一种显示基板及其制作方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，手机、电脑等显示装置具有越来越广泛的应用。通常，显示装置的显示屏具有较大的视角，位于不同视角的用户均可以获知其显示的信息。然而，在一些场景下用户希望显示装置所显示的信息不被周围的其他用户获知，因此，显示装置的防窥性能受到越来越广泛的关注。

相关技术中，防窥显示装置通常采用在显示屏外增加防窥膜的方式，过滤大视角的光线，仅保留垂直于显示屏的光线，使得大视角位置的用户无法接收到显示屏所显示的画面。采用上述方式进行显示屏防窥，防窥膜制备复杂，存在防窥膜在显示屏内部的集成度不高的问题。

技术实现要素：

针对上述现有技术中所存在的问题，本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，以提高防窥膜在显示屏内部的集成度。

为了实现上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，本发明的实施例提供一种显示基板，包括衬底基板，所述显示基板还包括设置于所述衬底基板一侧的滤光层，所述滤光层内设置有多个阻光槽，每个所述阻光槽中设置有阻光条，所述阻光条用于阻挡所述显示基板的可视范围之外的光线。

本发明提供的实施例采用在滤光层内设置多个阻光槽的方式，通过阻光槽内的阻光条对视线的阻挡，将用户的可视角度限制在一定范围内，实现防窥显示。同时，本发明实施例将光阻槽设置在滤光层中，提高了防窥功能层在显示屏内部的集成度。

可选的，所述阻光槽的深度与所述滤光层的厚度相等，且所述阻光槽的侧壁垂直于所述衬底基板所在的平面。

可选的，所述多个阻光槽中所设置的多个所述阻光条包括第一类阻光条和/或第二类阻光条；所述第一类阻光条沿第一方向排列，所述第二类阻光条沿第二方向排列，所述第一方向和所述第二方向在所述滤光层的平面内垂直。

可选的，所述显示基板包括阵列式排布的多个子像素，每个所述子像素对应的区域内穿过有多个所述阻光条。

可选的，所述滤光层包括多个彩色滤光部，所述多个彩色滤光部的颜色至少包括两种；或者，所述滤光层为透明的滤光层，所述显示基板还包括设置于所述衬底基板朝向所述滤光层的一侧或者所述滤光层背向所述衬底基板一侧的亚波长光栅层；所述亚波长光栅层包括多个光栅单元，所述多个光栅单元的图形至少包括两种，每个所述光栅单元用于选择性通过一种颜色波段的光，且不同种图形的光栅单元允许通过的波段的光的颜色不同。

可选的，所述滤光层为透明的滤光层，所述显示基板还包括设置于所述衬底基板朝向所述滤光层的一侧的亚波长光栅层；所述亚波长光栅层中的每个所述光栅单元包括多条第一栅条，所述多条第一栅条间隔设置于所述衬底基板朝向所述滤光层的一侧。

可选的，所述滤光层为透明的滤光层，所述显示基板还包括设置于所述滤光层背向所述衬底基板的一侧的亚波长光栅层；所述亚波长光栅层中的每个所述光栅单元包括多条第二栅条，所述多条第二栅条间隔设置于所述滤光层背向所述衬底基板的一侧；或者，所述滤光层的背向所述衬底基板的表面上对应每个所述光栅单元的区域内间隔设置有多道栅条槽，每个所述光栅单元包括多条第三栅条，所述多条第三栅条一一对应地位于所述多道栅条槽内；或者，所述滤光层的背向所述衬底基板的表面上对应每个所述光栅单元的区域内间隔设置有多道栅条槽，每个所述光栅单元包括多条第四栅条和多条第五栅条，所述多条第四栅条一一对应地位于所述多道栅条槽内，所述多条第五栅条一一对应地位于所述多道栅条槽中每相邻两道栅条槽之间的滤光层的表面上。

