恒定的强度分布而实现进一步的均匀化，可以采用进一步的处理步骤，如图6a到6c中示意性地示出。举例来说，取决于所使用的材料和散射元件43.6以及围绕它们的母体43.4的材料特性，例如在漫射体的长度上具有变化的温度负荷的梯度热处理可以实现连续变化的散射效果。这允许例如在耦合表面46的下游直接调整初始时相当低的散射效果和在漫射体基体43的另一端处(也就是说，在反射体表面47附近)的相当高的散射效果。图6a示意性地说明此选项。这允许获得包含具有散射中心的散射元件的漫射体基体，散射中心具有每单位体积的散射中心密度，散射中心密度在漫射体基体的近端处和远端处不同，优选地散射中心密度在远端处比在近端处大；最优选地是散射中心密度具有梯度。图6b示出了一种“级联”方法，在其中通过粘接或使用折射率匹配的粘合剂的胶合，已逐个部分地组装各自以母体43.4中的散射元件43.6的不同布置和/或密度为特征的以不同方式制造的漫射体部分，以形成漫射体基体，以使得将发生光注入41的第一漫射体部分的散射效果设计为最低。通过适当地选择该部分，散射效果接着在漫射体基体43中在光传播方向上的个别漫射体部分中增强。以此方式，可以一贯地将在操作状态下发射的光的均匀性在轴向和径向两者上都维持在阶梯式发射强度的公差带内。因此，漫射体基体43可以由不同漫射体基体的多个部分形成。图6c示出了沿着漫射体获得尽可能恒定的强度分布的另一可能性。从预制件拉制的漫射体棒通过改变拉制参数(例如速率、温度和/或力)而形成为在若干区段中渐缩，接着在端部进行切割和处理。以此方式，获得了锥形渐缩的漫射体基体43，该漫射体基体43由于锥度导致光线的角度扩展，使得光传播更大的距离，并且因此在漫射体基体43的纵向方向上产生更强的散射。在此情况下，散射元件仍均匀地布置，理想地朝着共同的消失点延伸。因此，漫射体基体43可以形成为至少部分地或在其若干区段上呈圆锥形，其中至少一个散射元件43.6沿着漫射体基体43的纵向轴线43.2相对于纵向轴线基本以一定角度延伸。通常必然预料到的从漫射体基体43的近端到远端的强度的指数衰减可以通过以上实例和/或组合来至少部分地得以补偿。此外，如上文已提及，可以设想并且可以有利地实施进一步的后续过程，这些过程准许通过构造体积和/或其表面来校正或调整漫射体基体43和/或漫射体元件40的侧向发射的强度分布。图7示出了在操作状态下侧向发射的辐射强度101的不同示意性分布103、104、105的分布图100，其随着距耦合表面的距离102而变。第一曲线103示出了强度101的典型的指数衰减(例如由于散射行为的微分方程的解而导致)，该散射行为在长度上是均匀的，即在一定长度区段上所注入辐射与所散射辐射具有恒定的比率。通过将反射体表面47附接在漫射体基体43的远端上(参见图2)，辐射的一部分可以被反射回，并且接着对散射(特别是在反射体表面47前面的区域中)提供额外的贡献。用数学术语来说，这意味着两个指数函数的相加，其对应于第二曲线104，也在图8中说明。图8中示出的第三曲线105表示用于漫射体基体43的另一优化实施例的强度分布。通过在几何上布置散射元件43.6(例如特别结合图3d所描述的那样)，可将在耦合表面46附近、即在漫射体基体43的近端处的强度101的分布调整为平坦的，或者甚至最初在强度公差106的范围内上升或上升到该范围内，以使得总体上可以基本上在漫射体元件40的有效长度40.2上实现相对较小的强度变化或在强度公差106的范围内的入射光的侧向发射的良好均匀性。然而，强度峰值107可能特别是在耦合表面46处或附近出现，并且也可能在反射体表面47处或附近出现，其可以例如通过例如套筒48或帽盖或罩盖47.2等构造措施被屏蔽或最小化，如已经结合并且参考图2和5c所描述。图8是另一分布图100，其示出了在操作状态下侧向发射的辐射的强度101的四个测得的分布，其随距耦合表面的距离102而变。在每种情况下，使用纤芯直径31.1约为360μm的光波导30对直径约为600μm的漫射体基体43进行注入。此处，确定强度101，并且将其绘制为例如ccd相机的灰度值强度。具体地说，使用具有685nm波长的单色光用于图8中的测量。使用尼康1v1相机用作该相机，并且在每种情况下，此相机仅输出红色通道。如图12所示，沿着平行于漫射体基体43的纵向轴线43.2延伸的直线109在光出射的位置处进行测量，特别是在散射光的位置处。在此测量中，成像光学系统在此直线109的方向上实现了每cm400像素的测量所得的局部分辨率。将焦距为30mm的物镜用于在每种情况下以5.6的光圈操作的成像光学系统。在物理术语上，本文所公开的和权利要求书中指定的强度或强度分布对应于明度，也称为亮度，只要使用捕获固定立体角的光学系统进行测量即可，该光学系统是使用5.6的光圈在30mm的固定焦距下实施。图8所示的分布是用于此测量的沿着直线109的明度分布的结果。然而，由于出于本公开的目的而指定照射系统的平均侧向发射强度与相对于此平均侧向发射强度的百分比偏差之间的相对值，因此如果沿着测量的直线109测量一个点的强度、明度或亮度，则对于此指定值获得相同的百分比偏差。平均侧向发射强度是基于沿着直线109的所有测量值的平均值。