可选的，所述滤光层的材料包括负性光刻胶，所述阻光条的材料包括正性光刻胶；或者，所述滤光层的材料包括正性光刻胶，所述阻光条的材料包括负性光刻胶。

可选的，所述显示基板包括彩膜基板。

可选的，所述显示基板还包括薄膜晶体管阵列，所述滤光层设置于所述薄膜晶体管阵列背向所述衬底基板的一侧。

本发明的实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面任一项所述的显示基板。

本发明实施例所提供的显示装置所能实现的有益效果，与第一方面所提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

本发明的实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括：提供衬底基板，在衬底基板的一侧形成滤光层；对所述滤光层进行第一次构图工艺，在所述滤光层中形成多个阻光槽；在所述滤光层上覆盖阻光材料，使部分阻光材料填充入所述多个阻光槽；去除所述滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料，形成多个阻光条。

本发明实施例所提供的显示基板的制备方法所能实现的有益效果，与第一方面所提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

可选的，所述滤光层包括多个彩色滤光部，所述多个彩色滤光部的颜色至少包括两种；所述去除所述滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料包括采用第二次构图工艺去除阻光材料，所述第二次构图工艺与所述第一次构图工艺所使用的掩膜板图案相同；所述滤光层的材料包括正性光刻胶，所述阻光材料包括负性光刻胶，两次构图时所述掩膜板的透光区域对应阻光槽区域；或者，所述滤光层的材料包括负性光刻胶，所述阻光材料包括正性光刻胶，两次构图时所述掩膜板的遮光区域对应阻光槽区域。

可选的，所述滤光层为透明的滤光层；所述显示基板的制备方法还包括制作亚波长光栅层，所述亚波长光栅层包括多个光栅单元，所述多个光栅单元的图形至少包括两种，每个所述光栅单元用于选择性通过一种颜色波段的光，且不同种图形的光栅单元允许通过的波段的光的颜色不同。

可选的，所述制作亚波长光栅层包括：所述在衬底基板的一侧形成滤光层之前，在所述衬底基板的一侧覆盖亚波长光栅材料；对所述亚波长光栅材料进行构图，形成间隔设置的多条第一栅条，每个所述光栅单元包括多条所述第一栅条。

可选的，所述制作亚波长光栅层包括：所述去除所述滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料之后，在所述滤光层背向所述衬底基板的表面上覆盖亚波长光栅材料；对所述亚波长光栅材料进行构图，形成间隔设置的多条第二栅条，每个所述光栅单元包括多条所述第二栅条。

可选的，所述制作亚波长光栅层包括：在对所述滤光层进行第一次构图工艺形成多个阻光槽的同时，在每相邻两个阻光槽区域之间的滤光层表面对应每个待形成光栅单元的区域内形成间隔设置的多道栅条槽；在所述滤光层上覆盖阻光材料的同时，部分阻光材料填充入所述多道栅条槽；在去除所述滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料时，包括去除所述多道栅条槽中所填充的阻光材料；在去除阻光材料后的滤光层上覆盖亚波长光栅材料，形成包括多个光栅单元的图形的亚波长光栅层。

可选的，所述在去除阻光材料后的滤光层上覆盖亚波长光栅材料，包括：采用气相沉积工艺在去除阻光材料后的滤光层上沉积亚波长光栅材料，部分亚波长光栅材料填充入所述多道栅条槽中形成间隔设置的多条第三栅条，每个所述光栅单元包括多条所述第三栅条；或者，采用气相沉积工艺在去除阻光材料后的滤光层上沉积亚波长光栅材料，部分亚波长光栅材料填充入所述多道栅条槽中形成间隔设置的多条第四栅条，部分亚波长光栅材料沉积在每相邻两道栅条槽之间的滤光层的表面上形成间隔设置的多条第五栅条，每个所述光栅单元包括多条所述第四栅条和多条所述第五栅条。

可选的，所述去除所述滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料中，采用灰化工艺。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例中显示基板的一种结构示意图；

图2为本发明实施例中显示基板的设置有阻光条的滤光层的一种结构示意图；

图3为本发明实施例中显示基板的又一种结构示意图；

图4为本发明实施例中显示基板的设置有阻光条的滤光层以及亚波长光栅层的一种结构示意图；

图5为本发明实施例中显示基板的设置有阻光条的滤光层以及亚波长光栅层的又一种结构示意图；

图6为本发明实施例中显示基板的设置有阻光条的滤光层以及亚波长光栅层的又一种结构示意图；

图7为本发明实施例中显示基板的设置有阻光条的滤光层以及亚波长光栅层的又一种结构示意图；

图8为本发明实施例中显示基板的阻光条的一种排列示意图；

图9为本发明实施例中显示基板的阻光条的又一种排列示意图；

图10为本发明实施例中显示基板的阻光条的又一种排列示意图；

图11为本发明实施例中显示基板的又一种结构示意图；

图12为本发明实施例中显示基板的制作方法的一种示意图；

图13为本发明实施例中显示基板的制作方法的去除滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料的过程中阻光材料残留区示意图；

图14为本发明实施例中显示基板的制作方法的又一种示意图。

附图标记：

1-衬底基板，2-滤光层，

21-阻光槽，22-栅条槽，

23-彩色滤光部，3-阻光条，

31-第一类阻光条，32-第二类阻光条，

4-亚波长光栅层，41-光栅单元，

411-第一栅条，412-第二栅条，

413-第三栅条，414-第四栅条，

415-第五栅条，5-薄膜晶体管，

6-像素电极，7-液晶层，

8-公共电极，9-掩膜板。

具体实施方式

下面将结合本发明申请实施例中的附图，对本发明申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明申请保护的范围。

请参阅图1和图2，本发明的实施例提供一种显示基板，包括衬底基板1，显示基板还包括设置于衬底基板1一侧的滤光层2，滤光层2内设置有多个阻光槽21，每个阻光槽21中设置有阻光条3，阻光条3用于阻挡显示基板的可视范围之外的光线。

需要说明的是，本发明实施例中所述的衬底基板1，是指在形成滤光层2时作为基底层的基板，例如图1中所示的显示基板，其包括彩膜基板(colorfilter，彩色滤光片)、薄膜晶体管5阵列基板(thinfilmtransistorarraysubstrate，tftarraysubstrate)以及设置于两基板间的液晶层7(liquidcrystallayer)，液晶层7的两侧还设置有公共电极8和像素电极6，其中，像素电极6通过过孔与薄膜晶体管5连接。对于图1中所示的显示基板，由于滤光层2是制作在彩膜基板(cf基板)中的，显示在结构图中，其衬底基板1即位于图1中滤光层2的上方。为了便于说明，将图1顺时针旋转180°，并仅放大其中的一部分衬底基板1和滤光层2，形成图2，以更好地对本发明进行说明。

本发明实施例中的可视范围如图2所示，在滤光层2中设置了阻光条3的条件下，用户的最大可视范围如图2中的角度α所示。所述可视范围可以根据使用环境或用户需求预先设定，进而通过设置阻光条3将可视角度限制在可视范围内。

本发明提供的实施例采用在滤光层2内设置多个阻光槽21的方式，通过阻光槽21内的阻光条3对视线的阻挡，将用户的可视角度限制在一定范围内，实现防窥显示。同时，本发明实施例将光阻槽设置在滤光层2中即可实现防窥的功能，而无需在显示屏外增加防窥膜，提高了防窥功能层在显示屏内部的集成度。

本发明实施例中的阻光槽21以及阻光槽21中的阻光条3的形状可以为任意形状，例如可以为如图2所示的矩形，也可以为梯形、s形或者与显示基板呈一定角度的条形等形状，本发明对阻光槽21以及阻光槽21中的阻光条3的形状不做限定，只要阻光槽21具有的深度(在垂直于衬底基板1平面的方向上的深度或高度)，以及各阻光槽21之间具有的间距能够满足可视范围的需求即可。阻光槽21的深度越浅、各阻光槽21之间的间距越大，用户的可视范围就越大。示例性地，阻光槽21的深度可以与滤光层2的厚度相等，且阻光槽21的侧壁垂直于衬底基板1所在的平面。