然而，位于所测区段的开始和结束处并且观察到强度急剧下降的测量点不包含在此平均值的确定中。具体地说，对于沿着直线109的长度大致为40mm的测量区段，来自第一和最后2mm的值不包括在平均中。基于此类偏差的移动平均的说法是，照射系统在其操作状态下表现出的侧向发射强度分布偏差最多为±50％，优选地不超过±30％，并且最优选地不超过±5％，如将在下文更详细地描述。此处，移动平均是指对直线109上彼此相邻的十个测量像素进行的平均。由于此平均是算术平均，因此可以针对每个像素来平均十个相邻像素，并且可以针对下一个侧向相邻的测量像素将这十个像素侧向移位一个像素，以再次进行算术平均。在所说明的实例中，漫射体基体43具有大致40mm的长度。在根据图3d的布置中，在漫射体基体43中布置有21个散射元件43.6，并且在预制件中，这些散射元件43.6被提供为0.3mm厚的白色玻璃棒，而母体43.5被提供为2mm厚的光纤棒，这类似于图4a中所示的布置。为了清楚起见，将曲线示出为移动平均，并且在曲线103的情况下，作为实例覆盖原始数据。曲线103示出了对于根据图3a和图9的散射元件的布置，在没有反射体表面47的情况下的强度分布。曲线104示出了根据图3a和图9的漫射体基体的强度分布，其中具有以胶合反射膜形式的反射体表面47。在忽略了急剧上升的初始区段和下降的末端区段并且因此忽略了任何任选存在的强度峰值时，无需进行任何额外测量即可得出小于平均值的±20％的强度变化。曲线108示出了根据图3a和图9的漫射体基体的强度分布，其中具有以漫反射白色涂层形式的反射体表面47。在忽略了急剧上升的初始区段和下降的末端区段并且因此忽略了任何任选存在的强度峰值时，无需进行任何其它测量即可得出小于平均值的±10％的强度变化。曲线105示出了根据图3a和图10的漫射体基体的强度分布，其中具有以漫反射白色涂层形式的反射体表面47。此外，根据图3d的布置的效果显而易见。图11示意性地示出了穿过漫射体基体43的横截面，在其中漫射体基体43相对于其横截面区域具有母体43.4，该母体43.4具有在母体的纤芯区43.7与外围区(散射元件43.6嵌入其中)之间不同的折射率n1和n1'。这允许选择性地影响在具有母体折射率n1的纤芯区43.7中的和在具有折射率n1'的母体的外围区中的数值孔径na，并且因此选择性地使光在漫射体基体43中的传播以及因此散射中心43.6沿着漫射体基体43的长度的激发适于所需的发射特性。此外，折射率为n1的纤芯区43.7的任何所需横截面几何形状可以在制造过程期间实现，也就是说，如图11所示的基本圆形形状或者多边形或星形形状。举例来说，在纤芯区43.7中可以使用由折射率为n1＝1.625的玻璃棒形成的母体元件43.5，而在外围区中可以使用由折射率为n1'＝1.588的玻璃棒形成的母体元件43.5，以用于在纤芯区43.5与外围区中实施不同的数值孔径，并且在此实例中，包覆管43.3的折射率n2等于1.49。在所述实例中，纤芯区43.7的na为0.35，并且外围区域的na为0.55。这允许有针对性地影响光的传播，并且因此影响散射中心43.6的激发。通常，至少一个散射元件43.6优选地基本上平行于漫射体基体43的纵向轴线43.2对齐，至少在其以白色玻璃棒或白色玻璃管的形式的情况下是如此。这意味着，如图12中所示，例如，白色玻璃棒43.9的纵向轴线43.8与漫射体基体43的纵向轴线43.2围成小于1°的角度43.10。如果至少一个散射元件43.6沿着漫射体基体43的纵向轴线43.2布置成与漫射体基体43的纵向轴线成角度43.10(至少在其为白色玻璃棒或白色玻璃管形式时)，则这意味着白色玻璃棒43.9的纵向轴线43.8(如例如图12所示)与漫射体基体43的纵向轴线43.2围成小于10°的角度43.10。如果白色玻璃管限定散射元件43.6，则相同情况也适用于白色玻璃管的纵向轴线(图中未示出)。本发明的照射系统的优点在于，一方面可以具成本效益地且可再现地生产具有漫射体基体43的漫射体元件40，另一方面可以使在操作状态下侧向发射的发射强度的发射特性均匀化。在操作状态下，照射系统具有的侧向发射的强度分布与平均侧向发射强度的偏差可以不超过±50％、优选地不超过±30％，并且最优选地不超过±5％。这尤其允许解决pdt领域中的应用。然而，这些漫射体元件40也可用于具有更高激光功率的应用，例如evlt。附图标记列表1照射系统10激光光源20连接器30光波导31纤芯31.1纤芯直径或纤维束直径32包层40漫射体元件40.1直径40.2有效长度41光注入42光发射43漫射体基体43.1直径43.2纵向轴线43.3包覆管43.4母体43.5母体元件43.6散射元件43.7纤芯区43.8散射元件的纵向轴线，特别是白色玻璃棒的纵向轴线43.9白色玻璃棒43.10角度44接合区45中间介质46耦合表面47反射体表面47.1主体47.2反射罩盖48套筒49护套50组织60肿瘤组织100分布图101强度102距耦合表面的距离103第1曲线104第2曲线105第3曲线106强度公差107强度峰值108第4曲线109直线当前第1页12