本发明实施例中的滤光层2可以为彩色的。如图1所示，在一些实施例中，滤光层2包括多个彩色滤光部23，多个彩色滤光部23的颜色至少包括两种，例如彩色滤光部23的颜色可以为r(红色)、g(绿色)、b(蓝色)、y(黄色)等颜色中的至少两种。

本发明实施例的显示基板可以包括阵列式排布的多个子像素；每个彩色滤光部23对应至少一个子像素，对应同一个彩色滤光部23的各子像素可以显示同一种颜色。

如图3所示，本发明实施例中的滤光层2也可以为透明的滤光层2。显示基板还包括设置于衬底基板1朝向滤光层2的一侧(如图4所示)或者滤光层2背向衬底基板1一侧(如图5、图6或图7所示)的亚波长光栅层4，亚波长光栅层4包括多个光栅单元41，多个光栅单元41的图形至少包括两种，每个光栅单元41用于选择性通过一种颜色波段的光，且不同种图形的光栅单元41允许通过的波段的光的颜色不同。

本发明实施例的显示基板可以包括阵列式排布的多个子像素；每个光栅单元41对应至少一个子像素，对应同一个光栅单元41的各子像素可以显示同一种颜色。

亚波长光栅是一种光栅周期接近光波长的光栅，其具有特殊的偏振特性，即垂直于亚波长光栅栅条方向振动的光在亚波长光栅的透过率远大于平行于亚波长光栅栅条方向振动的光。因此，亚波长光栅层4可以代替显示基板中的偏振片。

亚波长光栅还具有窄带滤波特性，即一种图形的亚波长光栅能够选择性透过一种颜色波段的光，因此，设置不同图形的亚波长光栅可以代替显示基板中的不同颜色的彩膜(彩色滤光部23)，使显示基板的结构更加简单。例如，亚波长光栅可以作为红色彩膜，其上的图形可以允许红色波长范围的光通过，同时，其他颜色波长范围的光的透过率极低，以实现红色显示。

本发明实施例的亚波长光栅层4，可以为亚波长介质光栅，例如介质为石英(sio2)的亚波长介质光栅；本发明实施例的亚波长光栅层4，也可以为亚波长金属光栅，例如材料包含铝、铬、银、金或铜的亚波长金属光栅。

在一些实施例中，滤光层2为透明的滤光层2，显示基板还包括亚波长光栅层4，亚波长光栅层4包括多个光栅单元41。其中，光栅单元41的设置位置和设置方式也可以有多种形式。

例如，如图4所示，亚波长光栅层4可以设置于衬底基板1朝向滤光层2的一侧，每个光栅单元41包括多条第一栅条411，多条第一栅条411间隔设置于衬底基板1朝向滤光层2的一侧。

又例如，如图5、图6或图7所示，亚波长光栅层4还可以设置于滤光层2背向衬底基板的一侧。

如图5所示，每个光栅单元41包括多条第二栅条412，多条第二栅条412间隔设置于滤光层2背向衬底基板1的一侧。

如图6所示，滤光层2的背向衬底基板1的表面上对应每个光栅单元41的区域内间隔设置有多道栅条槽22，每个光栅单元41包括多条第三栅条413，多条第三栅条413一一对应地位于多道栅条槽22内。

如图7所示，滤光层2的背向衬底基板1的表面上对应每个光栅单元41的区域内间隔设置有多道栅条槽22，每个光栅单元41包括多条第四栅条414和多条第五栅条415，多条第四栅条414一一对应地位于多道栅条槽22内，多条第五栅条415一一对应地位于多道栅条槽22中每相邻两道栅条槽22之间的滤光层2的表面上。

上述各种结构的光栅单元41均具有窄带滤波特性和偏振特性，可以代替显示基板中的彩膜和偏振片，使显示基板的结构更加简单。

在一些实施例中，滤光层2的材料包括负性光刻胶，阻光条3的材料包括正性光刻胶；或者，滤光层2的材料包括正性光刻胶，阻光条3的材料包括负性光刻胶。在上述情况下，对滤光层2进行构图时使用的掩膜板与对阻光条3所在的阻光材料层进行构图时所使用的掩膜板，为同一道掩膜板或者为图形相同的掩膜板，在制作显示基板的过程中，可以减少掩膜板的使用数量，也可以减少制作不同图形的掩膜板的工序，使制作显示面板的过程更加简洁高效。

阻光条3在显示基板平面上的排布方式也可以有多种。在一些实施例中，多个阻光槽21中所设置的多个阻光条3包括第一类阻光条31和/或第二类阻光条32；第一类阻光条31沿第一方向排列，第二类阻光条32沿第二方向排列，第一方向和第二方向在滤光层的平面内垂直。

示例性地，显示基板包括阵列式排布的多个子像素，第一方向可以为多个子像素排列的行方向，第二方向可以为多个子像素排列的列方向。如图8所示，多个阻光槽21中所设置的多个阻光条3可以为第一类阻光条31，第一类阻光条31可以沿多个子像素排列的列方向延伸，并在多个子像素排列的行方向上间隔排列，从而对来自于图8中显示基板左右方向的一定角度的视线进行防窥。

或者，如图9所示，多个阻光槽21中所设置的多个阻光条3可以为第二类阻光条32，第二类阻光条32沿多个子像素排列的行方向延伸，并在多个子像素排列的列方向上间隔排列，从而对来自于图9中显示基板上下方向的一定角度的视线进行防窥。

或者，如图10所示，多个阻光槽21中所设置的多个阻光条3包括沿多个子像素排列的列方向延伸的多个第一类阻光条31，及沿多个子像素排列的行方向延伸的多个第二类阻光条32，多个第一类阻光条31在多个子像素排列的行方向上间隔排列，多个第二类阻光条32在多个子像素排列的列方向上间隔排列，从而对来自于图10中显示基板左右方向和上下方向的一定角度的视线同时进行防窥，以达到全方位的防窥效果。

在一些实施例中，显示基板包括阵列式排布的多个子像素，每个子像素对应的区域内穿过有多个阻光条3。也就是说，如图1和图3所示，每个子像素(例如图1中的r子像素、g子像素或者b子像素)可以对应穿过有多个阻光条3。在其它条件相同的情况下，子像素内设置的阻光条3数量越多、各阻光条3之间的间距越小，用户的可视范围越小，防窥效果越好。

在一些实施例中，显示基板包括彩膜基板。

在一些实施例中，显示基板还包括薄膜晶体管阵列，滤光层2设置于薄膜晶体管阵列背向衬底基板1的一侧。

也就是说，本发明实施例中的滤光层2，可以设置在如图1或图3所示的彩膜(colorfilter，cf)基板上，也可以设置在如图11所示的coa(colorfilteronarray)基板上。其中，coa技术是将彩色层制备在薄膜晶体管阵列基板上的技术，以形成彩色滤光的膜层。

由于本发明中所定义的衬底基板1，是指在形成滤光层2时作为基底层的基板，因此，对于彩膜基板而言，其制作滤光层2时，在衬底基板1上形成了滤光层2；薄膜晶体管阵列所在的薄膜晶体管基板，通过对盒或者对位，与彩膜基板连接，形成显示基板。对于coa基板而言，其制作滤光层2时，先在衬底基板1上形成了薄膜晶体管阵列，然后在薄膜晶体管阵列上形成了滤光层2，因此，如图11所示，coa基板的滤光层2是设置于薄膜晶体管阵列背向衬底基板1的一侧的。

本发明的实施例还提供了一种显示装置，包括本发明任一实施例所述的显示基板。

需要说明的是，本实施例所述的显示装置可以为液晶显示装置、oled显示装置、micro-led显示装置等任何需要防窥的显示装置类型中。

另外，本实施例中的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明实施例所提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述所提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同或相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

如图12所示，本发明的实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括：

提供衬底基板1，在衬底基板1的一侧形成滤光层2；

对滤光层2进行第一次构图工艺，在滤光层2中形成多个阻光槽21；

在滤光层2上覆盖阻光材料，使部分阻光材料填充入多个阻光槽21；

去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料，形成多个阻光条3。

本发明实施例所提供的显示基板的制备方法所能实现的有益效果，与上述所提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在一些实施例中，滤光层2包括多个彩色滤光部23，多个彩色滤光部23的颜色至少包括两种；去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料中，采用第二次构图工艺去除阻光材料，第二次构图工艺与第一次构图工艺所使用的掩膜板图案相同；滤光层2的材料包括正性光刻胶，阻光材料包括负性光刻胶，两次构图时掩膜板9的透光区域对应阻光槽21区域；或者，滤光层2的材料包括负性光刻胶，阻光材料包括正性光刻胶，两次构图时掩膜板的遮光区域对应阻光槽21区域。

光刻胶又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。正性光刻胶(positivephotoresist)曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩膜板遮光区域相同的图形。负性光刻胶(negativephotoresist)曝光前对显影液可溶，而曝光后变成了不可溶的，能得到与掩膜板透光区域相同的图形。

对第二次构图工艺与对第一次构图工艺所使用的掩膜板图案相同，即两次构图工艺可以使用图案相同的掩膜板，也可以使用同一道掩膜板，在制作显示基板的过程中，减少了制作不同图形的掩膜板的工序，还可以一板多用，减少了掩膜板的使用数量，使制作显示面板的过程更加简洁高效。

在使用图案相同的掩膜板进行第一次构图工艺和第二次构图工艺时，在去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料的过程中，阻光槽21所覆盖的区域的上方，可能会存在阻光材料残留区，如图13中的区域a所示。对于区域a中的光阻材料，可以采用灰化工艺去除该部分的光阻材料。

在制作设置有亚波长光栅层4的显示基板的过程中，会用到同时具有阻光槽21对应的图形和亚波长光栅对应的图形的掩膜板。设计制作该种掩膜板时，可以采用gsolver、lumericalfdtdsolutions、virtuallab等模拟软件，通过对亚波长光栅的形状、周期、占空比、厚度等参数进行模拟，以得到所需颜色(例如红色)透过率最大的亚波长光栅参数，从而得到设计该亚波长光栅对应的掩膜板上的图形时所需要的参数。

在一些实施例中，滤光层2为透明的滤光层2；显示基板的制备方法还包括制作亚波长光栅层4。亚波长光栅层4包括多个光栅单元41，多个光栅单元41的图形至少包括两种，每个光栅单元41用于选择性通过一种颜色波段的光，且不同种图形的光栅单元41允许通过的波段的光的颜色不同。

制作亚波长光栅层4可以在在衬底基板的一侧形成滤光层2之前，以制备出如图4所示的亚波长光栅层4。

制作亚波长光栅层4时，在一些实施例中，制作亚波长光栅层4包括：在衬底基板1的一侧覆盖亚波长光栅材料；对亚波长光栅材料进行构图，形成间隔设置的多条第一栅条411，每个光栅单元41包括多条第一栅条411。制作完成的亚波长光栅层4如图4所示。

例如，在滤光层2中形成阻光条3之后，可以对区域a进行灰化处理，使滤光层的表面变得平整，然后在滤光层2背向衬底基板1的表面上采用亚波长光栅材料进行镀膜，之后对亚波长光栅材料层进行显影、刻蚀等工艺操作，形成亚波长光栅层4。制作完成的亚波长光栅层4如图4所示。

如图14所示，制作亚波长光栅层4也可以在去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料之后，以制备出如图5、图6或图7所示的亚波长光栅层4。

例如，制作亚波长光栅层4的步骤包括：去除滤光层2中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料之后，在滤光层2背向衬底基板1的表面上覆盖亚波长光栅材料；对亚波长光栅材料进行构图，形成间隔设置的多条第二栅条412，每个光栅单元41包括多条第二栅条412。制作完成的亚波长光栅层4如图5所示。

又例如，制作亚波长光栅层4包括：在对滤光层2进行第一次构图工艺形成多个阻光槽21的同时，在每相邻两个阻光槽21区域之间的滤光层2表面对应每个待形成光栅单元41的区域内形成间隔设置的多道栅条槽22；在滤光层2上覆盖阻光材料的同时，部分阻光材料填充入多道栅条槽22；在去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料的步骤中，包括去除多道栅条槽22中所填充的阻光材料；在去除阻光材料后的滤光层2上覆盖亚波长光栅材料，形成包括多个光栅单元41的图形的亚波长光栅层4。

在一些实施例中，在去除阻光材料后的滤光层2上覆盖亚波长光栅材料，包括：采用气相沉积工艺在去除阻光材料后的滤光层2上沉积亚波长光栅材料，部分亚波长光栅材料填充入多道栅条槽22中形成间隔设置的多条第三栅条413，每个光栅单元41包括多条第三栅条413。

所述气相沉积工艺可以为cvd(chemicalvapordeposition，化学气相沉积)、pvd(physicalvapordeposition，物理气相沉积)或者pcvd(plasmachemicalvapordeposition，等离子体气相沉积)。例如，对于亚波长介质光栅层的沉积可以采用化学气相沉积中的pecvd(plasmaenhancedchemicalvapordepositition，等离子体增强化学气相沉积)工艺进行沉积，亚波长金属光栅层可以采用物理气相沉积中的溅射(sputter)工艺进行沉积。

示例性的，如图6所示，可以采用气相沉积工艺在去除阻光材料后的滤光层2上沉积亚波长光栅材料，部分亚波长光栅材料填充入多道栅条槽22中形成间隔设置的多条第三栅条413。另有部分亚波长光栅材料会沉积在栅条槽22所覆盖的区域之外，对于这部分亚波长光栅材料，可以采用曝光、显影、刻蚀等工艺进行去除，以得到如图6所示的完成的亚波长光栅层4。

或者，在一些实施例中，在去除阻光材料后的滤光层2上覆盖亚波长光栅材料中也可以包括：采用气相沉积工艺在去除阻光材料后的滤光层2上沉积亚波长光栅材料，在气相沉积设备正常运行的情况下，气相沉积膜层的厚度是等厚的，部分亚波长光栅材料填充入多道栅条槽22中形成间隔设置的多条第四栅条414，部分亚波长光栅材料沉积在每相邻两道栅条槽22之间的滤光层2的表面上形成间隔设置的多条第五栅条415，每个光栅单元41包括多条第四栅条414和多条第五栅条415。制作完成的亚波长光栅层4如图7所示。另外，在采用气相沉积工艺形成第四栅条414和第五栅条415的过程中，沉积的厚度可以大于或等于栅条槽22的深度。

在一些实施例中，去除滤光层2中非阻光槽21区域上所覆盖的阻光材料中，可以采用灰化工艺。例如对于区域a，可以采用灰化工艺去除，又例如，对于栅条槽22中的阻光材料，也可以采用灰化工艺去除。

在本发明所提供的几个实施例中，应该理解到，各个实施例中的实现各功能的方法流程可以集成在一起形成一个独立的部分，也可以是各个方法流程单独存在，也可以两个或两个以上方法流程集成形成一个独立的部分。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。